2020-005798

第２　原査定の概要

原査定の概要は次のとおりである。

１．（進歩性）本願請求項１－５に係る発明は，以下の引用文献１ないし８に基づいて，その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下，「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。

引用文献等一覧

１.特開２００９－１３５２０１号公報

２.特開平６－２３２０４７号公報

３.特開２０１０－８７１９７号公報

４.特開２０１４－９６６１２号公報

５.特開２００２－１８４７５０号公報

６.特開２００４－７２０００号公報

７.特開２０１４－９０１６８号公報

８.特開平１１－１２１３８４号公報

第３　本件補正について

本件補正は，特許法第１７条の２第３項から第６項までの要件に違反しているものとはいえない。

本件補正における，請求項１において「前記回転テーブル側２次コイルに接続された負荷」を「前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段」とする補正は，「回転テーブル側２次コイル」に接続された負荷を「前記加熱手段」と限定するものであり，特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。また，「回転テーブル側２次コイル」に接続される部材が「加熱手段」であることは，当初明細書等の段落【００２２】や図４に記載されているから，新規事項を追加するものではない。

また，本件補正における，請求項１において「前記加熱手段上に樹脂シートが設けられてなる」との記載を追加する補正は，加熱手段に関する構成を追加するものであり，特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるといえる。そして，「樹脂シート」については，当初明細書等の段落【００１６】及び図１に記載されているから，新規事項を追加するものではない。

そして，「第４　本願発明」から「第６　対比・判断」までに示すように，補正後の請求項１－５に係る発明は，独立特許要件を満たすものである。

第４　本願発明

本願請求項１－５に係る発明（以下，それぞれ「本願発明１」－「本願発明５」という。）は，令和２年４月２８日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１－５に記載された事項により特定される発明であり，以下のとおりの発明である。

「【請求項１】

ウェーハ回転保持装置の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構であって，

回転軸と，

前記回転軸の先端に載置され且つ上面に支持ピンを介してウェーハを保持する回転テーブルと，

続きを表示（全22行）

前記回転軸に動力を供給する駆動モータと，

前記回転テーブル上又は内部であり且つ前記ウェーハの下部に前記ウェーハに空間を有する非接触状態で設けられた前記ウェーハを加熱するための加熱手段と，

を有し，

前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイルと，

前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，

前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられ，且つ前記回転テーブルに取り付けられた回転テーブル側２次コイルと，

前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，

を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてなり，

前記加熱手段上に樹脂シートが設けられてなる，

回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構。

【請求項２】

前記回転テーブルと前記加熱手段の間に反射板を設けてなる，請求項１記載の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構。

【請求項３】

請求項１又は２記載の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構を用いて，前記ウェーハを加熱してなる，回転テーブル用ウェーハ加熱方法。

【請求項４】

請求項１又は２記載の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構を備えてなる，ウェーハ回転保持装置。

【請求項５】

前記ウェーハ回転保持装置が，スピン処理機構を備える，請求項４記載のウェーハ回転保持装置。」

第５　引用文献，引用発明等

１　引用文献１について

（１）引用文献１の記載

原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献１には，図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審で付加した。以下同じ。）

「【技術分野】

【０００１】

本発明は，半導体ウェーハの上面に，加熱しながらプロセスガスを供給して成膜を行なう半導体製造装置および半導体製造方法に関する。」

「【０００３】

高品質化を維持しながら生産性を向上する方法として，テーブルに載置されたウェーハを高速で回転しながら加熱してエピタキシャル成長を行う枚葉式の半導体製造装置が知られている（例えば特許文献１など参照）。」

「【００１６】

反応室１１下部には，モータ（図示せず），回転軸（図示せず）などから構成されたウェーハｗを回転させるための回転駆動機構１６と，回転駆動機構１６上でウェーハｗを載置するための下部支持部材１７が設置されている。尚，ここでは下部支持部材１７をサセプタとしているが，開口部を有するホルダーであってもよい。下部支持部材１７の上方には，例えばリング状の上部支持部材１８が設けられ，昇降駆動機構１９によって鉛直方向に昇降し，ウェーハｗの支持と開放が行われる。上部支持部材１８は，ウェーハｗの外周縁部を全周に亘ってウェーハｗの上面側より支持する。」

「【００２０】

また，下部支持部材１７の下方には，ウェーハｗを加熱するためのインヒータ２０ａが設置され，下部支持部材１７とインヒータ２０ａの間に，ウェーハｗの周縁部を加熱するためのアウトヒータ２０ｂが設置されている。インヒータ２０ａの下部には，ウェーハｗを効率的に加熱するための円盤状のリフレクター２１が設置されている。」

「【図１】

」

（２）上記（１）から，上記引用文献１には次の技術的事項が記載されているものと認められる。

ア　テーブルに載置されたウェーハを高速で回転しながら加熱してエピタキシャル成長を行う枚葉式の半導体製造装置であって，回転駆動機構１６と，ウェーハｗを載置するための下部支持部材１７を有し，下部支持部材１７の下方には，ウェーハｗを加熱するためのインヒータ２０ａ及びアウトヒータ２０ｂが設置されており，インヒータ２０ａの下部には，ウェーハｗを効率的に加熱するための円盤状のリフレクター２１が設置されている，半導体製造装置。

２　引用文献２について

（１）引用文献２の記載

原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献２には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【特許請求の範囲】

