2024-004334

特願２０２０－５６４５１６「リチウム ビス（フルオロスルホニル）イミド塩を調製するための方法」拒絶査定不服審判事件〔令和 １年１１月２８日国際公開、ＷＯ２０１９／２２４４７０、令和 ３年 ９月１３日国内公表、特表２０２１－５２４４２９〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、２０１９年（令和１年） ５月２１日（パリ条約による優先権主張 外国庁受理２０１８年（平成３０年） ５月２３日（ＦＲ）フランス）を国際出願日とする出願であって、令和５年 ６月 ７日付けで拒絶理由が通知され、同年 ８月３０日に手続補正書及び意見書が提出されたが、同年１１月 ７日付けで拒絶査定がされ、令和６年 ３月１２日に拒絶査定不服審判の請求がされたものであり、その後、令和７年 ３月３１日付けで当審からの拒絶理由が通知され、同年１０月 ６日に意見書及び誤訳訂正書が提出されたものである。 第２ 本願発明 本願請求項１～５に係る発明は、令和 ７年１０月 ６日提出の誤訳訂正書により補正（以下、「本件補正」という。）された特許請求の範囲の請求項１～５に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、次のとおりである。 「【請求項１】 少なくとも一つの塩素化剤及び少なくとも一つの硫黄含有剤を用いてスルファミン酸を塩素化する工程を含むＣｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを調製するための方法であって、前記方法は、Ｃｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを含む流れＦ１と、ＨＣｌ及びＳＯ２を含む気体流Ｆ２とをもたらし、且つ気体流Ｆ２を処理する工程ａ）を含み、 気体流Ｆ２を処理する工程ａ）が、ｉ）中和カラム中で気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させることであって、以下： － 中和カラムの頂部で回収された、水及び任意選択的に一又は複数の不活性ガスを含む気体流Ｇ１；及び － 中和カラムの底部で回収された、水、Ｃｌ－イオン及びサルファイトＳＯ３２－イオンを含むアルカリ性の流れＬ１ の形成及び回収を可能にする、気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させることを含み、 流れＦ１は、塩素化剤を前記流れＦ１の全重量に対して５重量％未満の含有率で含む、方法。」 第３ 当審で通知した拒絶理由の概要 令和 ７年 ３月３１日付けで、当審から通知した拒絶理由は、次の理由を含む。 （進歩性）本件補正前の請求項１、３、１４～１６に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献１に記載された発明、及び引用文献２、３に記載された技術的事項に基づいて、その優先日前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 引用文献等一覧 引用文献１ 特表２０１５－５３１７４４号公報 引用文献２ 特開昭４８－１０１３７８号公報 引用文献３ 特開２０００－１９７８１２号公報 第４ 当審の判断 当審は、本願発明１は上記の理由により特許をすることができないものであるから、本願は拒絶されるべきものである、と判断する。 詳細は以下のとおりである。 １ 引用文献の記載事項 （１）引用文献１には、「ビス（フルオロスルホニル）イミドの合成」（発明の名称）に関して、次の各記載がある。 ア「【技術分野】 【０００１】 本発明は、三フッ化ビスマスを用いて式X-S(0)2-Z-S(0)2-Xの非フルオロハライド化合物から、式F-S(0)2-Z-S(0)2-Fのビス（フルオロスルホニル）化合物を製造する方法に関する。これらの化合物は、電池及びキャパシタ等の電気化学デバイスにおける電解質を含む様々な用途に有用である。」 