審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許拒絶査定不服審判

2020-015349

ネガ型フォトレジストを用いたパターニング工程におけるLWR改善方法及び組成物

審判番号
2020-015349
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2018-557340外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2020年11月05日
審決日
2021年12月10日
公報発行日
2022年01月28日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
審判長/審判官
分類
P18 .536-WYF(G03F) / P18 .537-WYF(G03F)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2018-557340「ネガ型フォトレジストを用いたパターニング工程におけるLWR改善方法及び組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成29年11月 9日国際公開、WO2017/191930、令和 1年 6月 6日国内公表、特表2019-515350、請求項の数(2)〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論
原査定を取り消す。
本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

理 由

本願は、平成29年 4月26日(パリ条約による優先権主張 2016年 5月 4日 (KR)大韓民国)の出願であって、その請求項に係る発明は、特許請求の範囲の請求項に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。

そして、本願については、原査定及び当審で通知した拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。

また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2020-015349

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ論点・分野の審決(審決分類)238件(536・G03F、537・G03F)
  • 2025-008006拒絶査定不服審判 / 2026-07-10 / 原査定取消(特許/登録すべき)改良された未露光フォトレジスト層の形成方法
    共通の審決分類: 536・G03F、537・G03F
  • 2024-008565拒絶査定不服審判 / 2026-03-02 / 原査定取消(特許/登録すべき)電界誘導フォトレジストパターン形成工程のためのフィルム構造
    共通の審決分類: 536・G03F、537・G03F
  • 2024-017380拒絶査定不服審判 / 2026-02-16 / 原査定取消(特許/登録すべき)二次電子発生のために様々な平均自由行程を有する介在層または多層積層を用いる極端紫…
    共通の審決分類: 536・G03F、537・G03F
  • 2024-020186拒絶査定不服審判 / 2026-01-20 / 原査定取消(特許/登録すべき)薬液、レジストパターン形成方法、半導体チップの製造方法、薬液収容体、薬液の製造方…
    共通の審決分類: 536・G03F、537・G03F
  • 2024-019297拒絶査定不服審判 / 2025-12-15 / 原査定取消(特許/登録すべき)薬液、薬液収容体、レジストパターン形成方法、半導体チップの製造方法
    共通の審決分類: 536・G03F、537・G03F

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存