2017-018338

特願２０１３－　８９８３４「磁性部品、および当該磁性部品を備えた電子部品」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年１１月１７日出願公開、特開２０１４－２１４３１９、請求項の数（４）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 第１　手続の経緯 本願は、平成２５年　４月２２日を出願日とする出願であって、平成２８年１０月　４日付けで拒絶理由通知がされ、同年１２月　６日付けで、意見書の提出及び手続補正がされ、平成２９年　２月２７日付けで拒絶理由通知（最後）がされ、同年　９月　７日付けで拒絶査定（原査定）がされ、これに対し、同年１２月　８日に拒絶査定不服審判の請求がされると同時に手続補正がされ、平成３０年　７月　９日付けで拒絶理由通知（以下、「当審拒絶理由通知」という。）がされ、同年　８月３１日付けで意見書の提出及び手続補正がされたものである。 第２　原査定の概要 原査定（平成２９年　９月　７日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。 本願請求項１～４に係る発明は、以下の引用文献１、２に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 引用文献等一覧 １．特開昭５０－１０２５２２号公報 ２．特開昭６３－２６３２３号公報 第３　前置報告の概要 前置報告（平成３０年　２月　６日付け）の概要は次のとおりである。 （前置１）本願請求項１～４に係る発明は、「合金層の厚さ」がどのように定められる厚さであるのか明確でないから、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしておらず、特許を受けることができない。 （前置２）本願請求項３～４に係る発明は、「合金層中の任意の複数の位置」の選び方によって、「合金層中の上記Ｃｒ、ＶおよびＴｉからなる群より選ばれる１以上の元素の含有量の最大値の合計」が一義的に定まらないので、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしておらず、特許を受けることができない。 第４　当審拒絶理由通知の概要 当審拒絶理由通知の概要は次のとおりである。 本願請求項３～４に係る発明は、「合金層中の任意の複数の位置」の選び方によって、「合金層中の上記Ｃｒ、ＶおよびＴｉからなる群より選ばれる１以上の元素の含有量の最大値の合計」が一義的に定まらないので、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしておらず、特許を受けることができない。 なお、上記当審拒絶理由は、上記（前置２）の内容と同様である。 第５　本願発明 本願請求項１～４に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」～「本願発明４」という。）は、平成３０年　８月３１日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１～４に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。 「【請求項１】 鉄系材料を加工してなる鉄系部品を備える磁性部品であって、 上記鉄系部品は、当該鉄系部品の表面に、Ｃｒ、ＶおよびＴｉからなる群より選ばれる１以上の元素が拡散浸透している合金層を備えており、 上記合金層の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下であり、 上記鉄系材料の炭素含有量が０重量％以上０．１５重量％未満であり、 上記鉄系部品の結晶粒度は、ＪＩＳ　Ｇ０５５１（２００５）に規定されるフェライト結晶粒度番号が－１以下であることを特徴とする磁性部品。 