2022-014297

特願２０２０－５１４８５１「レーザーアブレーション用のセルおよび分析装置」拒絶査定不服審判事件〔令和 １年１０月２４日国際公開、ＷＯ２０１９／２０２６９０〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯の概要 本願は、２０１８年（平成３０年）４月１８日を国際出願日とする出願であって、令和３年１２月１０日付けで拒絶理由が通知され、令和４年２月２４日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年６月３日付け（謄本の送達日：同月１４日）で拒絶査定（以下、「原査定」という）がされたところ、同年９月１２日に拒絶査定不服審判の請求がされたものである。 第２ 本願発明 本願の請求項に係る発明は、令和４年２月２４日に提出された手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１～２に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は以下のとおりのものである。 【請求項１】 レーザー光が照射されてアブレーションされる試料が収容される収容部と、 前記アブレーションされた試料を搬送する搬送ガスが導入される導入部と、 前記アブレーションされた試料とともに搬送ガスが導出される導出部と、 前記導入部と前記収容部との間に配置され、導入部から導入された搬送ガスが接触して、前記導入部と前記導出部とを結ぶ方向に対して交差する方向に搬送ガスを拡散させる拡散部と、 複数のビーズが充填されて構成される前記拡散部と、 ヘリウムガスにより構成された前記搬送ガスと、 を備えたことを特徴とするレーザーアブレーション用のセル。 第３ 原査定 原査定の拒絶の理由は、概略以下のとおりである。 この出願の請求項１～２に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献１～５に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 引用文献等一覧 １．特開２００７－３２２２２６号公報 ２．特開平９－２０２９７４号公報（周知技術を示す文献） ３．特開２００１－７７０９７号公報（周知技術を示す文献） ４．特表２０１０－５０６７２１号公報（周知技術を示す文献） ５．特表２０１６－５１７５２３号公報 第４ 当審の判断 １ 引用文献 （１）引用文献１の記載 ア 引用文献１の明細書には以下の記載がある。（下線は当審が付した。以下同様。） 【0001】 本発明は、試料に対してレーザアブレーションを行うための試料室、レーザアブレーション装置及びレーザアブレーション方法に関する。 （中略） 【0004】 そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、導出されるキャリアガス中の微粉体物又はガス化物の元素組成比を時間の経過に対して安定化させることができる試料室、レーザアブレーション装置及びレーザアブレーション方法を提供することを目的とする。 【課題を解決するための手段】 【0005】 本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、導出されるキャリアガス中の微粉体物又はガス化物の元素組成比が時間の経過に対して変動するのは、試料室の内部空間においてキャリアガスの流速分布が不均一となっていることに起因していることを突き止めた。つまり、内部空間を画定する壁面にキャリアガス導入口が１つしか形成されていないと、内部空間においてキャリアガス導入口に対向する部分とその周辺部分とでキャリアガスの流速に差が生じるため、レーザアブレーションによって生じた微粉体物又はガス化物がキャリアガス導出口を介して導出されるのに時間差が生じ、導出されるキャリアガス中の微粉体物又はガス化物の元素組成比が時間の経過に対して変動するのである。本発明者らは、この知見に基づいて更に検討を重ね、本発明を完成させるに至った。 【0006】 すなわち、本発明に係る試料室は、レーザアブレーションの対象となる試料が配置されると共に、試料に対するレーザアブレーションによって生じる微粉体物又はガス化物を搬送するためのキャリアガスが流通する内部空間を有する試料室であって、内部空間を画定する壁面には、試料が配置される位置に対して一方の側に位置する複数のキャリアガス導入口、及び試料が配置される位置に対して他方の側に位置するキャリアガス導出口が形成されていることを特徴とする。 