イ「【発明が解決しようとする課題】 【００１５】 したがって、高純度のビス（フルオロスルホニル）イミド化合物及びそれらの誘導体を製造する比較的安全及び／又は低コストの方法に対する要求が存在している。」 ウ「【００５５】 実施例1：ビス（クロロスルホニル）イミド（HCSI）の合成 機械的撹拌と、コンデンサと、温度計とを備えた三つ口丸底フラスコに、スルファミン酸（4.2 mol、407.8.5 g）と、クロロスルホン酸（4.2 mol、489.3 g、333ml）と、塩化チオニル（11.50 mol、1369.2 g、835 ml）との混合物を、アルゴン雰囲気の下で添加した。反応混合物を24時間130℃に加熱した。遊離した塩化水素及び二酸化硫黄を、2.56モルの苛性ソーダ溶液中で泡立たせることによってガス洗浄させた（scrubbed）。過剰な塩化チオニルは、周囲圧力における蒸留によって回収した。ビス（クロロスルホニル）イミドは、淡黄色液体として減圧蒸留させ、これを室温で静置して凝固させた。収率：880 g（98%）、沸点101℃/1 mmHg～103℃/1 mmHg。 ・・・ 【００５８】 実施例4：酸化ビスマスからの三フッ化ビスマスの合成 酸化ビスマス（III）（0.17 mol、80 g）をPTFE被覆フラスコに入れた。水性フッ化水素（2 mol、84.0 gの48%～50%水溶液）をゆっくりと添加した。反応混合物を室温で1時間撹拌し、濾過した。得られた固体をPTFE被覆フラスコに移し、真空乾燥させた。収率：89.4 g（98%）。 【００５９】 実施例5：回収した三フッ化ビスマスを用いたビス（フルオロスルホニル）イミドの合成 ビス（クロロスルホニル）イミド（0.3 mol、64.2 g）の入った100ml容のPTFE被覆フラスコ内に、三フッ化ビスマス（実施例4から得られた）（0.2 mol、53.18 g）を、室温で激しく撹拌しながら添加した。フラスコを冷水浴に浸すことによって反応混合物を冷却させた後、室温までゆっくりと温めた。得られる混合物を室温で12時間撹拌した。その後、反応混合物をガラスフラスコに移し、減圧蒸留させると、無色の液体としてHFSIが生成された。収率：48.3 g（89%）、沸点68℃/25 mmHg～69℃/25 mmHg。 【００６０】 実施例6：リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド（LiFSI）の合成 ビス（フルオロスルホニル）イミド（HFSI）（27.15 g、0.15mol）をビーカーに入れ、-78℃まで冷却させた。水（10ml）を添加し、混合物を室温まで温めた。炭酸リチウム（5.53 g）の懸濁液を、pHレベルが約pH7に達するまでゆっくりと添加した。不溶性材料は濾過によって除去し、水相を100 mlの酢酸エチルにより希釈した。有機層は分離して濃縮させた。得られる残渣を真空下で一晩50℃に加熱した。生成物LiFSIが白色固体として得られた。収率：28.05 g、92%。」 （２）引用文献２の記載 引用文献２には、「気体浄化装置」（発明の名称）に関して、次の各記載がある。 ア「本発明に係る吸収液に用いられるアルカリ性物質としては、・・・ＳＯ２、ＳＯ３、ＨＣｌ、Ｃｌ２等に対しては、Ｃａ（ＯＨ）２やＢａ（ＯＨ）２、その他アルカリ金属の炭酸塩、燐酸塩等の水に溶けてアルカリ性を呈するものであれば単独あるいは２種以上を混合して適宜用いることができる。」（第２頁左下欄第１９行～右下欄第６行） イ「つぎに本発明の実施例を図示しているが、本発明はこれに限定されるものではない。図において、（１）は被処理空気の導入路に設けた防塵フィルタ、（２）はこのフィルタの通過空気を下方から導き気液接触反応により浄化して上方に放出させる充填塔、（３）はこの充填塔内部上方に設けた洗浄液噴霧用のスプレーノズル、（４）はこのノズル下方に設けた濾過床、（５）はこの充填塔における処理空気の放出端に設けたデミスタ、（６）は上記スプレーノズル（３）と充填塔下端とを連絡する洗浄液通路（７）に介挿した循環用ポンプ、（８）は充填塔（２）からの還流洗浄液中におけるＨ２Ｏ２濃度を検出する濃度監視器、（９）はこの監視器の情報を配線（１０）を介して受け所要量のＨ２Ｏ２を洗浄液中に補給するＨ２Ｏ２供給装置である。 