2017-019025

第２　本願に係る発明

本願の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１７に係る発明（以下、「本願発明１」ないし「本願発明１７」という。）は、本願の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１７に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。

「【請求項１】

表示ユニットと、

この表示ユニットの上に設置される、導電性フイルムと、を備える表示装置であって、

前記導電性フイルムは、

続きを表示（全46行）

透明基体と、該透明基体の少なくとも一方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部と、を有し、

前記導電部は、前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有し、

前記配線パターンは、前記表示ユニットの画素配列パターンに重畳されており、

前記配線パターンは、少なくとも１視点において、その透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度と、前記画素配列パターンの透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されるモアレの周波数及び強度において、前記表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の各モアレの周波数における前記モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標が所定値以下であり、

前記所定値が、－１．７５であり、

前記評価指標は、常用対数で－１．７５以下であることを特徴とする表示装置。

【請求項２】

前記評価指標は、常用対数で－１．８９以下である請求項１に記載の表示装置。

【請求項３】

前記モアレの最高周波数は、前記表示ユニットの表示ピッチをｐ（μｍ）とする時、１０００／（２ｐ）で与えられる請求項１又は２に記載の表示装置。

【請求項４】

前記モアレの評価値は、前記モアレの周波数及び強度に、前記視覚応答特性として前記観察距離に応じた視覚伝達関数を畳み込み積分で重み付けを行うことによって求められる請求項１～３のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項５】

前記視覚伝達関数は、下記式（１）で与えられる視感度関数Ｓ（ｕ）である請求項４に記載の表示装置。

【数１】

…（１）

ここで、ｕは、空間周波数（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）であり、Ｌは、輝度（ｃｄ／ｍｍ２）であり、Ｘ０は、前記観察距離における前記表示ユニットの表示面の視野角（ｄｅｇ）であり、Ｘ０２は、前記観察距離において前記表示面が作る立体角（ｓｒ）である。

【請求項６】

前記モアレの評価指標は、１つの前記モアレの周波数に対して、前記観察距離に応じて重み付けされた複数の前記モアレの評価値の中の最も悪い評価値を用いて算出される請求項１～５のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項７】

前記モアレの評価指標は、前記１つの前記モアレの周波数に対して選択された前記最も悪い評価値を全ての前記モアレの周波数について合算した合算値である請求項６に記載の表示装置。

【請求項８】

前記モアレの周波数は、前記配線パターンの前記ピーク周波数と前記画素配列パターンの前記ピーク周波数との差分で与えられ、前記モアレの強度は、前記配線パターンの前記ピーク強度と前記画素配列パターンの前記ピーク強度との積で与えられる請求項１～７のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項９】

前記視覚応答特性を作用させるために選択されるモアレは、前記モアレの強度が－４以上の強度を持ち、前記最高周波数以下の周波数を持つモアレである請求項１～８のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１０】

前記ピーク強度は、前記スペクトルピークのピーク位置周辺の複数画素内の強度の合算値である請求項１～９のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１１】

前記ピーク強度は、前記ピーク位置周辺の７×７画素内の上位５位までの強度の合算値である請求項１０に記載の表示装置。

【請求項１２】

前記ピーク強度は、前記配線パターン及び前記画素配列パターンの前記透過率画像データで規格化されたものである請求項１～１１のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１３】

前記画素配列パターンは、ブラックマトリックスパターンである請求項１～１２のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１４】

前記画素配列パターンの前記２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク強度分布が対称である時、前記配線パターンは、対称なパターン形状を持つ請求項１～１３のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１５】

前記画素配列パターンの前記２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク強度分布が非対称である時、前記配線パターンは、非対称なパターン形状を持つ請求項１～１３のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１６】

前記金属細線が２μｍ～６μｍである請求項１～１５のいずれか１項に記載の表示装置。

【請求項１７】

前記表示ユニットの画素配列パターンの開口が所定角度で屈曲した帯状であり、

前記配線パターンの開口部が、菱形パターン、六角形パターン、正方格子パターン、及び非対称な平行四辺形パターンのいずれかである請求項１～１６のいずれかに記載の表示装置。」