【請求項２】 上記合金層の厚さが５μｍ以上３５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁性部品。 【請求項３】 上記合金層中の上記Ｃｒ、ＶおよびＴｉからなる群より選ばれる１以上の元素の含有量の最大値の合計が２０重量％以上６５重量％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁性部品。 【請求項４】 請求項１～３のいずれか１項に記載の磁性部品を備えていることを特徴とする電子部品。」 第６　引用文献 １．引用文献１について ア　平成２９年　９月　７日付けの拒絶査定に引用された引用文献１には、以下の事項が記載されている。なお、下線は当審が付与した。以下同様。 「【特許請求の範囲】 Ｆｅ、ＡｌおよびＳｉを主成分とする磁気ヘッド用チップの焼鈍時に、チップ表面からＣｒを拡散浸透させることによって耐食性を向上させることを特徴とする高透磁率Ｆｅ－Ａｌ－Ｓｉ合金チップの製造方法。」 「発明者らは、このような磁束密度の大幅な低下を伴なわないセンダスト系合金の耐食性向上方法として、センダスト系合金チップの表面からＣｒを拡散滲透させてチップの表面にのみ高Ｃｒ濃度の合金層を形成する方法について検討し、その効果の大きいことを見い出した。」（第２頁左上欄最終行～右上欄第５行） 「以下、本発明をその実施例にもとづいて説明する。 ５．４％Ａｌ－９．６％Ｓｉ－残部Ｆｅよりなる、いわゆるセンダスト合金のリング試片（０．５ｍｍ厚×１０ｍｍ外径×６ｍｍ内径）および磁気ヘッドチップにつき試料に直接金属Ｃｒが触れないように、アルミナ粉末で覆った外からＣｒ粉末とアルミナ粉末の混合粉末で覆い、水素ガス中にて１２００℃×１時間の焼鈍を行なったところ、第１表に示した如く、その磁気特性は磁束密度Ｂ１０　９，８００Ｇ、初透磁率μ０　２６，０００、保持力Ｈｃ　０．０４Ｏｅであり、Ｃｒを拡散していない本来のセンダスト合金のＢ１０　１０，０００Ｇ、μ０　３０，０００、Ｈｃ　０．０３Ｏｅと比べて殆んど遜色のない優れた磁気特性を有し、耐食性の優れた磁気ヘッド用チップ片が得られた。」（第２頁右上欄第１５行～左下欄第９行） ２．引用文献２について ア　平成２９年　９月　７日付けの拒絶査定に引用された引用文献２には、以下の事項が記載されている。 「【特許請求の範囲】 鋼板に対して蒸着処理を施すことにより、前記鋼板の表面にケイ素を蒸着させ、次いで、常圧より低い圧力の無酸化ガス雰囲気中で、前記鋼板に対して拡散処理を施すことにより、前記蒸着させたケイ素を前記鋼板中に拡散させることを特徴とする、処理鋼板の製造方法。」 「ケイ素を均質に含有させた高ケイ素鋼板」（第１頁右欄第１５行） 「しかしながら、このような従来の滲珪法によって得られた高ケイ素鋼板は、組織の結晶粒度が必ずしも大きくないので、磁気特性が良くない。そのため、拡散処理後に高ケイ素鋼板に真空焼鈍等の後処理を施して、結晶粒度を改善する必要があった。 〔発明の目的〕 この発明の目的は、上述の現状に鑑み、ケイ素を蒸着させた鋼板の拡散処理時に、ケイ素を拡散させると同時に組織の結晶粒の成長を促進させて、結晶粒を容易に所望の大きい粒度にさせた、磁気特性の良好な高ケイ素鋼板を得ることができる、製造方法を提供することにある。」（第１頁右欄第１７行～第２頁左上欄第９行） 第７　対比・判断 １．本願発明１について （１）引用発明 上記第６の１より、引用文献１には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 （引用発明） 「５．４％Ａｌ－９．６％Ｓｉ－残部Ｆｅよりなる、センダスト合金の表面からＣｒを拡散浸透させて、表面にのみ高Ｃｒ濃度の合金層を形成した、優れた磁気特性を有し、耐食性の優れた磁気ヘッドチップ片。」 （２）対比 本願発明１と引用発明とを対比すると、次のことがいえる。 本願発明１の「鉄系材料」は「鉄を主成分とする鉄合金全般」（本願の発明の詳細な説明の【００４２】）を意味するから、引用発明における「５．４％Ａｌ－９．