2017-003935

特願２０１５－１３９５２６「露光装置、計測方法、露光方法、及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年　１月　７日出願公開、特開２０１６－　　１３１４、請求項の数（２３）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 第１　手続の経緯 本願は、平成１６年９月２９日（優先権主張　平成１５年９月２９日、平成１６年２月１９日、日本国）に特許出願した特願２００４－２８４２１８号の一部を平成２２年１月４日に新たな特許出願とした特願２０１０－１７３号の一部を平成２３年１月１８日に新たな特許出願とした特願２０１１－７８１３号の一部を平成２４年３月３０日に新たな特許出願とした特願２０１２－８３２２２号の一部を平成２５年１１月２９日に新たな特許出願とした特願２０１３－２４７８３７号の一部を平成２６年９月２９日に新たな特許出願とした特願２０１４－１９９４８６号の一部を平成２７年７月１３日に新たな特許出願とした特願２０１５－１３９５２６号であって、平成２８年５月１７日付けで拒絶理由が通知され、同年７月２５日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされ、同年１２月９日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。）がなされ、これに対して、平成２９年３月１７日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、その後、当審において平成３０年１月４日付けで拒絶理由（以下「当審拒絶理由」という。）が通知され、同年３月１２日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされたものである。 第２　本願発明 本願の請求項１ないし２３に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」ないし「本願発明２３」という。）は、平成３０年３月１２日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし２３に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１は以下のとおりである。 「【請求項１】 液体を介した光により基板を露光する液浸式の露光装置であって、 前記基板を保持して移動可能なステージと、 前記ステージの上方に設けられた供給ノズルを含み、前記供給ノズルから前記ステージ上に液体を供給する液体供給装置と、 前記ステージ上に保持された前記基板に、前記供給ノズルから供給される液体を介して光学像を投影する投影光学系と、 前記投影光学系からの光を前記供給ノズルから供給される液体を介して検出するセンサと、を備え、 前記センサは、前記ステージに設けられた導波部材と、前記投影光学系からの光を前記導波部材を介して受光する受光素子とを含み、 前記導波部材は、前記導波部材の第１面が前記供給ノズルから供給される液体と接し、前記投影光学系からの光が該液体を介して前記第１面に入射可能なように、前記ステージ上に配置され、 前記受光素子は、前記導波部材の第２面に当接された受光面を有し、前記第１面から前記導波部材の内部に入射して前記第２面から射出される前記光を前記受光面により受光する、露光装置。」 なお、本願発明２ないし１０は、いずれも、本願発明１をさらに減縮した発明である。また、本願発明１１は、本願発明１と実質的に同じ発明を、カテゴリの異なる検出方法の発明としたものであり、本願発明１２ないし１８は、いずれも、本願発明１１をさらに減縮した発明であり、本願発明１９ないし２１は、本願発明１１ないし１８に係る検出方法を用いた露光方法の発明であり、本願発明２２は、本願発明１ないし１０のいずれかの露光装置を用いたデバイス製造方法の発明であり、本願発明２３は、本願発明１９ないし２１の露光方法を用いたデバイス製造方法の発明である。 したがって、本願発明２ないし２３は、いずれも、本願発明１と実質的に同じ発明か、または、本願発明１（又は本願発明１と実質的に同じ発明）をさらに減縮した発明である。 第３　引用文献、引用発明等 １　引用文献１ （１）原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（国際公開第０３／６５４２７号）には次の事項が記載されている。（下線は当審において付されたものである。） ａ「技術分野 本発明は、半導体集積回路、液晶表示素子、薄膜磁気へッド、その他のマイク口デバイス、又はフォトマスク等をリソグラフィ技術を用いて製造する際に使用される露光装置及ぴ露光方法に関する。」（第１頁第４～６行） ｂ「以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図１は、本発明の実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図であり、この露光装置は、ステップ・アンド・リピート方式のスティチング型投影露光装置である。