なお、本願発明２ないし本願発明１７は、本願発明１の構成を全て含む。

第３　原査定の概要

本願の請求項１ないし請求項１７に係る発明は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。

第４　引用文献に記載された発明等

１　引用文献１

（１）引用文献１の記載

引用文献１には、以下の記載がある。下線は、当合議体が付した。

「【技術分野】

【０００１】

本発明は、プラズマディスプレイ等の表示装置に設置され、該表示装置から発生する電磁波をシールドする電磁波シールドパターンが形成された電磁波シールドフィルムの製造装置、電磁波シールドフィルムの製造方法及びモアレの発生を抑止することができるパターン生成方法に関する。

【背景技術】

【０００２】

近年、各種の電気設備や電子応用設備の利用の増加に伴い、電磁波障害（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）が急増している。ＥＭＩは、電子、電気機器の誤動作、障害の原因になるほか、これらの装置のオペレーターにも健康障害を与えることが指摘されている。このため、電子・電気機器では、電磁波放出の強さを規格又は規制内に抑えることが要求されている。

【０００３】

上記ＥＭＩの対策には電磁波をシールドする必要があるが、それには金属の電磁波を貫通させない性質を利用すればよい。

【０００４】

優れた透光性と高い電磁波遮断性を備えたプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用電磁波シールドフィルムとしては、金属メッシュをフィルム上に形成したものを使用する方法が一般に用いられる。しかし、このようなフィルムをＰＤＰに使用した場合には、ＰＤＰの画素パターンとの干渉によりモアレが発生する場合がある。」

「【発明が解決しようとする課題】

…（中略）…

【００１２】

本発明は、かかる事情に鑑みなされたものであり、モアレの発生を抑止でき、しかも、電磁波シールドフィルムの特性、特に、表面抵抗率の増大や透明性の劣化をも回避することができる電磁波シールドパターンを自動的に選定し、設置される表示装置に適合した電磁波シールドフィルムを製造することができる電磁波シールドフィルムの製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。

【００１３】

また、本発明の他の目的は、モアレの発生を抑止することができるパターン生成方法を提供することにある。」

「【発明を実施するための最良の形態】

【００２６】

以下、本発明に係る電磁波シールドフィルムの製造装置、電磁波シールドフィルムの製造方法及びパターン生成方法の実施の形態例を図１～図１７を参照しながら説明する。

【００２７】

本実施の形態に係る電磁波シールドフィルムの製造装置（以下、単に製造装置１０と記す）は、プラズマディスプレイ等の表示装置に設置され、該表示装置から発生する電磁波をシールドする電磁波シールドパターンが形成された電磁波シールドフィルムを製造するのに好適なものである。

【００２８】

電磁波シールドフィルム１２は、図１及び図２に示すように、透明支持体１４と、該透明支持体１４上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜、すなわち、電磁波シールドパターン１６とを有する。なお、電磁波シールドフィルム１２を構成するメッシュ状の導電性金属薄膜の電磁波シールドパターン１６と、後述する製造装置１０にてデータ処理される電磁波シールドパターンとを区別するために、製造装置１０にてデータ処理される電磁波シールドパターンを電磁波シールドパターンデータと記す。」

「【００４１】

判別部３６は、比較部３４にて得られた相対距離が所定の空間周波数を超えるかどうかを判別する。ここで、空間周波数と人間の視覚特性に基づくコントラスト感度をグラフ化すると図９のようになる。図９から空間周波数がｆａより高いとコントラスト感度が落ち、空間周波数がｆａより低いとコントラストは高くなっている。このことから、人間の目は空間周波数が高周波になるほどコントラストを知覚しにくくなり、モアレを視認されなくなることがわかる。