【請求項１】　ワークが載置されると共にこのワークに対する電気的負荷が組み込まれたテーブルと，このテーブルに対して同軸一体に突設された回転軸と，この回転軸とハウジングとの間に介装されて当該回転軸を前記ハウジングに対して非接触状態で回転自在に支持する磁気軸受と，前記ハウジングと前記回転軸との間に組み込まれて前記回転軸を駆動する駆動手段と，前記回転軸を囲むように前記ハウジングに固定され且つ交流電源に接続する一次側コイルと，この一次側コイルと対向するように前記回転軸に嵌着され且つ前記電気的負荷に接続する二次側コイルとを具えたことを特徴とするウェハ回転装置。」

「【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハに各種の表面処理を施す場合，通常はこの半導体ウェハを回転しながら均一に加熱し，化学的な方法にて種々の表面処理が施される。」

「【０００４】即ち，上下二組の玉軸受101,102を介してハウジング103に対し垂直な状態で回転自在に支持された回転軸104の上端部には，図示しない半導体ウェハを載置するためのワークテーブル105が同軸状をなして固定されている。上下二組の玉軸受101,102の間には，回転軸104に対して一体的に嵌着された回転子106aとこの回転子106aを囲むようにハウジング103に保持された固定子106bとを有する回転軸駆動モータ106が組み込まれ，固定子106bには図示しない電源が接続している。」

「【００１１】

【作用】回転軸はハウジングに対し磁気軸受を介して支持されており，磁気軸受自体が非接触支持形式のため，摩擦による発塵が全く発生しない。又，交流電源から一次側コイルに交流電流を通電すると，トランスの原理により二次側コイルに交流電流が誘導され，これがテーブルに組み込まれた電気的負荷に供給される。つまり，ハウジング側から非接触にて回転軸側の電気的負荷へ電力が供給される。」

「【００１５】一方，下側のラジアル磁気軸受１４とスラストディスク１５との間の回転軸１２の部分には，二次側鉄心１９が一体的に嵌着され，この二次側鉄心１９の外周側には二次側コイル２０が巻回されている。又，前記ワークテーブル１７内には半導体ウェハを数百℃に加熱保持するための電気的負荷としてヒータ２１が組み込まれており，このヒータ２１と前記二次側コイル２０とはケーブル２２を介して導通している。微小な?間を隔てて二次側鉄心１９を囲むようにハウジング１１に装着された環状の一次側鉄心２３の内周側には，一次側コイル２４が巻回され，この一次側コイル２４には，ケーブル２５を介して交流電源２６が接続している。」

「【００１９】このような本発明によるウェハ回転装置の他の一実施例の概略構造を表す図３に示すように，ハウジング１１と回転軸１２との間には，二組のラジアル磁気軸受１３,１４がそれぞれ介装され，前記ハウジング１１とスラストディスク１５との間には環状のスラスト磁気軸受１６が介装され，これらラジアル磁気軸受１３,１４及びスラスト磁気軸受１６により，回転軸１２はハウジング１１に対し非接触で回転自在に支持された状態となっている。

【００２０】回転軸１２の上端部には，ワークテーブル１７が同軸状をなして固定されている。又，上下二組のラジアル磁気軸受１３,１４の間には，回転軸１２に対して一体的に嵌着された回転子１８ａとこの回転子１８ａを囲むようにハウジング１１に保持された固定子１８ｂとを有する回転軸駆動モータ１８が組み込まれ，固定子１８ｂには図示しない電源が接続している。

【００２１】一方，下側のラジアル磁気軸受１４とスラストディスク１５との間の回転軸１２の部分には，二次側鉄心２７が一体的に嵌着され，この二次側鉄心２７の下面側には二次側コイル２８が巻回されている。又，前記ワークテーブル１７内にはヒータ２１が組み込まれており，このヒータ２１と前記二次側コイル２８とはケーブル２２を介して導通している。微小な隙間を隔てて二次側鉄心２７と上下に対向するようにハウジング１１に装着された環状の一次側鉄心２９の上面側には，一次側コイル３０が巻回され，この一次側コイル３０には，ケーブル２５を介して交流電源２６が接続している。

【００２２】従って，この実施例も先の場合と同様に，交流電源２６からケーブル２５を介して一次側コイル３０に通電すると，磁束が一次側鉄心２９と二次側鉄心２７との間に形成され，これに伴って二次側コイル２８に交流電流が誘導され，この誘導電流がケーブル２２を介してヒータ２１に供給される。」

「【図３】

」

（２）上記（１）から，上記引用文献２には，他の一実施例のウェハ回転装置について，次の発明（以下，「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。

「半導体ウェハが載置されると共にこの半導体ウェハに対するヒータ２１が組み込まれたワークテーブル１７と，このワークテーブル１７に対して同軸一体に突設された回転軸１２と，この回転軸１２とハウジングとの間に介装されて当該回転軸１２を前記ハウジングに対して非接触状態で回転自在に支持する磁気軸受とを具えたウェハ回転装置であって，