なお、以下の説明においては、図１中に示されたΧＹΖ直交座標系を設定し、このΧＹΖ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ΧＹΖ直交座標系は、Ｘ軸及びΖ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｙ軸が紙面に対して垂直となる方向に設定されている。図中のΧＹΖ座標系は、実際にはΧＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ζ軸が鉛直上方向に設定される。」（第８頁第５～１２行） ｃ「一方、感応物体としての基板４は、基板の変形による位置ずれが起きないように、本例では３本のピンで構成されるホルダ上に無吸着またはソフト吸着され、この基板ホルダは試料台５上に固定され、試料台５は基板ステージ６上に固定されている。なお、基板ホルダとしてピンチャックホルダなどを用いて基板４を保持してもよい。試料台５は、オートフォーカス方式で基板４のフォーカス位置（光軸ＡＸ方向の位置）、及び傾斜角を制御することによって、基板４の表面を投影光学系３の像面に合わせ込む。この試料台５上には位置決め用の基準マーク部材１２及び基板４上での露光光ＩＬの照度分布を検出する照度分布検出センサ(いわゆる照度ムラセンサ）１２６が固定されている。また、基板ステージ６は、ベース７上で例えばリニアモータによりＸ方向、Ｙ方向に試料台５(基板４)を移動し位置決めする。 また、試料台５の上部には移動鏡８ｍが固定されており、この移動鏡８ｍにはレーザ干渉計８が対向して配置されている。なお、図１においては、図示を簡略化しているが、移動鏡８ｍは、試料台５上においてＸ方向に延びた移動鏡とＹ方向に延びた移動鏡とが設けられており、各々の移動鏡に対向してレーザ干渉計が設けられている。レーザ干渉計８によって試料台５のＸ座標、Ｙ座標、及び回転角が計測され、この計測値がステージ制御系１０、及び主制御系９に供給されている。ステージ制御系１０は、その計測値、及び主制御系９からの制御情報に基づいて、基板ステージ６のリニアモータ等の動作を制御する。さらに、図１にお いては図示を省略しているが、レチクルステージ２に設けられたレーザ干渉計からの計測結果が主制御系９に供給されており、この計測結果に応じて主制御系９はレチクルステージ２のＸ座量、Ｙ座標、及び回転角、Ｚ座標、及び光軸ＡＸに対する角度を制御する。なお、前記移動鏡の代わりに、例えば試料台５の端面(側面）を鏡面加工して形成される反射面を用いてもよい。」（第１６頁第２０行～第１７頁第１４行） ｄ「次に、照度分布検出センサ１２６の詳細について説明する。図４Ａ及び図４Ｂは照度分布検出センサ１２６の構成を示す図である。この照度分布検出センサ１２６は、露光光ＩＬが投影光学系３を介して照明されている状態で基板ステージ６を基板４に水平な面内で移動させることにより露光光ＩＬの空間分布、即ち露光光の強度分布（照度分布）を計測するためのものである。図４Ａに示すように、照度分布検出センサ１２６は、矩形（本実施形態においては正方形）状の開口(又はピンホール）５４を有する遮光板５５の下側に光電センサ５６を設けて構成され、光電センサ５６による検出信号は、主制御系９に出力される。なお、開口５４の下側に光電センサ５６を設けずに、ライトガイドなどにより光を導いて他の部分で光電センサなどにより受光量を検出するようにしてもよい。 遮光板５５は、通常石英等の基板にクロム（Ｃｒ）等の金属を蒸着することにより形成されるが、クロム等の金属を蒸着すると、遮光板５５上に露光された露光光の反射率が高く露光光の反射量が多い。その結果、遮光板５５による反射光が投影光学系やレチクルで反射されることによりフレアが発生する。この照度分布検出センサ１２６は、基板４が露光されるときの露光光の照度分布を計測するために設けられるものであり、実際の露光時における露光光の照度分布を計測することが最も好ましい。しかし、露光光の照度分布の計測を行う際に、実際の露光時の状況と異なる状況、つまり露光光の反射量が多くなる状況があると、実際の露光時における露光光の照度分布を正確に計測することができない。そこで、本実施形態においては、露光時における実際の露光光の照度分布になるべく近い計測を行うために、遮光板５５上面の反射率を、基板４の反射率とほぼ同程度として反射光による影響を低減している。遮光板５５の上面には露光光の波長域において基板４の反射率と同程度の反射率を有する膜が形成されている。この膜を実現するためには、例えば、図４Ｂに示すように、石英の透明基板５７上にクロム５８を蒸着し、さらにクロム５８上に酸化クロムの薄膜５９を形成し、その上に基板４に塗布されるフォトレジストと同じフォトレジスト６０を同じ膜厚で塗布してもよい。このような遮光板５５上面の反射率は、その表面に形成される膜の材質のみならず、膜厚や構成（積層数、各層厚、各層の材質等）適宜に選択することにより調整することができる。基板４に反射防止膜等が形成されている場合には、そのような条件の全てをも考慮して、該遮光板５５上面の反射率を設定する。 かかる照度分布検出センサ１２６を用いて、遮光板５５に形成された開口５４を通過してきた露光光を、基板ステージ６を基板４表面に水平な面内で移動させつつ計測することにより、実際の露光時における露光光の照度分布とほぼ同じ照度分布を計測することができる。」