【００４２】

そこで、所定の空間周波数として、モアレを視認することができない臨界の空間周波数を候補として挙げ、この臨界の空間周波数として例えば８ｃｍ－１を設定した。従って、判別部３６では、比較部３４にて得られた相対距離が８ｃｍ－１を超えているかどうかを判別する。この８ｃｍ－１の数値は、表示装置の画素配列パターンのパターン形状によって変わるため、製造段階で、モアレが発生する臨界の空間周波数を調べ、例えば第１データベース４８に、対応する画素配列パターンのデータと共に登録しておいてもよい。この場合、第１入力部２４は、第１データベース４８から画素配列パターンデータを読み出す際に、対応する臨界の空間周波数の数値も読み出すようにし、この読み出した臨界の空間周波数の値を判別部３６に供給するようにしてもよい。判別部３６では、比較部３４にて得られた相対距離が、供給された臨界の空間周波数を超えているかどうかを判別することになる。」

「【００４７】

ここで、製造装置１０の処理動作について図１０のフローチャートを参照しながら説明する。

【００４８】

先ず、ステップＳ１において、第１入力部２４は、使用者による入力装置２２への操作入力に基づいて、第１データベース４８から今回対象となる表示装置の画素配列パターンデータを読み出して第１メモリ４６に記憶する。

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【００４９】

その後、ステップＳ２において、第２入力部２６は、使用者による入力装置２２への操作入力に基づいて、第２データベース５２から１つの電磁波シールドパターンデータを読み出して第２メモリ５０に記憶する。

【００５０】

その後、ステップＳ３において、第１演算部３０は、第１メモリ４６に記憶されている画素配列パターンデータをフーリエ変換し、画素配列パターンの二次元フーリエスペクトル（第１二次元フーリエスペクトル）を求め、第３メモリ６０に記憶する。

【００５１】

その後、ステップＳ４において、第２演算部３２は、第２メモリ５０に記憶されている電磁波シールドパターンデータをフーリエ変換し、電磁波シールドパターンデータの二次元フーリエスペクトル（第２二次元フーリエスペクトル）を求め、第４メモリ６２に記憶する。

【００５２】

その後、ステップＳ５において、比較部３４は、第３メモリ６０に記憶された第１二次元フーリエスペクトルと、第４メモリ６２に記憶された第２二次元フーリエスペクトルとを比較して、第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１ｉと第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２ｊの相対距離（図８参照）を求める。ここでｉ、ｊは０以上の整数で、第１、第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークをナンバリングしている。

【００５３】

その後、ステップＳ６において、判別部３６は、比較部３４にて得られた相対距離が所定の空間周波数を超えるかどうかを判別する。具体的には、比較部３４にて得られた相対距離が８ｃｍ－１を超えているかどうかを判別する。求められる相対距離の個数が多すぎる場合は、第１、第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークのうち、ピーク強度の弱いものに関しては予め判別の対象からはずしてもよい。ピーク強度の弱い第１、第２二次元フーリエススペクトルの組み合わせで発生するモアレはそもそもその強度が弱いからである。

【００５４】

相対距離が所定の空間周波数（臨界の空間周波数）を超えていないと判別された場合は、次のステップＳ７に進み、パターンデータ処理部３８での第１の処理に入る。すなわち、第２メモリ５０に記憶されている電磁波シールドパターンデータをパターン変形部２８に入力する。パターン変形部２８は、上述したように、入力された電磁波シールドパターンデータの回転角度、ピッチ、パターン幅のいずれか１つ以上を変化させて新たな電磁波シールドパターンデータとし、第２メモリ５０に上書きする。

【００５５】

その後、ステップＳ４以降の処理に戻り、第２メモリ５０に記憶されている新たな電磁波シールドパターンデータの二次元フーリエスペクトル（第２二次元フーリエスペクトル）を求め、さらに、第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１と第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２の相対距離を求め、得られた相対距離が所定の空間周波数（臨界の空間周波数）を超えるかどうかを判別する。