【0007】 この試料室においては、内部空間を画定する壁面にキャリアガス導入口が複数形成されているため、キャリアガス導入口が１つしか形成されていない場合に比べ、内部空間におけるキャリアガスの流速分布が均一化される。 （中略） 【0014】 以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。 【0015】 図１に示されるように、ＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳ装置１は、分析対象の試料Ｓに対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせるレーザアブレーション装置２と、試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じた微粉体物又はガス化物をイオン化して、質量電荷比ｍ／ｚ値（ｍ：質量数、ｚ：電荷数）ごとに（すなわち、質量数の異なる元素ごとに）単位時間当たりのカウント数（すなわち、検出強度）を測定するＩＣＰ－ＭＳ装置３と、により構成されている。 【0016】 レーザアブレーション装置２は、レーザ光を出射するレーザユニット５と、試料Ｓを撮像するＣＣＤカメラ６と、試料室４０と、を具備している。試料室４０は、レーザアブレーションの対象となる試料Ｓが載置される試料台４１が設けられた内部空間４２を有している。 【0017】 レーザアブレーション装置２において、レーザユニット５から所定の波長で出射されたレーザ光は、ミラー１０，１１で反射されて、波長変換素子１２に入射する。波長変換素子１２で波長を半減されたレーザ光は、波長変換素子１３で更に波長を半減されて、ミラー１４，１５，１６で反射された後、レンズ１７を通って、ビームスプリッタ１８で反射され、試料室４０に設けられた透過窓を通って試料Ｓに照射される。 【0018】 レーザユニット５は、例えば、波長１０６４ｎｍのＮｄ－ＹＡＧレーザを搭載している。そして、レーザユニット５から出射されたレーザ光は、波長変換素子１２で波長１０６４ｎｍから波長５３２ｎｍ（２次高調波）に変換され、更に、波長変換素子１３で波長５３２ｎｍから波長２６６ｎｍ（３次高調波）に変換される。このように、レーザ光を短波長とすることで、レーザ光のエネルギが高まり、より多くの物質に対してレーザアブレーションを行うことができる。 【0019】 ＣＣＤカメラ６は、ビームスプリッタ１８を介して試料室４０の内部空間４２に配置された試料Ｓを観察することができるようになっている。ＣＣＤカメラ６は、例えば、試料Ｓの表面におけるレーザ光の照射位置を撮像する。 【0020】 図２は、試料室４０の水平断面図（すなわち、ＣＣＤカメラ６の方向から見た試料室４０の断面図）である。図１及び図２に示されるように、試料室４０の内部空間４２は円柱形状をなしており、内部空間４２を画定する壁面のうち側壁面４３には、試料Ｓが配置される位置に対して一方の側Ａに位置する３つのキャリアガス導入口４４、及び試料Ｓが配置される位置に対して他方の側Ｂに位置する１つのキャリアガス導出口４５が形成されている。これにより、試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じる微粉体物又はガス化物を搬送するためのキャリアガスＧは、キャリアガス導入口４４からキャリアガス導出口４５に向かって内部空間４２を流通することになる。なお、３つのキャリアガス導入口４４及び１つのキャリアガス導出口４５は水平面Ｈ上に位置している。 【0021】 試料室４０は、キャリアガス導入口４４を介して内部空間４２にキャリアガスＧを導入するためのキャリアガス導入流路４６と、キャリアガス導出口４５を介して内部空間４２から微粉体物又はガス化物と共にキャリアガスＧを導出するためのキャリアガス導出流路４７と、を備えている。 イ また、図１、図２はそれぞれ以下のとおりである。 図１ ［図：0001402421000001.jpg］ 図２ ［図：0001402421000002.jpg］ ウ 上記イの図２より、３つのキャリアガス導入口４４が略同一開口形状であることが見て取れる。 （２）引用発明 上記（１）より、引用文献１には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。なお、参考のため、認定の主な根拠となった箇所を括弧内に示す。 （引用発明） 「レーザ光を出射するレーザユニット５と、試料Ｓを撮像するＣＣＤカメラ６と、試料室４０と、を具備しているレーザーアブレーション装置の試料室４０であって、（【0016】、図１） 試料室４０は、レーザアブレーションの対象となる試料Ｓが載置される試料台４１が設けられた内部空間４２を有しており、（【0016】、図１） 試料室４０の内部空間４２を画定する壁面のうち側壁面４３には、試料Ｓが配置される位置に対して一方の側Ａに位置する３つの略同一開口形状のキャリアガス導入口４４、及び試料Ｓが配置される位置に対して他方の側Ｂに位置する１つのキャリアガス導出口４５が形成されており、これにより、試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じる微粉体物又はガス化物を搬送するためのキャリアガスＧは、キャリアガス導入口４４からキャリアガス導出口４５に向かって内部空間４２を流通することになり、（【0020】、上記（１）ウ、図２） 試料室４０は、キャリアガス導入口４４を介して内部空間４２にキャリアガスＧを導入するためのキャリアガス導入流路４６と、キャリアガス導出口４５を介して内部空間４２から微粉体物又はガス化物と共にキャリアガスＧを導出するためのキャリアガス導出流路４７と、を備えており、（【0021】、図２） この試料室においては、内部空間を画定する壁面にキャリアガス導入口が複数形成されているため、キャリアガス導入口が１つしか形成されていない場合に比べ、内部空間におけるキャリアガスの流速分布が均一化される、（【0007】） レーザーアブレーション装置の試料室４０。」 （３）引用文献２の記載 引用文献２には以下の記載がある。 【請求項１】反応室の内部にガス導入口を通じて薄膜材料でなる反応ガスを導入し、上記反応室の内部に設置された電極と、上記電極に対向する位置に配置された被薄膜形成対象物との間に電圧を印加して上記反応ガスをプラズマ化させて上記被薄膜形成対象物上に供給することにより、上記被薄膜形成対象物上に上記反応ガスに応じた薄膜を形成する薄膜形成装置において、 上記ガス導入口及び上記電極間に配置され、上記ガス導入口を通じて導入される上記反応ガスを拡散させて上記電極側に流出させる絶縁性でなるガス拡散部材を具えることを特徴とする薄膜形成装置。 （中略） 【0022】以上の構成によれば、反応管１２のガス導入口１４Ａと電極１８との間に複数の貫通穴２０Ａが全面に亘つて穿設されたガス拡散板２０を設けてガス拡散板２０で反応ガス１５を乱反射させて各貫通穴２０Ａから反応ガス１５を電極１８側に流出させるようにしたことにより、ガス導入管１４から導入される反応ガス１５を反応管１２内部にほぼ均一に拡散させることができるので、基板１６上に均一に薄膜を形成し得ると共に膜質を向上させることができ、かくして信頼性を向上し得るプラズマＣＶＤ装置を実現し得る。 【0023】なお上述の実施例においては、ガス拡散部材として複数の貫通孔２０Ａが穿設された拡散板２０を用いた場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は反応ガス１５を反応管１２内部にほぼ均一に拡散させることができれば、ガス拡散部材としてこの他種々のガス拡散部材を適用し得る。例えば図１との対応部分に同一符号を付して示す図２に示すように、角錐形状や円錐形状のガス拡散板３０を用いて反応ガス１５を拡散させるようにしてもよく、また図１との対応部分に同一符号を付して示す図３に示すように、セラミツク等のポーラス（多孔性）状の板４０を用いても上述の実施例と同様の効果を得ることができる。 【0024】さらに図１との対応部分に同一符号を付して示す図４に示すように、反応管１２の上端部１２Ａとガス拡散板２０との間にセラミツクやガラス、プラスチツク等の絶縁性でなるビーズ５０を貫通穴２０Ａを塞がないように充填してもよく、また図１との対応部分に同一符号を付して示す図５に示すように、反応管１２の上端部１２Ａと電極１８との間に複数のガス拡散板２０を配設するようにしても上述の実施例と同様の効果を得ることができる。この場合、各拡散板２０の各貫通穴２０Ａがそれぞれ一致しないように各ガス拡散板２０に貫通穴２０Ａを穿設する。これにより反応ガス１５を一段と反応管１２内部に拡散させることができる。 また、図１、図４は以下のとおりである。 ［図：0001402421000003.jpg］ ［図：0001402421000004.jpg］ （４）引用文献３の記載 引用文献３には以下の記載がある。 