2016-019673

特願２０１４－５１７７０６「シリコンまたは類似の基板上に窒化ガリウムの厚いエピタキシャル層を形成するための方法、およびこの方法を使用して得られる層」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　１月　３日国際公開、ＷＯ２０１３／００１０１４、平成２６年１０月１６日国内公表、特表２０１４－５２７７０７〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 本件審判の請求は、成り立たない。

【理　由】 本願は、平成２４年　６月２８日の出願であって、その請求項に係る発明は、特許請求の範囲の請求項に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 これに対して、平成２９年　８月２１日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。 そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。