【００５６】

そして、ステップＳ６において、相対距離が所定の空間周波数を超えていると判別された場合は、ステップＳ８に進み、パターンデータ処理部３８での第２の処理に入る。すなわち、第２メモリ５０に記憶されている電磁波シールドパターンデータを記録媒体６４（光ディスク、ハードディスク等）に記憶する。

【００５７】

その後、ステップ９において、処理終了を示す要求があるか否かが判別される。この判別は、予め設定されたパターン変形部２８での処理手順が全て終了したかどうか、あるいは選定処理の終了要求があるかどうかで行われる。

【００５８】

処理終了の要求がなければ、ステップＳ７以降の処理に進み、パターン変形部２８での処理、第２演算部３２での処理、比較部３４での処理、判別部３６での処理が繰り返される。この繰り返し処理は、処理終了の要求があるまで行われ、ステップＳ８を処理するたびに、相対距離が８ｃｍ－１を超える様々な電磁波シールドパターンを有するデータが記録媒体６４に記憶されていく。

【００５９】

その後、ステップＳ１０において、第１パターン選択部４０は、記録媒体６４に記憶された複数の電磁波シールドパターンデータのうち、情報テーブル６６に登録された製造可能なピッチの範囲及びパターン幅の範囲を満足する１以上の電磁波シールドパターンデータを選択して記録媒体６４に記憶する。

【００６０】

その後、ステップＳ１１において、第２パターン選択部４２は、第１パターン選択部４０にて選択された１以上の電磁波シールドパターンデータのうち、入力装置２２からの操作入力に対応した１つの電磁波シールドパターンデータを選択して記録媒体６４の特定の記憶領域に記憶する。

【００６１】

このステップＳ１１での処理が終了した段階で、１つの電磁波シールドパターンデータが選定されることになる。

【００６２】

そして、製造ライン２１においては、選定された電磁波シールドパターンデータに基づいて電磁波シールドフィルム１２を製造する。」

【図１】

【図２】

【図１０】

（２）引用文献１に記載された発明

引用文献１の前記（１）の記載によれば、以下のことが認められる。

ア　引用文献１には、プラズマディスプレイ等の表示装置に設置され、表示装置から発生する電磁波をシールドする電磁波シールドパターンが形成された電磁波シールドフィルムの製造装置が記載されている（【０００１】）。

イ　電磁波シールドフィルム１２は、透明支持体１４と、透明支持体１４上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜である電磁波シールドパターン１６とを有する（【００２８】）。

ここで、前記アのとおり、電磁波シールドフィルム１２は、プラズマディスプレイ等の表示装置に設置されるものであるから、引用文献１には、プラズマディスプレイ等の表示装置とその表示装置に設置された電磁波シールドフィルム１２とからなる電磁波シールド付き表示装置も記載されているということができる。

ウ　電磁波シールドフィルム１２は、製造装置１０によって製造され、製造装置１０の処理動作は、具体的には以下のとおりである（【００２７】、【００２８】、【００４７】、図１０）。

（ア）表示装置の画素配列パターンデータを第１メモリ４６に記憶し、１つの電磁波シールドパターンデータを第２メモリ５０に記憶する（【００４８】、【００４９】）。

（イ）第１メモリ４６に記憶されている画素配列パターンデータをフーリエ変換し、画素配列パターンの二次元フーリエスペクトル（第１二次元フーリエスペクトル）を求め、第３メモリ６０に記憶する（【００５０】）。

（ウ）第２メモリ５０に記憶されている電磁波シールドパターンデータをフーリエ変換し、電磁波シールドパターンデータの二次元フーリエスペクトル（第２二次元フーリエスペクトル）を求め、第４メモリ６２に記憶する（【００５１】）。

（エ）第３メモリ６０に記憶された第１二次元フーリエスペクトルと、第４メモリ６２に記憶された第２二次元フーリエスペクトルとを比較して、第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１ｉと第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２ｊの相対距離を求める（【００５２】）。

