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特許拒絶査定不服審判

2021-016419

ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法

審判番号
2021-016419
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2017-134609外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2021年12月01日
審決日
2022年10月05日
公報発行日
2022年11月25日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
審判長/審判官
分類
P18 .537-WYF(C09J)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2017-134609「ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成30年 2月 8日出願公開、特開2018- 21182、請求項の数(7)〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論
原査定を取り消す。
本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

理 由

本願は、平成29年 7月10日(優先権主張 平成28年 7月11日)の出願であって、その請求項1~7に係る発明は、令和4年9月6日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1~7に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。

そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審による拒絶理由のいずれを検討してもそれらの理由によって拒絶すべきものとすることはできない。

また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

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2021-016419

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