このような構成において被処理空気は防塵フィルタ（１）の通過時に除塵されてプラスチック製のテラレットまたはボールリング等の充填物が充填された濾過床（４）に導入されるが、そこを通過するとき洗浄液と向流接触し、被処理空気中に含まれる有害ガス成分を洗浄液中に化学的に吸収除去させる。しかる後、プラスチック製の板や網で構成されたデミスタ（５）を通過しミストを除去され、浄化空気となって外部へ放出される。なお、洗浄液中のＨ２Ｏ２濃度は通常の比色法または滴定法に基づくＨ２Ｏ２濃度測定器を内蔵したＨ２Ｏ２濃度監視器（８）によって定期的に監視され、濃度が一定値以下に低下したら自動的にＨ２Ｏ２供給装置（９）が動作し、洗浄液中に濃厚Ｈ２Ｏ２が供給される。Ｈ２Ｏ２供給装置としては単なる濃厚Ｈ２Ｏ２貯蔵槽であってもよいし、ペルオクソ酸塩や過酸化水素化物等の加水分解によってＨ２Ｏ２を発生するような小型の化学的Ｈ２Ｏ２発生装置、あるいは電解法によるＨ２Ｏ２発生装置を内蔵するようなＨ２Ｏ２供給装置であってもよい。 この構成の浄化装置に、洗浄液として１ｌ中にＫＯＨを１モル、Ｈ２Ｏ２を０．１２モル含む水溶液を用い、空塔速度１．５ｍ／秒、液ガス比０．５ｋｇ液体／ｋｇ気体、温度２０℃の条件下でＮＯまたはＮＯ２の除去効率を実測したところ、表の番号１に示した結果を得た。」（第３頁左上欄第４行～左下欄第４行） ウ「 ［図：0001435561000001.jpg］ 」（第４頁右上欄） （３）引用文献３の記載 引用文献３には、「排ガス処理方法および処理装置」（発明の名称）に関して、次の各記載がある。 ア「【０００２】 【従来の技術】従来、ごみ焼却設備（一般廃棄物もしくは産業廃棄物焼却プラント等）において、これらごみ焼却設備から出る排ガス中に含まれるＨＣｌ，ＳＯｘ等の酸性ガス成分を脱酸処理する方法としては、これら酸性ガス成分を水で洗浄し、苛性ソーダなどのアルカリ剤の中和によってｐＨ６～７に調整することにより塩に変えて回収するという方法が最も一般的に採られている。 【０００３】この従来方法を図１１に示されるシステム構成図によって説明する。この図１１に示される従来システムにおいては、第１洗浄塔５１と第２洗浄塔５２とが備えられている。図示されないごみ焼却設備からの排ガスは煙道５３を通して第１洗浄塔５１の頂部に導入され、この第１洗浄塔５１の下部に溜められた洗浄液５４が循環ポンプ５５にてその第１洗浄塔５１の上部に配されるスプレーノズル５６から噴霧され、これによって第１洗浄塔５１内に導入された排ガス中の酸性ガス成分（ＨＣｌ，ＳＯｘ等）が洗浄液５４にて吸収されるようになっている。この酸性ガス成分の吸収に伴って洗浄液５４のｐＨは小さな値になるため、循環する洗浄液５４中に苛性ソーダヘッドタンク５７から苛性ソーダが補給され、その洗浄液５４のｐＨが６～７に保持される。なお、第１洗浄塔５１内の過剰の洗浄液５４は排出ポンプ５８により系外に排出される。 【０００４】前記第１洗浄塔５１を出た排ガスは煙道５９により第２洗浄塔５２に導入される。この第２洗浄塔５２に導入された排ガス中にはまだ酸性ガス成分を含有しており、この第２洗浄塔５２の下部に溜められた洗浄液６０が循環ポンプ６１にてその第２洗浄塔５２の上部から投入されることで、排ガスと気液接触させて排ガス中の酸性ガス成分が洗浄液６０にて吸収される。この酸性ガス成分の吸収に伴って洗浄液６０のｐＨはやはり小さな値になるため、第１洗浄塔５１と同様、循環する洗浄液６０中に苛性ソーダヘッドタンク５７から苛性ソーダが補給され、その洗浄液６０のｐＨが６～７に保持される。そして、この第２洗浄塔５２を出た排ガスは煙道６３から図示されないガス再加熱器等を経て煙突により大気に放出される。