【0078】図１０に他の実施の形態を示す。この実施の形態では図２のプラズマ処理装置において、反応容器１の上部にガス均一化室５が一体に形成されている。ガス均一化室５は反応容器１よりも厚い箱状に形成されるものであって、ガス均一化室５の上面はガス供給口３０として全面に亘って開口されていると共にガス均一化室５の下面には反応容器１のガス導入口１６が開口されている。このガス均一化室５内にはシリカボール等で形成される球体６が多数個充填されている。 【0079】この実施の形態では、ガス均一化室５を介してプラズマ生成用ガスを反応容器１に供給するのである。すなわち、ガス供給口３０からガス均一化室５内にプラズマ生成用ガスを導入し、球体６の間の隙間を通過させるようにしてプラズマ生成用ガスをガス導入口１６まで下流させ、この後、ガス導入口１６から反応容器１内にプラズマ生成用ガスを導入するのである。そして、このようにガス均一化室５を通過させてプラズマ生成用ガスを反応容器１に供給するので、プラズマ生成用ガスが反応容器１内の一部分に偏らないように、反応容器１内の全体に均一な濃度で供給することができ、均質なプラズマを効率よく生成することができるものであり、また、処理むらを少なくすることができるものである。 また、図１０は以下のとおりである。 ［図：0001402421000005.jpg］ （５）引用文献４の記載 引用文献４には以下の記載がある。 【0015】 流動化のための方法及び装置 １つの態様において、ナノ粒子、微粒子又はそれらの組合せから成る乾燥粉末は、空気力を用いて流動化される。図３は、このことを例示する。流動床１１は、１つ以上の粉末入口７を通して受入れ粉末を受け入れる。受入れ粉末は、様々な粒度の粒子を含有することができ、それらの粒子は全て、流動床に導入される。圧縮空気の供給は、適切なフィルター１、流量計２及び制御弁３を通して流動化装置の空気入口４に提供される。制御弁及び流量計によって、空気流量の制御が可能となる。空気は、シリカビーズ（silica beads）５の層を通過する。シリカビーズは、均一なガス流がその流れ領域を確実に横切るのを助け、且つ、乾燥剤としても作用する（シリカビーズは、定期的に取り替えられる）。空気は、次いで、多孔質の流動化装置プレート６を通過し、次いで、前記粉末が入口７で導入される上記室の中に入る。 また、図３は以下のとおりである。 ［図：0001402421000006.jpg］ （６）引用文献５の記載 引用文献５には以下の記載がある。 【請求項１】 レーザアブレーション発光分光における熱的影響を低減するための方法であって、 ターゲット表面上の分析ラインに沿って前記ターゲット表面上に分離アブレーションスポットを生成し、 連続するアブレーションスポットのペアが前記分析ラインに沿って互いに離間され、前記アブレーションスポットの追加のアブレーションスポットによって互いに分離されるように前記アブレーションスポットを位置決めすること、及び／又は 前記分析ラインが概して互いに隣接し互いに平行な分析ラインセグメントを有する場合に、 連続するアブレーションスポットのペアが異なる分析ラインセグメント上に位置するように前記アブレーションスポットを位置決めすること、及び 前記異なる分析ラインセグメントが互いに隣接する場合に、前記連続するアブレーションスポットを前記分析ラインセグメントに沿った異なる長手方向位置に位置するように位置決めすること のうち少なくとも１つを行い、 これにより分離アブレーションスポットの線形スキャンを生成する、 方法。 （中略） 【0018】 試料チャンバ102は、キャリアガス（例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素など、又はこれらの組み合わせ）のような流体を20mL/分から1000mL/分（例えば、100mL/分から150mL/分の範囲、あるいは125mL/分又はそのあたり）の範囲の流量で内部空間106に導入するようにそれぞれ構成された１以上の噴射ノズル120をさらに含んでいてもよい。例えば、それぞれの噴射ノズル120をフレーム114内の流体ポートに挿入してもよく、それぞれの噴射ノズル120は、試料チャンバ102の外部の流体源（例えば加圧流体源）に流体的に連通するように構成された流入口と、試料チャンバ102の内部空間106に露出する流出口とを含んでいてもよい。