回転軸１２の上端部には，ワークテーブル１７が同軸状をなして固定され，

回転軸駆動モータ１８が組み込まれ，

回転軸１２に一体的に嵌着された二次側鉄心２７の下面側には二次側コイル２８が巻回され，

ヒータ２１と前記二次側コイル２８とはケーブル２２を介して導通しており，

微小な隙間を隔てて二次側鉄心２７と上下に対向するようにハウジング１１に装着された環状の一次側鉄心２９の上面側には，一次側コイル３０が巻回され，この一次側コイル３０には，ケーブル２５を介して交流電源２６が接続しており，

交流電源２６からケーブル２５を介して一次側コイル３０に通電すると，二次側コイル２８に交流電流が誘導され，この誘導電流がケーブル２２を介してヒータ２１に供給される，

ウェハ回転装置。」

３　引用文献３について

（１）引用文献３の記載

原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献３には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【特許請求の範囲】

【請求項１】

(a)　搭載したウェハー基板を回転させ且つウェハー基板との接触部位を通じてウェハー基板を加熱するマイカヒータを備えたスピンチャックと，

(b)　レジスト液を霧状にしてウェハー基板上に噴霧する超音波スプレーノズルと，

(c)　前記ウェハー基板の加熱温度を測定する温度計測部と，

(d)　前記温度計測部からの信号により前記マイカヒータを制御してマイカヒータに給電する給電装置とを備えていることを特徴とするレジスト塗布装置。」

「【発明を実施するための最良の形態】

【００１０】

以下，本発明を図示実施例に従って詳述する。レジスト塗布装置(A)のスピンチャック(4)は，載置台(8)とその下面中心に垂設された回転軸(10)とで構成されており，回転軸(10)は装置本体(図示せず)に取り付けられたベアリング(11)に回転可能に取り付けられている。載置台(8)は円板状で，回転軸(10)が設けられ，その上面にヒーター収納凹所が形成された本体部(8a)と，ウェハー基板(1)との接触部位(2)となり，ヒーター収納凹所を閉塞するウェハー載置蓋(8b)とで構成されており，ヒータ収納凹所の内部にマイカヒータ(3)が内蔵され，ウェハー載置蓋(8b)およびヒータ収納凹所に接触している。少なくとも載置台(8)或いはウェハー載置蓋(8b)そのものは熱容量の小さいアルミニウム(勿論，これに限られず熱容量の小さい材料であればよい。また，材料は金属に限られず耐薬品性があれば樹脂でもよい。)が使用される。このような熱容量の小さい材料であれば，加熱源がマイカヒータ(3)のようなものでしかも非接触給電方式であっても実用足りうる。

【００１１】

また，ウェハー載置蓋(8b)にはウェハー基板(1)を吸着するための吸着孔(図示せず)あるいは吸着孔が形成された吸着溝(図示せず)が形成されており，載置されたウェハー基板(1)を吸着固定するようになっている。勿論，吸着以外の方法でウェハー基板(1)を固定することも可能である。

・・・

【００１３】

スピンチャック(4)の回転軸(10)は隣接して設けられたスピンモータ(20)によりタイミングベルト(21)を介して回転駆動されている。(22)(23)はタイミングベルト(21)が取り付けられるプーリである。

【００１４】

給電装置(6)はリモートシステム(6a)(6b)とヒーターコントローラ(6c)とを含んでおり，一対で構成されるリモートシステム(6a)(6b)は回転軸(10)と同軸にて設置されている。リモートシステム(6a)(6b)は回転トランスの一種で，一方(6a)が回転軸(10)の軸端に一体的に装着されて回転軸(10)と共に回転する。他方(6b)は非接触で且つ近接して装置本体に固定されており，給電装置(6)からの電力を回転軸側のリモートシステム(6a)を介してマイカヒータ(3)に非接触で給電するようになっている。」

「【図１】

」

（２）上記（１）から，上記引用文献３には次の発明（以下，「引用発明３」という。）が記載されていると認められる。

「搭載したウェハー基板を回転させ且つウェハー基板との接触部位を通じてウェハー基板を加熱するマイカヒータ(3)を備えた，レジスト塗布装置のスピンチャック(4)であって，

載置台(8)とその下面中心に垂設された回転軸(10)とで構成されており，

載置台(8)は，その上面にヒーター収納凹所が形成された本体部(8a)と，ヒーター収納凹所を閉塞するウェハー載置蓋(8b)とで構成されており，

ヒータ収納凹所の内部にマイカヒータ(3)が内蔵され，ウェハー載置蓋(8b)およびヒータ収納凹所に接触しており，

回転軸(10)はスピンモータ(20)により回転駆動されており，

給電装置(6)からの電力をマイカヒータ(3)に給電するようになっており，

給電装置(6)はリモートシステム(6a)(6b）を含んでおり，一対で構成されるリモートシステム(6a)(6b）は回転軸(10)と同軸にて設置されており，

リモートシステム(6a)(6b)は回転トランスの一種で，一方(6a)が回転軸(10)の軸端に一体的に装着されて回転軸(10)と共に回転し，他方(6b)は非接触で且つ近接して装置本体に固定されており，給電装置(6)からの電力を回転軸側のリモートシステム(6a)を介してマイカヒータ(3)に非接触で給電するようになっている，

スピンチャック(4)。」

（３）また，上記（１）から，上記引用文献３には次の技術的事項が記載されているものと認められる。

ア　ウェハー載置蓋８ｂは樹脂でもよい。

４　引用文献４について

（１）引用文献４の記載

原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献４には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【０００１】

