2018-015213

特願２０１４－１７３３８０「真空蒸着装置用マニホールド」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年　６月１１日出願公開、特開２０１５－１０８１８５、請求項の数（４）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 １　手続の経緯 本願は、平成２６年８月２８日（優先権主張　平成２５年１０月２４日）の出願であって、平成３０年２月２８日付けで拒絶理由が通知され、同年５月２日付けで手続補正がされ、同年１０月２４日付けで拒絶査定（原査定）がされ、これに対して、同年１１月１６日に拒絶査定不服審判の請求がされると同時に手続補正がされたものである。 ２　原査定の理由の概要 原査定（平成３０年１０月２４日付け拒絶査定）の理由の概要は次のとおりである。 本願請求項２及び４に係る発明は、下記の引用文献２に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、あるいは、下記の引用文献２に記載された発明に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。 （引用文献一覧） 引用文献２　国際公開第２０１３／１２５５９８号 ３　本願発明について 本願請求項１～４に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」～「本願発明４」という。）は、平成３０年１１月１６日付けで手続補正された特許請求の範囲の請求項１～４に記載された事項により特定される次のとおりのものであると認める。 「　【請求項１】 一定速度で移動される被蒸着基材に対向して配置され、対向面に設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、 単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、前記ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、 被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズル及び後方のノズル列の放出用ノズルを、被蒸着基材の移動方向に対向して配置し、 放出用ノズルは、ノズル内径：Ｄ（ｍｍ）、ノズル長さ：Ｌ（ｍｍ）、ノズル口の口径：Ｄ’（ｍｍ）とすると、 Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ２／Ｌを満足し、 Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３を満足する ことを特徴とする真空蒸着装置用マニホールド。 【請求項２】 一定速度で移動される被蒸着基材に対向して配置され、対向面に設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、 単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、 被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズルに対して、後方のノズル列の放出用ノズル位置を、ノズルピッチの１／２ずらした千鳥位置に配置し、 放出用ノズルは、ノズル内径：Ｄ（ｍｍ）、ノズル長さ：Ｌ（ｍｍ）、ノズル口の口径：Ｄ’（ｍｍ）とすると、 Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ２／Ｌを満足し、 Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３を満足する ことを特徴とする真空蒸着装置用マニホールド。 【請求項３】 各ノズル列における放出用ノズルのノズルピッチ：Ｐ、ノズル口の口径：Ｄ’、ノズル口と被蒸着基材との蒸着距離：Ｓとすると、 Ｄ’＜Ｐ＜１．１１×Ｓとした ことを特徴とする請求項１または２記載の真空蒸着装置用マニホールド。 【請求項４】 被蒸着基材の幅に対応して、複数のノズル列のうちの少なくとも１つのノズル列で、端部側の放出用ノズルのノズル口を閉鎖する閉鎖プラグを取り付けた ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の真空蒸着装置用マニホールド。」 ４　引用文献について （１）引用文献２の記載事項（下線は当審が付した。） ア　「［００２１］　まず、図１は、本実施形態に係るフッ素含有有機ケイ素化合物薄膜製造装置の上面図を模式的に記載したものであり、図２は、図１のＡ－Ａ´線での横断面図を示したものである。 ［００２２］　本実施形態のフッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造装置１０は、チャンバー１１（より具体的には、真空チャンバー）と、フッ素含有有機ケイ素化合物１２を加熱する加熱容器１３とを備えている。そして、チャンバー１１内に設けられ、加熱容器１３と接続され、基材に対してフッ素含有有機ケイ素化合物を供給する複数のノズル１５とを備えている。さらに、複数のノズル１５と基材１７の被成膜面とが対向するように前記基材を搬送する基材搬送機構１８と、を備えており、前記複数のノズル１５は、前記基材搬送機構１８による前記基材の搬送方向を横断するようにライン状に配置されている。 ・・・ ［００３０］　加熱容器と複数のノズルとを接続するフッ素含有有機ケイ素化合物供給経路（すなわち、配管）１４についても、形状、材質は特に限定されるものではなく、要求される成膜速度、ノズルの数等により選択することができる。例えば、マニホールドにより構成することもできるし、各ノズルと加熱容器とを個別に接続する複数の配管から構成することもできる。また、加熱容器から各ノズルに至るまでの間に、加熱容器内で気体になったフッ素含有有機ケイ素化合物が凝縮しないように、フッ素含有有機ケイ素化合物供給経路１４も加熱することが好ましい。 ［００３１］　次にノズル１５の配置について図３を用いて説明する。 ［００３２］　ノズル１５は、基材１７の搬送方向（すなわち、図中矢印で示した方向）を横断するようにライン状に、かつ基材の搬送方向と垂直方向の幅よりも広い範囲で、配置されている。ノズルは、例えば図３に示すように１列に配置することができる。この際、ノズルの列の数については特に限定されるものではなく、使用するフッ素含有有機ケイ素化合物の種類、基材搬送装置の搬送速度、成膜条件等により規定することができる。 本発明における上記したノズルのライン状の配置とは、前記基材の搬送方向と直角に、あるいは所定角度をもって、搬送方向横断するように１列ないし複数列の直線状であってもよい。複数列のノズル使用の場合、列ごとにノズル位置を一定位相でずらすことで、全基材内の膜厚分布をより均一に制御できる。 ［００３３］　また、ノズルの間隔、配置、開口径については限定されるものではないが、基材上の被成膜領域を均一に成膜できるように選択されることが好ましい。 ［００３４］　また、ノズルは基材の被成膜面と対向するように配置されている。・・・」 イ　「実施例 ［０１０４］　以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 ［０１０５］　本実施例においては、ＳＰＤ－８５０ＶＴインラインスパッタ装置（株式会社アルバック製）に面蒸着源（リニアソース蒸着源）（日立造船株式会社製）を設置した成膜装置を使用して実験を行った。面蒸着源は、基材の搬送方向を横切るように（すなわち、基材の搬送方向に対して垂直方向に）、ノズルが直線状に２列に配置され、各ノズルの開口径や配置は、成膜した際に得られる薄膜が、基材の高さ方向５５０ｍｍの範囲内での膜厚分布が１０％以内に収まるように設計されている。 ［０１０６］　基材搬送機構は、基材と面蒸着源のノズルとの間の距離が５０ｍｍに保つように配置した。 ［０１０７］　用いた装置の概略は、図１、図２に示したものと同様であり、基材を鉛直方向に保持し基材搬送機構により面蒸着源を備えた有効成膜領域へと搬送、供給し、成膜処理を行うものである。 （ガラス基板への防汚膜の成膜） まず、蒸着材料であるフッ素含有有機ケイ素化合物として、溶媒で希釈されていない（すなわち、溶媒を含まない）ＫＹ１７８（商品名、信越化学工業株式会社製）５０ｇを成膜装置の加熱容器である、ＳＵＳ３０４製のるつぼに導入した。 ［０１０８］　このとき、るつぼへのフッ素含有有機ケイ素化合物の供給は大気中で実施した。このため、フッ素含有有機ケイ素化合物が大気暴露されてから１５分以内に、るつぼ内を真空ポンプで５×１０－２Ｐａ以下の圧力まで真空排気した。 次いで、るつぼを２００℃まで加熱した。２００℃に到達した後、各ノズルから、フッ素含有有機化合物を供給し、各ノズルと基材の被成膜面とが対向するように基材を基材搬送機構により搬送した。 ［０１０９］　基材としては１００ｍｍ角、厚さ１．１ｍｍのガラス基板（商品名：ドラゴントレイル基板　旭硝子株式会社製）を用いた。ガラス基板は、図５に示すように、高さ方向（図５中Ｙで示す矢印方向）には８５０ｍｍ幅内に、また搬送方向５３と水平な方向（図５中Ｘで示す矢印方向）には１２００ｍｍ幅のキャリア５１内に、１００ｍｍ角のガラス基板５２を複数枚配置したものを、鉛直方向に保持した状態で、基材搬送機構により面蒸着源へ搬送、通過させことによって成膜処理を行った。 ［０１１０］　そして、ガラス基板が成膜領域（有効成膜領域）中を９００ｍｍ／ｍｉｎの速度で通過した際に、ガラス基板表面に成膜された膜厚がおよそ１２ｎｍ程度になるように蒸着量を調整して成膜処理を行った。 ［０１１１］　蒸着量の調整は、面蒸着源が設置された真空チャンバー内に設けられたクリスタル振動子モニターにより蒸着量を測定し、加熱容器とノズルとを結ぶ配管上に設けられたバルブの開度を可変制御することで行った。また、バルブ開度を８０％まで開いても所望の蒸着量が得られない場合には、るつぼ温度を１０℃上昇させた。 ［０１１２］　蒸着量の調整は継続しながら、９００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度にて基板搬送を行い、連続的にガラス基板を供給して、フッ素含有有機ケイ素化合物からなる防汚膜が成膜されたガラス基板を作製した。結果として、成膜開始から５３時間後には、るつぼ温度が２９０℃まで上昇して、バルブ開度が８０％になっても所望の蒸着量が得られなくなったので、成膜を終了した。」 ウ　「［図１］ ［図２］ ［図３］ 」 （上記アに摘示した記載を参酌すると、図１～図３から、加熱容器１３と複数のノズル１５とを接続する蒸着材料の供給経路１４の一部はマニホールドから構成され、複数のノズル１５は、当該マニホールドの基板１７に対向する面に、基板１７の幅方向（搬送方向を横断する方向）に間隔をあけてライン状に突設して配置されていることが見て取れる。） （２）引用文献２に記載された発明 上記（１）ア～ウに摘示した記載を、実施例の「面蒸着源」に注目して整理すると、引用文献２には、 「一定速度にて搬送されるガラス基板の被成膜面に対向して配置され、複数のノズルから蒸着材料を供給して、ガラス基板の表面に成膜させるインラインスパッタ装置に設置する面蒸着源であって、 面蒸着源は、マニホールドから構成され、 該マニホールドのガラス基板の対向面に、所定の開孔径を有する複数のノズルを、ガラス基板の幅方向に間隔をあけてライン状に突設して配置し、該ライン状に配置した複数のノズルが、搬送方向に間隔をあけて２列配置し、 列ごとのノズル位置を一定位相でずらして配置した、面蒸着源。」 の発明（以下、「引用２発明」という。）が記載されているといえる。 ５　原査定の理由に対する判断 （１）本願発明２について ア　本願発明２と引用２発明を対比すると、引用２発明の「ガラス基板」、「所定の開孔径を有する複数のノズル」、「搬送される」こと、「成膜される」ことは、それぞれ、本願発明２の「被蒸着基材」、「ノズル口を有する複数の放出用ノズル」、「移動される」こと、「被着される」ことに相当する。 