なお、第１洗浄塔５１および第２洗浄塔５２はスプレー塔に限定されず、ラシヒリング等の充填物を充填した方式など他の各種方式のものも使用可能である。」 イ「 ［図：0001435561000002.jpg］ 」 ２ 引用文献１に記載された発明 引用文献１には、上記１（１）ウによれば、ビス（クロロスルホニル）イミドの合成方法として、塩化チオニル、クロロスルホン酸、スルファミン酸を２４時間１３０℃で加熱を行い、遊離した塩化水素及び二酸化硫黄を苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ、過剰な塩化チオニルは、周囲圧力における蒸留によって回収し、またビス（クロロスルホニル）イミドは減圧蒸留させること（実施例１）が記載されているといえる。 この記載を「ビス（クロロスルホニル）イミドの合成方法」に注目して整理すると、次の発明（以下、「引用１発明」という。）が記載されていると認められる。 〔引用１発明〕 「塩化チオニル、クロロスルホン酸、スルファミン酸を２４時間１３０℃で加熱を行うことでビス（クロロスルホニル）イミドを合成する方法であって、遊離した塩化水素及び二酸化硫黄は、苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ、過剰な塩化チオニルは、周囲圧力における蒸留によって回収し、また減圧蒸留することでビス（クロロスルホニル）イミドを得る方法。」 ３ 対比、判断 （１）本願発明１と引用１発明との対比 ア 本願発明１と引用１発明との対応関係は次のとおりである。 （ア）引用１発明の「塩化チオニル」は、本願明細書の「塩素化剤は、塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）、塩化オキサリル（ＣＯＣｌ）２、五塩化リン（ＰＣｌ５）、三塩化ホスホニル（ＰＣｌ３）、三塩化ホスホリル（ＰＯＣｌ３）及びそれらの混合物からなる群より選択され得る。」（【０１３１】）との記載を踏まえると、本願発明１の「少なくとも一つの塩素化剤」に相当する。 （イ）引用１発明の「クロロスルホン酸」は、本願明細書の「硫黄含有剤は、クロロスルホン酸（ＣｌＳＯ３Ｈ）、硫酸、発煙硫酸及びそれらの混合物からなる群より選択され得る。」との記載を踏まえると、本願発明１の「少なくとも一つの硫黄含有剤」に相当する。 （ウ）引用１発明の「ビス（クロロスルホニル）イミド」は、本願発明１の「Ｃｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌ」に相当する。 （エ）引用１発明の「塩化チオニル、クロロスルホン酸、スルファミン酸を２４時間１３０℃で加熱を行うことでビス（クロロスルホニル）イミドを合成する方法」は、上記（ア）～（ウ）を踏まえると、「スルファミン酸」を「塩素化剤」と「硫黄含有剤」により「Ｃｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌ」としているといえるから、本願発明１の「スルファミン酸を塩素化する工程を含むＣｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを調製するための方法」に相当する。 （オ）引用１発明の「減圧蒸留することでビス（クロロスルホニル）イミドを得る」は、「減圧蒸留」によって「ビス（クロロスルホニル）イミド」の流れが形成されていることは明らかであるから、上記（ウ）を踏まえると、本願発明１の「Ｃｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを含む流れＦ１」「をもたらし」に相当する。 （カ）引用１発明の「遊離した塩化水素及び二酸化硫黄」は、「苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ」ており、「塩化水素及び二酸化硫黄」のガス流が形成されていることは明らかであるから、本願発明１の「ＨＣｌ及びＳＯ２を含む気体流Ｆ２」に相当する。 