本開示は，アンテナモジュール，情報通信装置及び情報通信システムに関する。

【背景技術】

【０００２】

近年，非接触型ＩＣカードやＲＦＩＤ（Ｒａｄｉｏ　Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ　ＩＤｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）などの非接触の近接無線通信を行う通信装置が普及している。この近接無線通信の方法としては，例えば，アンテナコイルによる交流磁界を利用した磁界結合を用いたものや，板状の電極をアンテナとする電界結合を用いたものなどが知られている。」

「【０００５】

一方，データ通信ではなく電力伝送を非接触で行う非接触電力伝送も知られている。一般に非接触電力伝送は，受電装置と送電装置の両方にコイルを設け，電磁誘導や磁界共鳴などを利用することにより行われる。

【０００６】

さらに，非接触電力伝送コイルと近接無線通信アンテナとを一つの通信装置に備えることにより，非接触電力伝送及び近接無線通信の両方を行うことができる通信装置等の電子機器が知られている。

【０００７】

しかし，従来の通信装置において，非接触電力伝送コイルと近接無線通信アンテナは別個に配置されていた。したがって，非接触電力伝送及び近接無線通信の両方が使用可能になるためには，ユーザは非接触電力伝送コイル及び近接無線通信アンテナの両方について，位置合わせをする必要があった。

【０００８】

そのため，送信側又は受信側で位置合わせ後に通信装置の位置がずれたり，向きが回転したりした場合，非接触電力伝送及び近接無線通信のどちらか一方，又は両方が使用不可能となっていた。

【０００９】

そこで，本開示では，送信側又は受信側の通信装置の向きが回転しても近接無線通信と非接触電力伝送の両方を使用することが可能な，新規かつ改良されたアンテナモジュール，情報通信装置及び情報通信システムを提案する。」

「【００９７】

（２．４．３．変形例３）

続いて，図１４を参照して変形例３のアンテナモジュール５０－３の説明を行う。図１４に示すように，変形例３のアンテナモジュール５０－３は，第１誘電体基板５０１と，第１近接無線通信アンテナ５１０と，第１非接触電力伝送コイル５２０と，第２誘電体基板５０３と，第２近接無線通信アンテナ５１２と，第２非接触電力伝送コイル５２２と，回転軸５４０と，ベアリング５４２と，第３誘電体基板５０５と，スペーサ５０９と，を備える。

【００９８】

変形例３のアンテナモジュール５０－３においても，第１近接無線通信アンテナ５１０，第１非接触電力伝送コイル５２０，第２近接無線通信アンテナ５１２及び第２非接触電力伝送コイル５２２のすべてが異なる平面上に形成されている。具体的には，第１誘電体基板５０１と第３誘電体基板５０５は，スペーサ５０９によって結合されており，第１誘電体基板５０１上に第１近接無線通信アンテナ５１０が形成され，第３誘電体基板５０５上に第１非接触電力伝送コイル５２０が形成されている。また，回転軸５４０と結合された第２誘電体基板５０３上の一方の面に第２近接無線通信アンテナ５１２が形成され，一方の面の反対の面に第２非接触電力伝送コイル５２２が形成されている。

【００９９】

また，第３誘電体基板５０５と回転軸５４０との間にベアリング５４２が備えられている。したがって，第１近接無線通信アンテナ５１０及び第１非接触電力伝送コイル５２０側に対して，第２近接無線通信アンテナ５１２及び第２非接触電力伝送コイル５２２側が，近接無線通信及び非接触電力伝送を行いつつ，無限回転することが可能になっている。変形例３のアンテナモジュール５０－３は，変形例１及び２のアンテナモジュール５０－１及び５０－２に対して，誘電体基板を１枚減らすことができるので，構造を単純化することが可能である。」

「【図１４】

」

（２）上記（１）から，上記引用文献４には次の技術的事項が記載されているものと認められる。

ア　送信側又は受信側の通信装置の向きが回転しても近接無線通信と非接触電力伝送の両方を使用することが可能な情報通信システムを提供することを目的とする。

イ　第３誘電体基板５０５上に第１非接触電力伝送コイル５２０が形成され，回転軸５４０と結合された第２誘電体基板５０３上には第２非接触電力伝送コイル５２２が形成されている。

ウ　第１非接触電力伝送コイル５２０側に対して，第２非接触電力伝送コイル５２２側が，非接触電力伝送を行いつつ，無限回転することが可能になっている。

５　引用文献５について

原査定において，周知技術を示す文献として引用された上記引用文献５には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【００２８】パンチングプレート４４の下方には，処理対象のウエハＷをパンチングプレート４４に対向させた状態で水平に保持するホットプレート４５が配置されている。このホットプレート４５の内部には，ウエハＷを所定の温度（たとえば，４０℃～８０℃）で加熱するためのヒータ４５ｂが設けられている。さらに，ホットプレート４５は，モータ等を含む回転駆動機構４６によってウエハＷの中心を通る鉛直軸ＯＷ（以下，回転軸ＯＷという）まわりに回転（自転）される回転軸４７の上端に固定されている。また，ホットプレート４５の上面４５ａには，ウエハＷを取り囲むような円環状のリング部材Ｒが取付られているが，この詳細については後述する。」