（第１７頁第１５行～第１８頁第２０行） ｅ「また、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置のみならず、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置にも適用することが可能である。投影光学系は縮小系だけでなく等倍系、又は拡大系（例えば、液晶ディスプレイ又はプラズマディスプレイ製造用露光装置など）を用いてもよい。さらに投影光学系は、反射光学系、屈折光学系、及ぴ反射屈折光学系のいずれを用いてもよい。なお、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー、及び例えば国際公開 ＷＯ９９／４９５０４などに開示される、投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などにも本発明を適用してもよい。」（第４１頁第１８～２５行） ｆ「 」 ｇ「 」 （２）引用文献１に記載された発明の認定 引用文献１に記載された発明として、上記（１）のｄの「開口５４の下側に光電センサ５６を設けずに、ライトガイドなどにより光を導いて他の部分で光電センサなどにより受光量を検出するように」したもの、また、ｅの「液浸型露光装置」に適用したものを選択する。 すると、上記（１）のａ～ｇの記載から、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。 「投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置において、 リニアモータによりＸ方向、Ｙ方向に試料台５(基板４)を移動し位置決めする基板ステージ６、及び、 露光光ＩＬが投影光学系３を介して照明されている状態で基板ステージ６を基板４に水平な面内で移動させることにより露光光ＩＬの空間分布、即ち露光光の強度分布（照度分布）を計測するためのものである照度分布検出センサ１２６、を備え、 照度分布検出センサ１２６は、ライトガイドなどにより光を導いて他の部分で光電センサなどにより受光量を検出するようにするものである液浸型露光装置。」 ２　引用文献２、３に記載された技術事項 原査定において周知技術例として提示された引用文献２（国際公開第９９／４９５０４号）及び引用文献３（旧東ドイツ国経済特許第２２１５６３号明細書）には、次の周知の技術事項が記載されている。 「『ステージの上方に設けられた供給ノズルを含み、前記供給ノズルから前記ステージ上に液体を供給する液体供給装置』という液浸型露光装置の具体的態様は、周知の技術事項であること。」 第４　対比・判断 １　本願発明１について （１）対比 ア　本願発明１と引用発明を対比する。 （ア）引用発明の「投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置」が、本願発明１の「液体を介した光により基板を露光する液浸式の露光装置」に相当する。 （イ）引用発明の「リニアモータによりＸ方向、Ｙ方向に試料台５(基板４)を移動し位置決めする基板ステージ６」が、本願発明１の「前記基板を保持して移動可能なステージ」に相当する。 （ウ）引用発明の「液浸型露光装置」における「露光光ＩＬが」「基板ステージ６」を「照明」する際に介在する「投影光学系３」と、本願発明１の「前記ステージ上に保持された前記基板に、前記供給ノズルから供給される液体を介して光学像を投影する投影光学系」とは、「前記ステージ上に保持された前記基板に、前記液体を介して光学像を投影する投影光学系」である点で一致する。 （エ）引用発明の「液浸型露光装置」における「露光光ＩＬが投影光学系３を介して照明されている状態で基板ステージ６を基板４に水平な面内で移動させることにより露光光ＩＬの空間分布、即ち露光光の強度分布（照度分布）を計測するためのものである照度分布検出センサ１２６」と、本願発明１の「前記投影光学系からの光を前記供給ノズルから供給される液体を介して検出するセンサ」とは、「前記投影光学系からの光を前記液体を介して検出するセンサ」である点で一致する。 （オ）引用発明の「ライトガイド」は光を導くものであり、本願発明１の「導波部材」に相当する。 よって、引用発明の「照度分布検出センサ１２６は、ライトガイドなどにより光を導いて他の部分で光電センサなどにより受光量を検出するようにするものである」ことと、本願発明１の「前記センサは、前記ステージに設けられた導波部材と、前記投影光学系からの光を前記導波部材を介して受光する受光素子とを含み、前記導波部材は、前記導波部材の第１面が前記供給ノズルから供給される液体と接し、前記投影光学系からの光が該液体を介して前記第１面に入射可能なように、前記ステージ上に配置され、前記受光素子は、前記導波部材の第２面に当接された受光面を有し、前記第１面から前記導波部材の内部に入射して前記第２面から射出される前記光を前記受光面により受光する」こととは、「前記センサは、導波部材と、前記投影光学系からの光を前記導波部材を介して受光する受光素子とを含み、前記導波部材は、前記導波部材の第１面が前記投影光学系側を向き、前記投影光学系からの光が前記第１面に入射可能なように配置され、前記受光素子は、前記導波部材の第２面側に受光面を有し、前記第１面から前記導波部材の内部に入射して前記第２面から射出される前記光を前記受光面により受光する」点で一致するといえる。 