試料チャンバ102の内部空間106を試料チャンバ102の外部の環境と流体的に隔離するために、フレームと噴射ノズル120との間にシール（図示せず）を設けてもよい。内部空間106にキャリアガスを導入すると、内部空間106にキャリアガスの流れ（本明細書においては「キャリアガス流」ともいう）が生成される。内部空間106の異なる位置でのキャリアガス流の速度及び方向は、試料チャンバ102の内部空間106の形状及びサイズ、１以上の噴射ノズル120の構成、特定の噴射ノズル120により内部空間106に導入されるキャリアガスの流量など、又はこれらの組み合わせに応じて変化し得ることは理解できよう。一実施形態においては、内部空間106に導入されるキャリアガスの流量を制御することによって内部空間106の圧力を（例えば、11psi以下の圧力に）維持することができる。 また、図１は以下のとおりである。 ［図：0001402421000007.jpg］ ２ 対比 本願発明１と引用発明とを対比する。 引用発明の「レーザアブレーションの対象となる試料Ｓ」は、本願発明の「レーザー光が照射されてアブレーションされる試料」に相当する。 とすると、引用発明の「レーザアブレーションの対象となる試料Ｓが載置される試料台４１が設けられた内部空間４２」は、本願発明１の「レーザー光が照射されてアブレーションされる試料が収容される収容部」に相当する。 引用発明の「試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じる微粉体物又はガス化物を搬送するためのキャリアガスＧ」は、本願発明１の「搬送ガス」に相当する。 とすると、引用発明の「キャリアガス導入流路４６」は、本願発明１の「アブレーションされた試料を搬送する搬送ガスが導入される導入部」に相当する。また、引用発明の「試料Ｓが配置される位置に対して他方の側Ｂに位置する１つのキャリアガス導出口４５」は、本願発明１の「アブレーションされた試料とともに搬送ガスが導出される導出部」に相当する。 また、引用発明では「試料Ｓが配置される位置に対して一方の側Ａに位置する３つの略同一開口形状のキャリアガス導入口４４、及び試料Ｓが配置される位置に対して他方の側Ｂに位置する１つのキャリアガス導出口４５が形成されており、これにより、試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じる微粉体物又はガス化物を搬送するためのキャリアガスＧは、キャリアガス導入口４４からキャリアガス導出口４５に向かって内部空間４２を流通する」のであるから、引用発明の「３つの略同一開口形状のキャリアガス導入口４４」は、本願発明１の「導入部と導出部とを結ぶ方向に対して交差する方向に搬送ガスを拡散させる拡散部」に相当する。 引用発明の「レーザアブレーションの対象となる試料Ｓが載置される試料台４１が設けられた内部空間４２を有して」いる「試料室４０」は、本願発明１の「レーザーアブレーション用のセル」に相当する。 以上より、本願発明１と引用発明とは、以下の点で一致し、また以下の各点で相違する。 （一致点） レーザー光が照射されてアブレーションされる試料が収容される収容部と、 前記アブレーションされた試料を搬送する搬送ガスが導入される導入部と、 前記アブレーションされた試料とともに搬送ガスが導出される導出部と、 前記導入部と前記導出部とを結ぶ方向に対して交差する方向に搬送ガスを拡散させる拡散部と、 を備えたレーザーアブレーション用のセル。 （相違点１） 本願発明１では、拡散部が「複数のビーズが充填されて構成される」のに対し、引用発明では「３つの略同一開口形状のキャリアガス導入口４４」で構成されている点。 （相違点２） 本願発明１では、搬送ガスが「ヘリウムガスにより構成された」ものであるのに対し、引用発明では搬送ガスの種類について限定がない点。 ３ 判断 （１）当審の判断 ア 相違点１について判断する。引用発明は、内部空間を画定する壁面にキャリアガス導入口が複数形成されることで、キャリアガス導入口が１つしか形成されていない場合に比べ、内部空間におけるキャリアガスの流速分布を均一化することを目的としたものである。しかし、引用文献１の【0023】の「なお、上流側でキャリアガス導入本線４６ａから分岐するキャリアガス導入支線４６ｂの横断面積（すなわち、そのキャリアガス導入支線４６ｂと接続されたキャリアガス導入口４４の開口面積）は、下流側でキャリアガス導入本線４６ａから分岐するキャリアガス導入支線４６ｂの横断面積（すなわち、そのキャリアガス導入支線４６ｂと接続されたキャリアガス導入口４４の開口面積）より小さくしてもよい。