「【００４５】また，上述の実施形態では，ウエハＷを平面状の上面４５ａ上に直接載置して保持しているが，ウエハＷを上面４５ａ上から，複数のピンなどによって所定間隔だけ離した状態で保持してもよい。また，この上面４５ａは，上述の実施形態では，ウエハＷ下面に沿うような平面であるが，なだらかな曲面であってもよい。」

６　引用文献６について

原査定において，周知技術を示す文献として引用された上記引用文献６には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【００２２】

本実施の形態では，ウエハ２は，ピン状のウエハ支持部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの上に４点支持されており，下部ホットプレート５２ ，５４の表面に数ミリと近接して置かれ，主として熱輻射と間の空気による伝導・対流によって加熱されるようになっている。ウエハ支持部材の本数は少なくとも３本あればよいし，また４本以上あってもよい。図１ではウエハ支持部材６ｃ ，６ｄは見えない。ウエハ２の上面側にはホットプレート５０が配置され，ウエハ２の下面側には，ヒータを内蔵したホットプレート５２ ，５４が配置されている。これら上下２つのホットプレートはウエハ２上に形成されたレジスト膜などを外気からできるだけ遮断する役目も果たす。」

「【００２４】

ウエハ支持部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは，ウエハ支持ブロック１８を介してモータ１２に接続されており，モータ１２でウエハ支持ブロック１８を回転させることにより，ウエハ支持部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを回転させるが，ウエハ支持部材６ａ～６ｄが自由に下部ホットプレート５２，５４を突き抜けて自由に回転するようにウエハ支持部材溝２０が設けられている。モータ１２は，モータ制御回路１６に接続されており，これにより外部からの電気制御によりウエハ支持部材６ａ ，６ｂ，６ｃ，６ｄを自動的に回転させるため，ウエハ２を自動的に回転させることが可能となっており，これが本発明の一つの特徴となっている。下部ホットプレート（５２，５４）を貫通するウエハ支持部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと，それらを支持するウエハ支持ブロック１８と，モータ１２と，モータ制御回路１６とで，ウエハ回転機構５を構成している。また，ウエハ回転機構５を設けるために下部ホットプレートにウエハ支持部材溝２０が設けられている。図２では，ウエハ支持部材溝２０は１つであるが，ウエハ支持部材溝２０は，複数個設けても良い。そのようにすれば，ウエハ支持部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの本数を必要に応じてさらに増やすことが可能となる。」

７　引用文献７について

原査定において，周知技術を示す文献として引用された上記引用文献７には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【００５４】

ここで，図２によると，加熱アセンブリ２０の外周に隣接して突き出たピン１６の端部によってウエハＷが支持されていることがわかる。図２および図３の一点鎖線は，装置によって保持された時のウエハＷの位置を示しており，ウエハＷの下側は，小さい規定のギャップだけカバー２４から離間されている。

【００５５】

ウエハＷは，加熱アセンブリ２０の上方で中央に配置され，加熱アセンブリは，下にあるスピンチャックの回転軸を中心に配置されている。したがって，スピンチャック１０が，特定の直径のウエハＷを保持するよう設計されることは明らかである。本明細書に記載の実施形態において，その直径は３００ｍｍであり，これは，現在のシリコンウエハで一般的な直径である。しかしながら，装置は，もちろん，２００ｍｍおよび４５０ｍｍなど，他の直径の円板状物品を保持するよう設計されてもよい。」

８　引用文献８について

原査定において，周知技術を示す文献として引用された上記引用文献８には，図面とともに次の事項が記載されている。

「【０００８】本発明の別の特徴は，ウエハ上に物質の層を堆積するための装置に関するものであり，この装置は，堆積チャンバと，チャンバ内で回転のためのシャフト上に載置される円形のサセプタプレートと，チャンバ内へのガス流入口と，チャンバから外への排気口と，サセプタプレートを加熱するための手段とを備えている。サセプタプレートは，その上面から突き出る複数の支持ポストを有している。支持ポストは，支持ポスト上にウエハが置かれたときサセプタプレートの表面と間隔を置くことができるようなパターンに従った間隔を持って，配置される。」

第６　対比・判断

１　本願発明１について

（１）引用発明２を主引用発明とした検討

ア　対比

本願発明１と引用発明２とを対比すると，次のことがいえる。

（ア）引用発明２の「回転軸１２」は，本願発明１の「回転軸」に相当する。

（イ）本願発明１の「前記回転軸の先端に載置され且つ上面に支持ピンを介してウェーハを保持する回転テーブル」と引用発明２の「半導体ウェハが載置される」「ワークテーブル１７」とを対比する。

引用発明２は，「このワークテーブル１７に対して同軸一体に突設された回転軸１２」を具えるので，引用発明２の「半導体ウェハ」，「ワークテーブル１７」は，それぞれ本願発明１の「ウェーハ」，「回転テーブル」に相当する。

したがって，本願発明１と引用発明２とは，「前記回転軸の先端に載置され且つウェーハを保持する回転テーブル」を有する点で共通する。

（ウ）引用発明２の「回転軸駆動モータ１８」は，本願発明１の「前記回転軸に動力を供給する駆動モータ」に相当する。

（エ）本願発明１の「前記回転テーブル上又は内部であり且つ前記ウェーハの下部に前記ウェーハに空間を有する非接触状態で設けられた前記ウェーハを加熱するための加熱手段」と，引用発明２の「半導体ウェハに対するヒータ２１」とを対比する。