イ 前記アの対応関係を踏まえると、本願発明１と引用１発明は、「少なくとも一つの塩素化剤及び少なくとも一つの硫黄含有剤を用いてスルファミン酸を塩素化する工程を含むＣｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを調製するための方法であって、Ｃｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを含む流れＦ１と、ＨＣｌ及びＳＯ２を含む気体流Ｆ２とをもたら」す「方法」の点で一致し、以下の点で相違する。 （ア）本願発明１は、「気体流Ｆ２を処理する工程ａ）を含み、 気体流Ｆ２を処理する工程ａ）が、ｉ）中和カラム中で気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させることであって、以下： － 中和カラムの頂部で回収された、水及び任意選択的に一又は複数の不活性ガスを含む気体流Ｇ１；及び － 中和カラムの底部で回収された、水、Ｃｌ－イオン及びサルファイトＳＯ３２－イオンを含むアルカリ性の流れＬ１の形成及び回収を可能にする、気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させることを含む」のに対し、引用１発明は、「遊離した塩化水素及び二酸化硫黄は、苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ」る点（以下、「相違点１」という。）。 （イ）本願発明１は、「流れＦ１は、塩素化剤を前記流れＦ１の全重量に対して５重量％未満の含有率で含む」であるのに対し、引用１発明は、それを特定していない点（以下、「相違点２」という。）。 （２）相違点１の検討 引用文献２には、上記１（２）ア～ウによれば、ＳＯ２やＨＣｌ等の有害ガス成分を含む被処理空気を充填塔内部の下方から上方へ導き、充填塔内部上方に設けたスプレーノズルからアルカリ性を呈する水溶液からなる洗浄液を噴霧して、被処理空気と洗浄液を向流接触し、被処理空気中に含まれる有害ガス成分を除去し、浄化空気となって上方に放出され、洗浄液を充填塔下端に連絡している洗浄液通路で循環することが開示されている。 また、引用文献３には、上記１（３）ア、イによれば、排ガス中の酸性ガス成分（ＨＣｌ、ＳＯｘ）を洗浄塔において洗浄液である苛性ソーダと接触して吸収することで、大気に放出される排ガスと、使用後の洗浄液とが得られることが開示されている。 引用文献２、３の上記記載から、気体流中のＳＯ２やＨＣｌ等を浄化させる方法として、洗浄塔でＳＯ２やＨＣｌ等を含む気体流をアルカリ性の水溶液からなる洗浄液と接触させ、洗浄塔の上方から浄化された気体流と、洗浄塔の底部から回収されるＳＯ２やＨＣｌの浄化に用いた洗浄液とが生成されることは周知な技術であると認められる。そして、アルカリ性の洗浄液を用いてＳＯ２やＨＣｌを浄化すると、洗浄液内に水、Ｃｌ－イオン及びサルファイトＳＯ３２－イオンが存在することは明らかである。また、洗浄塔は、アルカリ性の洗浄液と接触させるものであるから、中和カラムと言い換えることができることも明らかである。さらに、洗浄塔の上方から浄化された気体流には、水溶液の反応を経ていることから、水（水滴、水蒸気等）が含まれていることも明らかである。 そうしてみると、相違点１に係る本願発明１の「気体流Ｆ２を処理する工程ａ）が、ｉ）中和カラム中で気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させることであって、以下：－ 中和カラムの頂部で回収された、水及び任意選択的に一又は複数の不活性ガスを含む気体流Ｇ１；及び－ 中和カラムの底部で回収された、水、Ｃｌ－イオン及びサルファイトＳＯ３２－イオンを含むアルカリ性の流れＬ１の形成及び回収を可能にする、気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させること」は、ガス洗浄方法として周知技術といえる。 