６％Ｓｉ－残部Ｆｅよりなる、センダスト合金」は、本願発明１の「鉄系材料」に相当する。 また、引用発明における「磁気ヘッドチップ片」と、本願発明１の「磁性部品」とは「磁性部品」である点で一致し、引用発明の「磁気ヘッドチップ片」は、「５．４％Ａｌ－９．６％Ｓｉ－残部Ｆｅよりなる、センダスト合金」の「表面からＣｒを拡散浸透させて」いるから、本願発明１の「鉄系材料を加工してなる鉄系部品を備える磁性部品」に相当する。 したがって、本願発明１と引用発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。 （一致点） 「鉄系材料を加工してなる鉄系部品を備える磁性部品であって、 上記鉄系部品は、当該鉄系部品の表面に、Ｃｒが拡散浸透している合金層を備えている、磁性部品。」 （相違点） （相違点１）本願発明１は、「合金層の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下」であるのに対し、引用発明は、合金層の厚さが不明である点。 （相違点２）本願発明１は、「鉄系材料の炭素含有量が０重量％以上０．１５重量％未満」であるのに対し、引用発明は鉄系材料の炭素含有量が不明である点。 （相違点３）本願発明１は、「鉄系部品の結晶粒度は、ＪＩＳ　Ｇ０５５１（２００５）に規定されるフェライト結晶粒度番号が－１以下」であるのに対し、引用発明は鉄系材料の結晶粒度が不明である点。 （３）相違点についての判断 （相違点１）について ア　引用文献１には、Ｃｒの拡散浸透処理について、記載事項アに、水素ガス中にて１２００℃、１時間の焼鈍を行うことが記載されている。 イ　一方、本願の発明の詳細な説明には、以下の記載がある。 「【００８３】 ＜処理時間および処理温度＞ 上記拡散浸透処理において、処理時間は５時間以上１５時間以下であることが好ましく、８時間以上１０時間以下であることがより好ましい。また、上記拡散浸透処理において、処理温度は７５０℃以上９５０℃以下であることが好ましく、７５０℃以上９００℃以下であることがより好ましく、７５０℃以上９００℃未満であることがさらに好ましく、７５０℃以上８５０℃以下であることが特に好ましい。 【００８４】 処理時間が５時間以上であり、かつ、処理温度が７５０℃以上であれば、合金層の厚さを、耐摩耗性および耐食性を備えるために十分な厚さとすることができるともに、金属組織を十分に成長させることができる。また、処理時間が１５時間以下であり、処理温度が９５０℃以下であれば、合金層の厚さを、磁気抵抗を増加させない程度の厚さ、かつ、金属組織の成長を妨げない厚さに制御することができる。 【００８５】 上記「耐摩耗性および耐食性を備えるために十分な厚さ」であるとともに「磁気抵抗を増加させない程度の厚さ、かつ、金属組織の成長を妨げない厚さ」である合金層の厚さとは、例えば、５μｍ以上６０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以上３５μｍ以下である。 【００８６】 また、上記合金層形成工程において、上述の処理時間および処理温度とすることによって、上記鉄系部品の結晶粒を、ＪＩＳ　Ｇ０５５１（２００５）に規定されるフェライト結晶粒度番号１以下になるまで成長させることが好ましい。上記構成によれば、上記鉄系部品の金属組織が十分に成長しているため、優れた磁気特性を有する磁性部品を製造することができる。」 「【００９５】 実施例１～５および比較例１～２では、上記ヨークおよびリングに対して、異なる温度条件にて拡散浸透処理を行い、試験片を作製した。当該拡散浸透処理は、クロム粉末４０～８０重量％、アルミナ粉末１９．５～５９．５重量％、塩化アンモニウム粉末０．５重量％を混合してなる浸透剤にヨークおよびリングを埋め込み、半密閉容器に充填し、水素ガスを流しながら７００℃（比較例１）、７５０℃（実施例１）、８００℃（実施例２）、８５０℃（実施例３）、９００℃（実施例４）、９５０℃（実施例５）または１０００℃（比較例２）にて１０時間加熱して行った。