引用発明２では，「ヒータ２１」は，「ワークテーブル１７」に「組み込まれた」ものであるから，本願発明１と引用発明２とは，「前記回転テーブル内部に設けられた前記ウェーハを加熱するための加熱手段」を有する点で共通する。

（オ）本願発明１の「前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイルと，前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられ，且つ前記回転テーブルに取り付けられた回転テーブル側２次コイルと，前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてなる」と引用発明２の「一次側コイル３０」と，「交流電源２６」と，「二次側コイル２８」と，「ヒータ２１」と，を含む構成とを対比する。

ａ　まず，本願発明１の「前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイル」と，引用発明２の「一次側コイル３０」とを対比する。

引用発明２では，「微小な隙間を隔てて二次側鉄心２７と上下に対向するようにハウジング１１に装着された環状の一次側鉄心２９の上面側には，一次側コイル３０が巻回され」，「２次側鉄心２７」は「回転軸１２に一体的に嵌着された二次側鉄心２７」であるから，「一次側コイル３０」は，「回転軸の周囲に巻回された１次コイル」といえる。

また，引用発明２は，「回転軸１２に一体的に嵌着された二次側鉄心２７の下面側には二次側コイル２８が巻回され」たものであるから，「一次側コイル３０」は，「固定側１次コイル」といえる。

したがって，引用発明２の「一次側コイル３０」は，本願発明１の「前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイル」に対応する。

ｂ　引用発明２では，「一次側コイル３０には，ケーブル２５を介して交流電源２６が接続して」いるところ，「交流電源２６」は「電力供給源」といえるから，本願発明１の「前記固定側１次コイルに接続された電力供給源」に相当する。

ｃ　本願発明１の「前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられ，且つ前記回転テーブルに取り付けられた回転テーブル側２次コイル」と，引用発明２の「二次側コイル２８」とを対比する。

引用発明２では，「回転軸１２に一体的に嵌着された二次側鉄心２７の下面側には二次側コイル２８が巻回され」，「微小な隙間を隔てて二次側鉄心２７と上下に対向するようにハウジング１１に装着された環状の一次側鉄心２９の上面側には，一次側コイル３０が巻回され」たものであるところ，「二次側コイル２８」は，本願発明１の「回転テーブル側２次コイル」に相当するから，本願発明１の「固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられた回転テーブル側２次コイル」に相当する。

ｄ　引用発明２では，「ヒータ２１と前記二次側コイル２８とはケーブル２２を介して導通して」いるから，「前記加熱手段」について，本願発明１と引用発明２とは，「前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段」である点で一致する。

ｅ　引用発明２では，「交流電源２６からケーブル２５を介して一次側コイル３０に通電すると，二次側コイル２８に交流電流が誘導され，この誘導電流がケーブル２２を介してヒータ２１に供給される」から，これらの「一次側コイル３０」（固定側１次コイル）と，「交流電源２６」（電力供給源）と，「二次側コイル２８」（回転テーブル側２次コイル）と，「ヒータ２１」（前記加熱手段）と，を含む構成は，上記ｃを勘案すると，本願発明１の「回転テーブル用非接触電力供給機構」に対応するといえる。したがって，本願発明１と引用発明２とは，当該「回転テーブル用非接触電極機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてなる」ものである点で一致する。

ｆ　そうすると，上記ａ～ｅから，本願発明１と引用発明２とは，「前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイルと，前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，　前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられた回転テーブル側２次コイルと，前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてな」る点で共通する。

（カ）引用発明２の「ウェハ回転装置」は，上記（ア）～（オ）のとおり，ウェハを加熱し保持するものであるので，本願発明１の「ウェーハ回転保持装置の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構」に相当する。

したがって，本願発明１と引用発明２との間には，次の一致点，相違点があるといえる。

＜一致点＞

「ウェーハ回転保持装置の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構であって，

回転軸と，

前記回転軸の先端に載置され且つウェーハを保持する回転テーブルと，

前記回転軸に動力を供給する駆動モータと，

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前記回転テーブル上又は内部に設けられ，前記ウェーハを加熱するための加熱手段と，

を有し，

前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイルと，

前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，

前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられた回転テーブル側２次コイルと，

前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，

を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてなる，

回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構。」

＜相違点＞

（相違点１）

本願発明１の回転テーブルは，「上面に支持ピンを介してウェーハを保持」するものであるのに対し，引用発明２では，支持ピンについて記載されていない点。

（相違点２）

本願発明１の回転テーブルに設けられた加熱手段が「ウェーハの下部にウェーハに空間を有する非接触状態で設けられ」るものであるのに対し，引用発明２では，そのような特定はなされていない点。

（相違点３）

本願発明１の「回転テーブル側２次コイル」は，「回転テーブルに取り付けられた」ものであるのに対し，引用発明２の「二次側コイル２８」について，そのような特定はなされていない点。

（相違点４）

本願発明１は「前記加熱手段上に樹脂シートが設けられてなる」のに対し，引用発明２にはそのような記載がない点。

イ　相違点についての判断

事案に鑑み，最初に上記相違点３について検討する。

引用文献４には，回転軸５４０と結合された第２誘電体基板５０３上に第２非接触電力伝送コイル５２２が形成され，第１非接触電力伝送コイル５２０に対して，非接触電力伝送を行いつつ，無限回転することが可能なものが記載されている。