そして、引用１発明は、「遊離した塩化水素及び二酸化硫黄は、苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ」ているところ、引用１発明の「遊離した塩化水素及び二酸化硫黄は、苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ」ることを、「気体流Ｆ２を処理する工程ａ）が、ｉ）中和カラム中で気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させることであって、以下：－ 中和カラムの頂部で回収された、水及び任意選択的に一又は複数の不活性ガスを含む気体流Ｇ１；及び－ 中和カラムの底部で回収された、水、Ｃｌ－イオン及びサルファイトＳＯ３２－イオンを含むアルカリ性の流れＬ１の形成及び回収を可能にする、気体流Ｆ２をアルカリ性水溶液と接触させること」とすることは、単に周知な技術に置き換えたに過ぎず、当業者であれば容易に想到し得たものである。 （３）相違点２の検討 引用１発明の「ビス（クロロスルホニル）イミド」に関して、引用文献１には、上記１（１）ウによれば、「ビス（クロロスルホニル）イミドは、淡黄色液体として減圧蒸留させ、これを室温で静置して凝固させた。収率：880g（98%）、沸点101℃/1mmHg～103℃/1mmHg。」（【００５５】）と記載され、「ビス（クロロスルホニル）イミド」の沸点は、１ｍｍＨｇの減圧下で１０１～１０３℃程度といえる。また、「塩化チオニル」の沸点は常圧下で７６℃程度であることが技術常識といえる。 そうすると、引用１発明において、「過剰な塩化チオニル」を「周囲圧力における蒸留によって回収し」た後の「ビス（クロロスルホニル）イミド」には、「塩化チオニル」は含まれていないか、仮に含まれていたとしても極少量であるといえることから、引用１発明は、「流れＦ１は、塩素化剤を前記流れＦ１の全重量に対して５重量%未満の含有率で含む」ものといえ、相違点２は実質的な相違点とはいえない。 仮に、相違点２が実質的な相違点であるとしても、引用１発明は、「過剰な塩化チオニルは、周囲圧力における蒸留によって回収」することから、「ビス（クロロスルホニル）イミド」中の「塩化チオニル」を低減して、その含有率を５重量％未満とすることは、当業者が適宜なし得る事項にすぎない。 （４）本願発明１が奏する効果について ア 本願明細書には、以下の記載がある。 （ア）「【背景技術】 ・・・ 【０００４】 特に塩素化する工程を含む、ＬｉＦＳＩを調製するためのいくつかの方法が存在する。しかし、これらの方法は、大気中に放出される可能性があり、したがって環境に悪影響を与える可能性がある有毒な生成物の放出をもたらす。 【０００５】 そのため、上記の欠点を示さないリチウム ビス（フルオロスルホニル）イミド塩の調製のための方法がさらに必要である。 【０００６】 特に、より環境にやさしく且つ／又は経済的に有益であるリチウム ビス（フルオロスルホニル）イミド塩の調製のための方法が必要である。」 （イ）「【発明の概要】 【０００７】 本発明は、少なくとも一つの塩素化剤及び少なくとも一つの硫黄含有剤を用いてスルファミン酸を塩素化する工程を含むＣｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを調製するための方法に関し、前記方法は、Ｃｌ－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｃｌを含む好ましくは液体の流れＦ１と、ＨＣｌ及びＳＯ２を含む気体流Ｆ２とをもたらし、前記方法は、気体流Ｆ２を処理する工程ａ）を含む。 【発明を実施するための形態】 【０００８】 処理工程ａ）は、有利には、気体流Ｆ２に含有されるＨＣｌ及びＳＯ２の大気への排出を回避することを可能にする。」 （ウ）「【０１４０】 本発明によるリチウム ビス（フルオロスルホニル）イミド塩を調製するための方法は、有利には、ＨＣｌ及びＳＯ２の大気への放出を回避することを可能にする。