イ　本願発明１と引用発明の一致点 したがって、本願発明１と引用発明とは、 「液体を介した光により基板を露光する液浸式の露光装置であって、 前記基板を保持して移動可能なステージと、 前記ステージ上に保持された前記基板に、前記液体を介して光学像を投影する投影光学系と、 前記投影光学系からの光を前記液体を介して検出するセンサと、を備え、 前記センサは、導波部材と、前記投影光学系からの光を前記導波部材を介して受光する受光素子とを含み、前記導波部材は、前記導波部材の第１面が前記投影光学系側を向き、前記投影光学系からの光が前記第１面に入射可能なように配置され、前記受光素子は、前記導波部材の第２面側に受光面を有し、前記第１面から前記導波部材の内部に入射して前記第２面から射出される前記光を前記受光面により受光する、露光装置。」 の発明である点で一致し、次の各点で相違する。 ウ　本願発明１と引用発明の相違点 （ア）相違点１； 「液浸式の露光装置」に関し、本願発明１においては、「ステージの上方に設けられた供給ノズルを含み、前記供給ノズルから前記ステージ上に液体を供給する」ものであるのに対して、引用発明においてはそのような特定がない点。 （イ）相違点２； センサにおける導波部材に関し、本願発明１においては「ステージ上に配置され」、第１面が「液体と接し」、第２面が「受光素子の受光面に当接され」ているのに対して、引用発明においてはそのような特定がない点。 （２）相違点についての判断 ア　相違点１について 「液浸式の露光装置」に関し「ステージの上方に設けられた供給ノズルを含み、前記供給ノズルから前記ステージ上に液体を供給する」ものは、引用文献２，３にも記載されているように周知の技術事項である。 引用発明においても、「液浸式の露光装置」としてどのような態様を採用するかは、当業者が必要に応じて適宜設定し得ることであるから、上記周知の技術事項の態様を採用し、上記相違点１に係る本願発明１の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 イ　相違点２について 液浸式の露光装置のセンサに関し、液体と受光素子の間の導波部材について、ステージ上に配置され、当該導波部材を液体及び受光素子と接するように構成することは、引用文献１ないし３のいずれにも記載されず、また、他に上記の点が記載された文献等は発見されておらず、それが当業者にとって周知の技術事項であるということもできない。 また、引用発明において、導波部材に相当する「ライトガイド」は、「他の部分」に光を導くためのものであることから、引用発明において、「ライトガイド」を「ステージ上に配置」しように構成することは、「ライトガイド」の上記の使用方法からは阻害要因になるといえる。 よって、引用発明において、上記相違点２に係る本願発明１の構成を採用することが当業者にとって容易であるということはできない。 （３）小活 したがって、本願発明１は、引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるということはできない。 ２　本願発明２ないし２３について また、本願発明２ないし２３についても、上記の相違点２に係る上記のセンサにおける導波部材が「ステージ上に配置され」、第１面が「液体と接し」、第２面が「受光素子の受光面に当接され」ているという特定事項を備えるものであるから、本願発明１と同様に、本願発明２ないし２３は、引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるということはできない。 第５　原査定の概要及び原査定についての判断 原査定は、原査定時における請求項１ないし２７に係る発明については、上記引用文献１に記載された発明（引用発明）及び引用文献２，３に記載の周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができないというものである。 しかしながら、平成３０年３月１２日付けの手続補正により、上記の請求項１ないし２７に係る発明から補正された請求項１ないし２３に係る発明（本願発明１ないし２３）は、上記のとおり、引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるということはできない。したがって、原査定を維持することはできない。 第６　当審拒絶理由について 当審では、請求項１の記載について、本願における課題を解決できるものであることが明確でないから、本願の発明の詳細な説明に記載されたものではなく、また、明確でないとの拒絶の理由を通知しているが、平成３０年３月１２日付けの手続補正における補正の結果、これらの拒絶理由は解消した。 第７　むすび 以上のとおりであり、原査定の拒絶理由によっては、本願を拒絶することはできない。 また、他に、本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。