これにより、各キャリアガス導入口４４を介して内部空間４２に流入するキャリアガスＧの流速を均一化することが可能となる。」や、【0043】の「例えば、図６に示されるように、内部空間４２を画定する側壁面４３に形成されるキャリアガス導入口４４の数は、３つに限定されず、７つであってもよい。・・・なお、各キャリアガス導入口４４を介して内部空間４２に流入するキャリアガスＧの流速をより一層均一化するために、上流側のキャリアガス導入口４４の開口面積を、下流側のキャリアガス導入口４４の開口面積より小さくしてもよい。」といった記載からするに、３つの略同一開口形状のキャリアガス導入口４４を有する構成とするものは、キャリアガス導入口が１つしか形成されていない場合に比べれば内部空間におけるキャリアガスの流速分布が均一化されるものの、その均一化の程度は未だ改善の余地があるものと当業者に理解されることは明らかであり、より高いレベルの均一化を目指す動機があることが読み取れる。 ここで、引用文献２～４に記載されているように、複数のビーズが充填された構成により、導入部と導出部とを結ぶ方向に対して交差する方向にガスを拡散させる拡散部は、周知技術である。そして、このように複数のビーズが充填されてなる構成を用いたガス拡散は、理論的にはガス分子がビーズに衝突するたびに拡散が進行し、また、ビーズの数は容易に極めて多数とできることから、３つと限定された数のキャリアガス導入口しか有さない場合と比較して、容易にガス拡散の目的を達成することが可能であることは、当業者にとって明らかである。とすると、キャリアガスの流速分布を均一化することを目的とした引用文献１に接した当業者であれば、拡散部として「３つの略同一開口形状のキャリアガス導入口４４」である拡散部に代えて、上記周知技術である、「複数のビーズが充填されたて構成される拡散部」を採用して、本願発明１の相違点１に係る構成とすることは、当業者が容易になし得たものである。 イ 相違点２について検討する。例えば引用文献５に記載されているように、レーザーアブレーション用の搬送ガスとしてヘリウムを使用することは本願出願時において周知であって、引用発明の搬送ガスとしてヘリウムを採用することは、当業者が適宜なし得ることに過ぎない。 ウ また、本願発明１の奏する効果は、当業者が予測可能な範囲ものであるし、本願発明１に進歩性の存在を推認させるほどの効果があったとは認めることができない。 エ したがって、本願発明１は引用文献１～５に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 （２）審判請求書での請求人の主張について ア 請求人は審判請求書で以下の旨主張をしている（「３．本願発明が特許されるべき理由」「（３）本願発明と引用発明との対比」参照）。 引用文献２～４に記載のものは、拡散部としてビーズが使用されている構成において一見類似しているが、使用されているガスの種類が全く異にするものであって、ガスの機能、使用目的、特性（粘性や反応性）、使用環境、使用可能条件が一致しない。ヘリウムガスは、引用文献２～４に記載のガスに比べて、粘性が非常に低く、拡散しにくい物質であることが、当業者にとっては一般に認識されている。したがって、粘性の高いガスで使用可能な構成を、そのままヘリウムガスに適用しても、ヘリウムガスを拡散させることはできないであろうと予測することが、当業者にとって自然な思考であり、そのまま適用できないということが技術的常識である。本願は、このような当業者の技術的な常識、思い込みを疑い、実際に検証することで得られた知見に基づくもので、引用文献１－５および本件出願前の技術常識から鑑みて、発想の転換、発想の飛躍があり、当業者といえども到底想到し得ることではない。 イ 当審の判断 ビーズを使用した拡散部は、ビーズに衝突したガス分子が四方八方に散らばることでガス拡散を行うものであって、ビーズに衝突しさえすれば、ガス分子の粘性や種類、機能、使用目的、使用環境、使用可能条件に関わらず、相当程度のガスの拡散が期待されるといえる。してみれば、本願発明１の奏する効果は当業者が予測可能な範囲ものである。 よって、上記（１）アで述べたように、引用発明に、引用文献２～５に記載されたような周知技術を適用することに、困難性を見いだすことはない。 第５ むすび 上記のとおりであるから、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。