しかし，引用文献４に記載された発明は，情報通信システムであり，引用発明２とは技術分野が同一でない。さらに，引用文献４に記載された発明の「第２誘電体基板５０３」は半導体ウェハを保持するものでもなく，加熱するものでもない。

したがって，当業者といえども，引用発明２及び引用文献４に記載された技術的事項から，相違点３に係る，「回転テーブル側２次コイル」は，「回転テーブル」に取り付けられているとの構成を容易に想到することはできない。

また，引用文献１，３，５－８のいずれにも，回転テーブルにコイルを設け，非接触電力供給機構を構成することについて，記載されておらず，引用発明２において「回転軸１２」に取り付けられた「二次側コイル２８」を「ワークテーブル１７」に取り付けるように取り付け位置を変更する動機はない。

ウ　小括

上記ア，イのとおりであるから，他の相違点については検討するまでもなく，本願発明１は当業者であっても引用発明２と引用文献１～８に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。

（２）引用発明３を主引用発明とした検討

ア　対比

本願発明１と引用発明３とを対比すると，次のことがいえる。

（ア）引用発明３の「回転軸(10)」は，本願発明１の「回転軸」に相当する。

（イ）本願発明１の「前記回転軸の先端に載置され且つ上面に支持ピンを介してウェーハを保持する回転テーブル」と引用発明３の「載置台(8)」とを対比する。

引用発明３は，「載置台(8)とその下面中心に垂設された回転軸(10)」を有し，「ウェハー基板」が搭載されるものであるので，引用発明３の「ウェハー基板」，「載置台(8)」は，それぞれ本願発明１の「ウェーハ」，「回転テーブル」に相当する。

したがって，本願発明１と引用発明２とは「前記回転軸の先端に載置され且つ上面にウェーハを保持する回転テーブル」を有する点で共通する。

（ウ）引用発明３の「スピンモータ(20)」は，「回転軸(10)」を回転させるものであるので，本願発明１の「前記回転軸に動力を供給する駆動モータ」に相当する。

（エ）本願発明１の「前記回転テーブル上又は内部であり且つ前記ウェーハの下部に前記ウェーハに空間を有する非接触状態で設けられた前記ウェーハを加熱するための加熱手段」と，引用発明３の「ウェハー基板との接触部位を通じてウェハー基板を加熱するマイカヒータ(3)」とを対比する。

引用発明３において，「マイカヒータ(3)」は，「載置台(8)は，その上面にヒーター収納凹所が形成された本体部(8a)と，ヒーター収納凹所を閉塞するウェハー載置蓋(8b)とで構成されており，ヒータ収納凹所の内部にマイカヒータ(3)が内蔵され，ウェハー載置蓋(8b)およびヒータ収納凹所に接触して」いることから，「載置台(8)」の内部に設けられているといえる。

したがって，本願発明１と引用発明３とは「前記回転テーブル上又は内部」に「設けられた前記ウェーハを加熱するための加熱手段」を有する点で共通する。

（オ）本願発明１の「前記回転軸の周囲に巻回された固定側１次コイルと，前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられ，且つ前記回転テーブルに取り付けられた回転テーブル側２次コイルと，前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてな」る点と，引用発明３の「給電装置(6)」と，「リモートシステム(6a)(6b）」と，「マイカヒータ(3)」と，を含む構成とを対比する。

ａ　本願発明１の「前記固定側１次コイルに接続された電力供給源」に関して，引用発明３においても，「リモートシステム(6a)(6b)は回転トランスの一種で，一方(6a)が回転軸(10)の軸端に一体的に装着されて回転軸(10)と共に回転し，他方(6b)は非接触で且つ近接して装置本体に固定されており，給電装置(6)からの電力を回転軸側のリモートシステム(6a)を介してマイカヒータ(3)に非接触で給電する」ものであることから，「リモートシステム(6b）」と接続される「電力」を供給する供給源を有していると認められる。

また，引用発明３において「リモートシステム(6a)(6b)は回転トランスの一種で」あり，「(6b)は」「装置本体に固定されて」いることから，引用発明３の「リモートシステム(6b)」は本願発明１の「固定側１次コイル」に相当する。

したがって，本願発明１と引用発明３とは「前記固定側１次コイルに接続された電力供給源」を有する点で一致する。

ｂ　本願発明１の「前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられ，且つ前記回転テーブルに取り付けられた回転テーブル側２次コイル」と，引用発明３の「リモートシステム(6a)」とを対比する。

引用発明３の「リモートシステム(6a)」は，「一方(6a)が回転軸(10)の軸端に一体的に装着されて回転軸(10)と共に回転し，他方(6b)は非接触で且つ近接して装置本体に固定されて」いることから，「リモートシステム(6b)」に対応して所定距離離間して設けられているといえる。

また，引用発明３の「リモートシステム(6a)」は「回転軸(10)の軸端に一体的に装着され」ているものであることから，本願発明１の「回転テーブル側２次コイル」に相当する。

したがって，本願発明１と引用発明３とは「前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられた回転テーブル側２次コイル」を有する点で共通する。

ｃ　引用発明３の「マイカヒータ(3)」は，「給電装置(6)からの電力を回転軸側のリモートシステム(6a)を介して」給電されるものであるから，「前記加熱手段」について，本願発明１と引用発明３とは，「前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段」である点で一致する。