比較例３では、Ｎｉメッキを施されたヨークおよびリングを試験片として用いた。上記ヨークを用いて、合金層の厚さ、拡散浸透した元素の濃度、耐食性、耐摩耗性、および吸引力を調査し、拡散浸透処理による部品の品質改善効果を確認した。また、上記リングを用いて、保磁力の試験を行った。」 「【０１０４】 【表１】 」 ウ　上記イの表１より、処理温度が７００℃では、合金層の厚さは３μｍであり、処理温度が１０００℃では、合金層の厚さは８０μｍであることが読み取れる。また、上記イによれば、本願発明１における「合金層の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下」との事項は、処理時間が５時間以上１５時間以下、処理温度が７５０℃以上９５０℃以下の拡散浸透処理によって形成されることが読み取れる。 エ　しかしながら、引用文献１では、拡散浸透処理を、１２００℃、１時間で行っており、拡散浸透処理の処理温度、処理時間ともに、本願発明１の条件と異なっているから、引用発明において、合金層の厚さが、本願発明１と同様の「５μｍ以上６０μｍ以下」となっているとまではいえない。 オ　本願発明１の「合金層の厚さ」は、「耐摩耗性および耐食性を備えるために十分な厚さ」であるとともに「磁気抵抗を増加させない程度の厚さ、かつ、金属組織の成長を妨げない厚さ」である合金層の厚さであるところ、上記第６の１のように引用文献１には、「耐摩耗性」「耐食性」「磁気特性」の全てを考慮して、「合金層の厚さ」を「５μｍ以上６０μｍ以下」とすることは、記載も示唆もされていない。 また、引用文献２にも、上記第６の２のように、「耐摩耗性」「耐食性」「磁気特性」の全てを考慮して、「合金層の厚さ」を「５μｍ以上６０μｍ以下」とすることは、記載も示唆もされていない。 カ　以上のとおり、引用文献１、引用文献２には、「合金層の厚さ」を「５μｍ以上６０μｍ以下」とすることは記載も示唆もないから、引用発明において、当業者が「合金層の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下」とする積極的な動機付けを見いだすことができない。 したがって、引用発明において、相違点１に係る事項を備えるとすることは、当業者にとって容易であるということはできない。 キ　よって、他の相違点について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても引用発明、引用文献２に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 ２．本願発明２～４について 本願発明２～４は、本願発明１の、上記相違点１に係る事項を有するものであるから、上記本願発明１の判断と同様に、当業者であっても、引用発明、引用文献２に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 ３．まとめ 以上より、原査定を維持することはできない。 第８　当審拒絶理由についての判断 平成３０年　８月３１日付けの補正により、補正後の請求項３～４は、「任意の複数の位置における」との記載が削除された。 よって、本願発明３～４は、明確であるといえる。 第９　前置報告について （前置１）について ア　本願の発明の詳細な説明には、以下の記載がある。 「【００９６】 ＜合金層の厚さ、表面クロム濃度＞ 合金層の厚さは上記ヨークをカットし、その断面を観察することによって計測した。当該合金層の厚さは１０か所について計測し、その平均を求めた。また、表面クロム濃度は、ＳＥＭによる表面元素分析およびＥＰＭＡによる元素濃度分析によって計測した。」 「【０１１６】 〔実施例６〕 低炭素鋼（ＳＰＣＣ、炭素量０．０１重量％）を用いて加工したヨーク（図２におけるｚ軸方向における最大の長さ２２ｍｍ、ｘ軸方向における最大の長さ１１ｍｍ、幅（ｙ軸方向の長さ）１１．５ｍｍ）に以下の条件にて拡散浸透処理を施した。 