2015-009294

特願２０１０－１７７５１５「レジスト下層膜用高分子およびこれを含むレジスト下層膜用組成物、ならびに素子のパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　６月　２日出願公開、特開２０１１－１０７６８４、請求項の数（１５）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 本願は、平成２２年８月６日（パリ条約による優先権主張　２００９年１１月１３日　（ＫＲ）大韓民国）の出願であって、その請求項１ないし１５に係る発明は、平成２９年６月７日付け手続補正書で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１５に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審での拒絶理由を検討してもそれらの理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。