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特許拒絶査定不服審判

2021-014151

反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法

審判番号
2021-014151
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2018-546378外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2021年10月19日
審決日
2022年11月07日
公報発行日
2022年12月28日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
審判長/審判官
分類
P18 .121-WYF(G03F)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2018-546378号「反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成30年4月26日国際公開、WO2018/074512号、請求項の数(11)〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

理 由 本願は、平成29年10月18日(優先権主張 平成28年10月21日)の出願であって、その請求項1ないし11に係る発明は、令和4年10月12日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし11に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審における拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

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2021-014151

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