（オ）得られた相対距離がモアレを視認できない臨界の空間周波数である所定の空間周波数を超えているかどうかを判別し、超えていると判別された場合は、第２メモリ５０に記憶されている電磁波シールドパターンデータを記録媒体６４に記憶する（【００４２】、【００５３】、【００５６】）。

（カ）記録媒体６４に記憶された複数の電磁波シールドパターンデータのうち、製造可能な１以上の電磁波シールドパターンデータを選択して記録媒体６４に記憶し、記憶された１以上の電磁波シールドパターンデータのうち、１つの電磁波シールドパターンデータを選択して記録媒体６４の特定の記憶領域に記憶し、この段階で１つの電磁波シールドパターンデータが選定される（【００５９】ないし【００６１】）。

（キ）選定された電磁波シールドパターンデータに基づいて電磁波シールドフィルム１２を製造する（【００６２】）。

ここで、製造された電磁波シールドフィルム１２の電磁波シールドパターン１６は、選定された電磁波シールドパターンデータに対応することが明らかである。また、製造された電磁波シールドフィルム１２は、当然、それを製造する際に用いた表示装置の画素配列パターンデータに対応する画素配列パターンを有する表示装置に設置されることになる。

エ　前記ウ（ア）ないし（キ）をまとめると、製造装置１０によって製造される電磁波シールド１２は、それが設置された表示装置の画素配列パターンをフーリエ変換して得られる第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１ｉと、電磁波シールドパターン１６をフーリエ変換して得られる第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２ｉとの相対距離が、モアレを視認できない臨界の空間周波数である所定の空間周波数を超えていることになる。

オ　前記イ及びエから、引用文献１には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。

「プラズマディスプレイ等の表示装置とその表示装置に設置された電磁波シールドフィルム１２とからなる電磁波シールド付き表示装置であって、

電磁波シールドフィルム１２は、透明支持体１４と、透明支持体１４上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜である電磁波シールドパターン１６とを有し、

電磁波シールドパターン１６は、表示装置の画素配列パターンをフーリエ変換して得られる第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１ｉと、電磁波シールドパターン１６をフーリエ変換して得られる第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２ｉとの相対距離が、モアレを視認できない臨界の空間周波数である所定の空間周波数を超えている

電磁波シールド付き表示装置。」

２　引用文献２

引用文献２の【０１４２】、【０１５４】ないし【０１５８】、図１３及び図１４の記載によれば、引用文献２には、基材１２に粘着層１３を介して導電層パターン１１を貼り合わせた電磁波遮蔽部材において、導電層パターンのライン幅を遮蔽効果の観点から１μｍ以上とし、非視認性の観点から２５μｍ以下とすることが好ましく、ライン間隔を可視光透過率の観点から１２０μｍ以上とし、電磁波遮蔽性の観点から１０００μｍ以下とすることが好ましい旨の記載がある。

３　引用文献３

引用文献３の【００２５】、【００２６】、【００３６】及び【００４８】の記載によれば、引用文献２には、画素ピッチが１６８μｍ×１６８μｍの液晶表示装置が記載されている。

第５　対比・判断

１　本願発明１について

（１）対比

本願発明１と引用発明とを対比すると、以下のとおりである。

ア　引用発明の「プラズマディスプレイ等の表示装置」は、本願発明１の「表示ユニット」に相当する。

イ　本願発明１の「導電性フィルム」は、本願の明細書に「表示装置…の表示ユニット上に設置される導電性フイルムとして、例えば電磁波シールド用の導電性フイルムやタッチパネル用の導電性フイルム等が挙げられる…。」（【０００２】）と記載されているとおり、電磁波シールド用の導電性フィルムを含むから、引用発明の「電磁波シールドフィルム１２」は、本願発明１の「導電性フィルム」に相当する。