また、引用２発明の「インラインスパッタ装置に設置する面蒸着源」は、マニホールドから構成されていることから、本願発明２の「インライン式の真空蒸着装置用マニホールド」に相当する。 さらに、引用２発明の「複数のノズルを、ガラス基板の幅方向に間隔をあけてライン状に突設して配置」すること、「該ライン状に配置された複数のノズルが、搬送方向に間隔をあけて２列配置」することは、それぞれ、本願発明２の「複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設ける」こと、「当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置」することに相当する。 そして、引用２発明の「列ごとのノズル位置」は、搬送方向に間隔をあけて２列配置された各列のノズル位置であることから、本願発明２の「被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズルに対して」の「後方のノズル列の放出用ノズル位置」に相当する。 したがって、本願発明２は、引用２発明と、 「一定速度で移動される被蒸着基材に対向して配置され、対向面に設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、 単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、 被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズルに対して、後方のノズル列の放出用ノズル位置を、ずらして配置した、 真空蒸着装置用マニホールド。」 の点で一致し、以下の点で相違している。 （相違点１） 前方のノズル列と後方のノズル列のノズル位置に関して、本願発明２では、「ノズル位置を、ノズルピッチの１／２ずらした千鳥位置に配置」しているのに対して、引用２発明では、「ノズル位置を一定位相でずらして配置」している点。 （相違点２） 本願発明２では、放出用ノズルが、「ノズル内径：Ｄ（ｍｍ）、ノズル長さ：Ｌ（ｍｍ）、ノズル口の口径：Ｄ’（ｍｍ）とすると、 Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ２／Ｌを満足し、 Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３を満足する」大きさであるのに対して、引用２発明では、その点が明らかでない点。 イ　事案に鑑み、まず、相違点２について検討する。 引用文献２には、引用２発明の放出用ノズルのノズル内径（Ｄ）、ノズル長さ（Ｌ）、及び、ノズル口の口径（Ｄ’）の具体的な数値は記載されておらず、また、引用２発明の放出ノズルが、「Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ２／Ｌ」及び「Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３」との関係式を満たす大きさであることは記載も示唆もされていないから、上記相違点２は実質的な相違点である。 そして、本願明細書の段落【００１６】及び【００３３】～【００３５】の記載によれば、本願発明２では、上記関係式を満たすことによって、ノズル口から放出される蒸発材料が、ｃｏｓｎθ則に従う広がりを持った拡散状態となるようにしているところ、引用文献２には、引用２発明の放出用ノズルのノズル口からの蒸発材料の拡散状態に関する記載もないから、引用文献２の記載に基づき、当業者が上記関係式を導き出せるものとはいえない。 したがって、相違点１について検討するまでもなく、本願発明２は、引用文献２に記載された発明であるといえないし、また、引用文献２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものともいえない。 ウ　また、原査定では、「なお、引用文献３（特開２００６－２２５７２５号公報）には、・・・、ｃｏｓｎθ則のｎ値が小さいほど指向性が弱くなる（拡がる）こと（段落［００２０］）、・・・等が記載されている。」ことを指摘している。 そこで、引用文献３の記載事項についても検討すると、引用文献３には、上記のとおり、ｃｏｓｎθ則のｎ値が小さいほど指向性が弱くなる（拡がる）こと（段落【００２０】）が記載されているものの、特許請求の範囲や段落【００２２】の記載からして、ｃｏｓｎθ則のｎ値が６以下の蒸発材料の放出を行うために、放出ノズルの口径φＤとオリフィス部材の口径φＤ’を、「０．１≦φＤ’／φＤ≦０．８」の関係を満足する大きさとすることが記載されているのみであり、ノズル長さ（Ｌ）を含めた「Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ２／Ｌ」及び「Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３」との関係については、記載も示唆もされていない。 したがって、引用文献３の記載を参酌したとしても、本願発明２は、引用文献２に記載された発明であるといえないし、また、引用文献２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものともいえない。 （２）本願発明４について 本願発明４は、本願発明２を更に減縮したものであるから、上記（１）と同様の理由により、引用文献２に記載された発明であるといえないし、また、引用文献２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものといえない。 ６　むすび 以上のとおり、原査定の理由によっては本願を拒絶することはできない。 他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。