ｄ　引用発明３では，「給電装置(6)からの電力を回転軸側のリモートシステム(6a)を介してマイカヒータ(3)に非接触で給電するようになっている」ことから，これらの「リモートシステム(6b)」（固定側１次コイル）と，「リモートシステム(6a)」（回転テーブル側２次コイル）と，「マイカヒータ(3)」（前記加熱手段）と，を含む構成は，本願発明１の「回転テーブル用非接触電力供給機構」に対応するといえる。したがって，本願発明１の引用発明３とは，「回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてな」るものである点で，共通する。

ｅ　そうすると，上記ａ～ｄから，本願発明１の引用発明３とは，「固定側１次コイルと，前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられた回転テーブル側２次コイルと，前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてな」る点で共通する。

（カ）引用発明３の「スピンチャック(4)」は，上記（ア）～（オ）のとおり，「ウェハー基板」を加熱し保持するものであるので，本願発明１の「回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構」に相当する。

（キ）引用発明３の「レジスト塗布装置」は，「スピンチャック(4)」を備える装置であるので，本願発明１の「ウェーハ回転保持装置」に相当する。

したがって，本願発明１と引用発明３との間には，次の一致点，相違点があるといえる。

＜一致点＞

「ウェーハ回転保持装置の回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構であって，

回転軸と，

前記回転軸の先端に載置され且つウェーハを保持する回転テーブルと，

前記回転軸に動力を供給する駆動モータと，

続きを表示（全12行）

前記回転テーブル上又は内部に設けられ，前記ウェーハを加熱するための加熱手段と，

を有し，

固定側１次コイルと，

前記固定側１次コイルに接続された電力供給源と，

前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられた回転テーブル側２次コイルと，

前記回転テーブル側２次コイルに接続された前記加熱手段と，

を含む回転テーブル用非接触電力供給機構を用い，電磁誘導により前記２次コイルを介して前記加熱手段に電力が供給されてなる，

回転テーブル用ウェーハ加熱保持機構。」

＜相違点＞

（相違点１）

本願発明１の回転テーブルは，「上面に支持ピンを介してウェーハを保持」するものであるのに対し，引用発明３では，支持ピンについて記載されていない点。

（相違点２）

本願発明１の回転テーブルに設けられた加熱手段が「ウェーハの下部にウェーハに空間を有する非接触状態で設けられ」るものであるのに対し，引用発明３では，そのような特定はなされていない点。

（相違点３）

本願発明１の「固定側１次コイル」は「前記回転軸の周囲に巻回され」ているのに対し，引用発明３では，「リモートシステム(6b)」は，「回転軸１０」の周囲に設けられていることについて，特定されていない点。

（相違点４）

本願発明１の「回転テーブル側２次コイル」は，「回転テーブルに取り付けられた」ものであるのに対し，引用発明３の「リモートシステム(6a)」について，そのような特定はなされていない点。

（相違点５）

本願発明１は「前記加熱手段上に樹脂シートが設けられてなる」のに対し，引用発明３にはそのような記載がない点。

イ　相違点についての判断

事案に鑑み，最初に上記相違点４について検討する。

引用文献４には，回転軸５４０と結合された第２誘電体基板５０３上に第２非接触電力伝送コイル５２２が形成され，第１非接触電力伝送コイル５２０に対して，非接触電力伝送を行いつつ，無限回転することが可能なものが記載されている。

しかし，引用文献４に記載された発明は，情報通信システムであり，引用発明３とは技術分野が同一でない。さらに，引用文献４に記載された発明の「第２誘電体基板５０３」は半導体ウェハを保持するものでもなく，加熱するものでもない。

したがって，当業者といえども，引用発明３及び引用文献４に記載された技術的事項から，相違点４に係る，「回転テーブル側２次コイル」は，「回転テーブル」に取り付けられているとの構成を容易に想到することはできない。

また，引用文献１，２，５－８のいずれにも，回転テーブルにコイルを設け，非接触電力供給機構を構成することについて，記載されておらず，引用発明３において「回転軸(10)」に取り付けられた「リモートシステム(6a)」を「載置台(8)」に取り付けるように取り付け位置を変更する動機はない。

ウ　小括

上記ア，イのとおりであるから，他の相違点については検討するまでもなく，本願発明１は当業者であっても引用発明３と引用文献１～８に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。

２．本願発明２－５について

本願発明２－５は，本願発明１の発明特定事項を全て含み，さらに限定したものであるから，本願発明１が，引用発明２と引用文献１－８に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえず，引用発明３と引用文献１－８に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえないことから，本願発明２－５も，引用発明２と引用文献１－８に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえず，引用発明３と引用文献１－８に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。

第７　原査定について

１．理由１（特許法第２９条第２項）について

本願発明１－５は「前記固定側１次コイルに対応して所定距離離間して設けられ，且つ前記回転テーブルに取り付けられた回転テーブル側２次コイル」を有するものであり，上記第６で判断したとおり，当業者であっても，拒絶査定において引用された引用文献１－８に基づいて，容易に発明できたものとはいえない。したがって，原査定の理由１を維持することはできない。

第８　むすび

以上のとおり，原査定の理由によっては，本願を拒絶することはできない。

また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。

よって，結論のとおり審決する。