ウ　前記ア及びイを踏まえると、引用発明の「プラズマディスプレイ等の表示装置とその表示装置に設置された電磁波シールドフィルム１２とからなる電磁波シールド付き表示装置」は、本願発明１の「表示ユニットと、」「この表示ユニットの上に設置される、導電性フイルムと、を備える表示装置」に相当する。

エ　引用発明の「透明支持体１４」は、本願発明１の「透明基体」に相当する。

オ　引用発明の「透明支持体１４上に形成された」「導電性金属薄膜」と、本願発明１の「該透明基体の少なくとも一方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部」とは、「該透明基体の少なくとも一方の面に形成された導電部」である点で共通するから、引用発明の「透明支持体１４と、透明支持体１４上に形成された」「導電性金属薄膜」「とを有」する「電磁波シールドフィルム１２」と、本願発明１の「透明基体と、該透明基体の少なくとも一方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部と、を有」する「導電性フイルム」とは、「透明基体と、該透明基体の少なくとも一方の面に形成された導電部と、を有」する「導電性フイルム」である点で共通する。

カ　引用発明の「電磁波シールドパターン１６」は、本願発明１の「配線パターン」に相当し、引用発明の「導電性金属薄膜」が「メッシュ状の」ものであり、しかも、「電磁波シールドパターン１６」であることは、本願発明１の「導電部」が「メッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有」することに相当する。

キ　前記アを踏まえると、引用発明の「表示装置の画素配列パターン」は、本願発明１の「表示ユニットの画素配列パターン」に相当する。

ク　引用発明の「電磁波シールドフィルム１２」は、「プラズマディスプレイ等の表示装置」「に設置された」ものであるから、「電磁波シールドフィルム１２」の「電磁波シールドパターン１６」が「表示装置の画素配列パターン」と重畳されていることは明らかである。これは、本願発明１の「配線パターン」が「表示ユニットの画素配列パターンに重畳されて」いることに相当する。

（２）一致点及び相違点

前記（１）の対比の結果をまとめると、本願発明１と引用発明との一致点及び相違点は、以下のとおりである。

ア　一致点

「表示ユニットと、

この表示ユニットの上に設置される、導電性フイルムと、を備える表示装置であって、

前記導電性フイルムは、

透明基体と、該透明基体の少なくとも一方の面に形成された導電部と、を有し、

前記導電部は、メッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有し、

前記配線パターンは、前記表示ユニットの画素配列パターンに重畳されている

表示装置。」

イ　相違点

（ア）相違点１

本願発明１は、「導電部」が「複数の金属細線からなる」のに対し、

引用発明は、「導電部」が「導電性金属薄膜」である点。

（イ）相違点２

本願発明１は、「配線パターン」が「少なくとも１視点において、その透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度と、前記画素配列パターンの透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されるモアレの周波数及び強度において、前記表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の各モアレの周波数における前記モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標が所定値以下であり、」「前記所定値が、－１．７５であり、」「前記評価指標は、常用対数で－１．７５以下である」のに対し、

引用発明は、「電磁波シールドパターン１６」（本願発明１の「配線パターン」に相当する。）が「表示装置の画素配列パターンをフーリエ変換して得られる第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１ｉと、電磁波シールドパターン１６をフーリエ変換して得られる第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２ｉとの相対距離が、モアレを視認できない臨界の空間周波数である所定の空間周波数を超えている」点。

（３）相違点２についての判断

事案に鑑み、まず、相違点２について検討する。

引用発明の「電磁波シールドパターン１６は、表示装置の画素配列パターンデータをフーリエ変換して得られる第１二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ１ｉと、電磁波シールドパターン１６をフーリエ変換して得られる第２二次元フーリエスペクトルのスペクトルピークＰ２ｉとの相対距離が、モアレを視認できない臨界の空間周波数である所定の空間周波数を超えている」という構成は、「電磁波シールドパターン１６」（本願発明１の「配線パターン」に相当する。）と「表示装置の画素配列パターン」（本願発明１の「表示ユニットの画素配列パターン」に相当する。）とを重畳したときに生じるモアレの空間周波数が、そのモアレを視認できないほど高いことを特定するものである。すなわち、引用発明は、「表示装置の画素配列パターン」と「電磁波シールドパターン１６」とを重畳したときに生じるモアレの空間周波数に着目し、それを所定の値より高くすることによって、モアレの発生を抑止するものである。

