審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許拒絶査定不服審判

2020-012269

半導体装置

審判番号
2020-012269
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2018-206676外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2020年09月01日
審決日
2022年08月24日
公報発行日
2022年11月25日
結論
請求不成立
当事者
審判長/審判官
分類
P18 .121-WZF(H01L) / P18 .537-WZF(H01L)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2018-206676「半導体装置」拒絶査定不服審判事件〔平成31年 3月 7日出願公開、特開2019- 36749〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論
本件審判の請求は、成り立たない。

理由

理 由

本願は、平成30年11月 1日(遡及出願平成24年 9月28日)の出願であって、その請求項1ないし24に係る発明は、特許請求の範囲の請求項1ないし24に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。

これに対して、令和 4年 3月 9日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。

そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。

よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2020-012269

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ当事者の審決458件(キヤノン株式会社)
  • 2025-006402拒絶査定不服審判 / 2026-08-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)セラミックス物品の製造方法、およびセラミックス物品
    同じ当事者: キヤノン株式会社
  • 2025-007924拒絶査定不服審判 / 2026-08-19 / 原査定取消(特許/登録すべき)コネクタユニット、画像形成装置及びシート処理装置
    同じ当事者: キヤノン株式会社
  • 2025-008882拒絶査定不服審判 / 2026-08-18 / 原査定取消(特許/登録すべき)情報処理装置、認証器、それら方法およびプログラム
    同じ当事者: キヤノン株式会社
  • 2025-006569拒絶査定不服審判 / 2026-07-15 / 原査定取消(特許/登録すべき)画像形成装置
    同じ当事者: キヤノン株式会社
  • 2025-003408拒絶査定不服審判 / 2026-07-14 / 原査定取消(特許/登録すべき)多元数演算装置及び医用画像診断装置
    同じ当事者: キヤノン株式会社
検索でもっと見る →
同じ論点・分野の審決(審決分類)2,632件(121・H01L、537・H01L)
  • 2025-000609拒絶査定不服審判 / 2026-08-26 / 原査定取消(特許/登録すべき)軽量太陽光発電パネル及びその製造方法
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2024-011725拒絶査定不服審判 / 2026-02-09 / 原査定取消(特許/登録すべき)カルコゲン含有化合物半導体の製造方法及び製造装置
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2025-000132拒絶査定不服審判 / 2025-12-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)SiCウェハおよびその製造方法
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2025-000133拒絶査定不服審判 / 2025-12-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)SiC単結晶ウェハおよびその製造方法
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2025-002269拒絶査定不服審判 / 2025-12-19 / 原査定取消(特許/登録すべき)冷却床部材
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存