よって、この方法は、有利には、汚染が少なく、より環境にやさしい。」 イ 上記アによると、本願明細書には、リチウム ビス（フルオロスルホニル）イミド塩の調製においてもたらされるＨＣｌ及びＳＯ２の大気への排出を回避することで環境にやさしい方法とするために、ＨＣｌ及びＳＯ２を含む気体流Ｆ２を処理する工程ａ）を行うことが記載されているといえる。 ウ 一方、引用１発明は、「遊離した塩化水素及び二酸化硫黄は、苛性ソーダ溶液中で泡立たせることでガス洗浄させ」るものである。 つまり、引用１発明には、ビス（クロロスルホニル）イミドの合成方法において生じた塩化水素及び二酸化硫黄をガス洗浄するものであるから、塩化水素及び二酸化硫黄は、大気へ排出されていないものといえる。 エ また、上記（２）で検討したとおり、引用文献２には、ＳＯ２やＨＣｌ等の有害ガス成分を含む被処理空気中に含まれる有害ガス成分を除去し、浄化空気となって上方に放出することが開示され、また引用文献３には、排ガス中の酸性ガス成分（ＨＣｌ、ＳＯｘ）を洗浄塔において洗浄液である苛性ソーダと接触して吸収することで、大気に放出される排ガスと、使用後の洗浄液とが得られることが開示されている。 オ 上記イ～エの検討を踏まえると、引用１発明、及び引用文献２、３に記載されている事項においても、塩化水素及び二酸化硫黄は、大気へ排出されていないものであるといえる。 そうすると、本願発明１が奏する効果であるＨＣｌ及びＳＯ２の大気への排出を回避することで環境にやさしい方法とすることは、引用１発明が備えた効果であるといえるし、また、引用１発明に、上記（２）で検討したガス洗浄方法として周知な技術に置き換えた発明も、同様の効果を奏するものであるので、本願発明１が奏する効果は、当業者が容易に予測し得る程度の効果にすぎず、格別顕著なものであるともいえない。 （５）請求人の主張について 請求人は、令和７年１０月６日提出の意見書において、引用文献１～３には、本願発明の流れＦ１に相当する流れが流れの全重量に対して５重量％未満の含有率で含むことを開示も示唆もされていないとした上で、本願発明は進歩性を有する旨の主張をしている。 しかしながら、前記（３）で検討したとおり、引用１発明は、「流れＦ１は、塩素化剤を前記流れＦ１の全重量に対して５重量%未満の含有率で含む」ものといえるし、仮にそうでないとしても、「ビス（クロロスルホニル）イミド」中の「塩化チオニル」を低減して、その含有率を５重量％未満とすることは、当業者が適宜なし得ることである。 そして、「流れＦ１は、塩素化剤を前記流れＦ１の全重量に対して５重量％未満の含有率で含む」ことに関して、本願明細書には、「流れＦ１は、場合によっては、例えばＳＯＣｌ２などの塩素化剤を、前記流れＦ１の全重量に対して、例えば５重量％未満、優先的には１重量％未満、有利には０．５重量％未満の含有率で含み得る」こと（【００１２】）、及び「流れＦ１は、場合によっては、例えばＳＯＣｌ２及びＨ２ＳＯ４などの塩素化剤及び硫黄含有剤を、前記流れＦ１の全重量に対して、例えば５重量％未満、優先的には１重量％未満、有利には０．５重量％未満の全含有率で含み得る」こと（【００１４】）が記載されているのみであり、格別顕著な効果を奏することは記載されていない。 したがって、請求人の上記主張は採用できない。 ４ まとめ よって、本願発明１は、その優先日前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献１に記載された発明及び引用文献２、３に記載された事項に基づいて、その優先日前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。 第５ むすび 以上のとおり、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その他の請求項について検討するまでもなく、本願は、同法第４９条第１項第２号に該当し、拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。