これに対し、本願発明１の「配線パターンは、少なくとも１視点において、その透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度と、前記画素配列パターンの透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されるモアレの周波数及び強度において、前記表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の各モアレの周波数における前記モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標が所定値以下であり、」「前記所定値が、－１．７５であり、」「前記評価指標は、常用対数で－１．７５以下である」という構成は、「配線パターン」と「表示ユニットの画素配列パターン」とを重畳したときに生じる「モアレの周波数」だけでなく、「モアレの周波数及び強度」に着目し、「表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の各モアレの周波数における」「モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標が」「常用対数で－１．７５以下である」ことを特定するものである。すなわち、本願発明１は、モアレの周波数（空間周波数）だけでなく、モアレの強度にも着目し、モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標を常用対数で－１．７５以下にすることによって、モアレの発生を抑止するものである。

そして、モアレの周波数だけでなく、モアレの強度にも着目した上で、モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させることは、引用文献２にも引用文献３にも記載されていないし、示唆されてもいない。また、このことが当業者にとって周知な事項又は自明な事項であると認めることもできない。

したがって、相違点２に係る本願発明１の構成は、引用発明と引用文献２及び引用文献３に記載された発明とに基づいて、当業者が容易に思い付くものであるということはできない。

（４）本願発明１についてのまとめ

以上のとおりであるから、相違点１について検討するまでもなく、本願発明１は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

２　本願発明２ないし本願発明１７について

本願発明２ないし本願発明１７は、本願発明１の構成を全て含むから、少なくとも本願発明１と引用発明との相違点１及び相違点２（前記１（２）イ（ア）及び（イ））で引用発明と相違する。

そして、前記１（３）のとおり、相違点２に係る本願発明１の構成は、引用発明と引用文献２及び引用文献３に記載された発明とに基づいて、当業者が容易に思い付くものであるということはできないから、相違点２に係る本願発明２ないし本願発明１７の構成も同様である。

したがって、本願発明２ないし本願発明１７は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

第６　原査定について

原査定は、本願発明１と引用発明との相違点は「モアレの評価値から算出したモアレの評価指標」が「常用対数で－１．７５以下である」という数値限定の有無のみであると認定した上で、引用文献１の【００６７】及び【００６８】の記載に従って、引用発明においてモアレ発生を小さくするために電磁波シールドのパターン幅を小さくし、また、モアレ発生がなるべく小さくなるピッチを選択することは、当業者が容易に想到し得ることであると判断した。

しかし、引用発明の「電磁波シールドパターン１６」（本願発明１の「配線パターン」に相当する。）では、「その透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度と、前記画素配列パターンの透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されるモアレの周波数及び強度において、前記表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の各モアレの周波数における前記モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標」という数値がそもそも想定されていないから、本願発明１と引用発明との相違点は数値限定の有無のみであるということはできない。

また、本願発明１の「配線パターンは、少なくとも１視点において、その透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度と、前記画素配列パターンの透過率画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されるモアレの周波数及び強度において、前記表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の各モアレの周波数における前記モアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させて得られたモアレの評価値から算出したモアレの評価指標が所定値以下であり、」「前記所定値が、－１．７５であり、」「前記評価指標は、常用対数で－１．７５以下である」という構成は、引用発明の「電磁波シールドパターン１６」のパターン幅を小さくし、また、モアレ発生がなるべく小さくなるピッチを選択することを意味するものと認めることはできない。

したがって、原査定の理由は、維持することができない。

第７　むすび

以上のとおりであるから、原査定の理由によっては、本願は拒絶をするべきものであるということはできない。

また、他に、本願は拒絶をするべきものであるとする理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。