浸透剤の組成：クロム粉末（４０重量％）、アルミナ粉末（５９．５重量％）、塩化アン モニウム粉末（０．５重量％） 処理温度：８００℃ 処理時間：５時間 その結果、合金層の厚さ１５μｍ、表面クロム濃度３０％のヨークが得られた。ＥＰＭＡ分析装置による合金層断面のクロム濃度分析値を図１４（ａ）に示す。」 「【０１１８】 〔実施例７〕 低炭素鋼（ＳＰＣＣ、炭素量０．０１重量％）を用いて加工したヨーク（図２におけるｚ軸方向における最大の長さ２２ｍｍ、ｘ軸方向における最大の長さ１１ｍｍ、幅（ｙ軸方向の長さ）１１．５ｍｍ）に以下の条件にて拡散浸透処理を施した。 浸透剤の組成：フェロバナジウム粉末（５０重量％）、アルミナ粉末（４９．５重量％）、塩化アンモニウム粉末（０．５重量％） 処理温度：９３０℃ 処理時間：５時間 その結果、厚さ２０μｍ、表面バナジウム濃度４９％のヨークが得られた。ＥＰＭＡ分析装置による合金層断面のバナジウム濃度分析値を図１４（ｂ）に示す。」 「【０１２２】 〔実施例９〕 低炭素鋼（ＳＰＣＣ、炭素量０．０１重量％）を用いて加工したヨーク（図２におけるｚ軸方向における最大の長さ２２ｍｍ、ｘ軸方向における最大の長さ１１ｍｍ、幅（ｙ軸方向の長さ）１１．５ｍｍ）に以下の条件にて拡散浸透処理を施した。 浸透剤の組成：クロム粉末（４０重量％）、アルミナ粉末（５９．５重量％）、塩化アンモニウム粉末（０．５重量％） 処理温度：８００℃ 処理時間：１３時間 その結果、合金層の厚さ１５μｍ、表面硬度２７０ｍＨｖ、表面クロム濃度３３％のヨークが得られた。ＥＰＭＡ分析装置による合金層断面のクロム濃度分析値を図１５（ａ）に示す。」 「【０１２４】 〔実施例１０〕 低炭素鋼（ＳＰＣＣ、炭素量０．１２重量％）を用いて加工した鉄片（図２におけるｘ軸方向における最大の長さ１３．５ｍｍ、ｚ軸方向における最大の長さ８．５ｍｍ、幅（ｙ軸方向の長さ）１１．５ｍｍ）に以下の条件にて拡散浸透処理を施した。 浸透剤の組成：クロム粉末（４０重量％）、アルミナ粉末（５９．５重量％）、塩化アンモニウム粉末（０．５重量％） 処理温度：８８０℃ 処理時間：８時間 その結果、合金層の厚さ２９μｍ、表面硬度３１０ｍＨｖ、表面クロム濃度４２％の鉄片が得られた。ＥＰＭＡ分析装置による合金層断面のクロム濃度分析値を図１５（ｂ）に示す。」 「【０１２６】 〔実施例１１〕 低炭素鋼（ＳＰＣＣ、炭素量０．０７重量％）を用いて加工した鉄心（直径φ７ｍｍ、長さ２０．５ｍｍ）に以下の条件にて拡散浸透処理を施した。 浸透剤の組成：クロム粉末（４０重量％）、アルミナ粉末（５９．５重量％）、塩化アンモニウム粉末（０．５重量％） 処理温度：９３０℃ 処理時間：６時間 その結果、合金層の厚さ３８μｍ、表面硬度３６０ｍＨｖ、表面クロム濃度４９％の鉄心が得られた。ＥＰＭＡ分析装置による合金層断面のクロム濃度分析値を図１５（ｃ）に示す。」 「【０１２８】 〔実施例１２〕 低炭素鋼（ＳＰＣＣ、炭素量０．０１重量％）を用いて加工した鉄心（直径φ７ｍｍ、長さ２０．５ｍｍ）に以下の条件にて拡散浸透処理を施した。 浸透剤の組成：フェロバナジウム粉末（５０重量％）、アルミナ粉末（４９．５重量％）、塩化アンモニウム粉末（０．５重量％） 処理温度：９３０℃ 処理時間：７時間 その結果、厚さ１６μｍ、表面硬度４１０ｍＨｖ、表面バナジウム濃度４３％のヨークが得られた。ＥＰＭＡ分析装置による合金層断面のバナジウム濃度分析値を図１５（ｄ）に示す。」 「【図１４】 」 「【図１５】 」 イ　上記アの 実施例６（【０１１６】）の「合金層の厚さ１５μｍ」との記載と、図１４（ａ）、 実施例７（【０１１８】）の「合金層の厚さ２０μｍ」との記載と、図１４（ｂ）、 実施例９（【０１２２】）の「合金層の厚さ１５μｍ」との記載と、図１５（ａ）、 実施例１０（【０１２４】）の「合金層の厚さ２９μｍ」との記載と、図１５（ｂ）、 実施例１１（【０１２６】）の「合金層の厚さ３８μｍ」との記載と、図１５（ｃ）、 実施例１２（【０１２８】）の「合金層の厚さ１６μｍ」との記載と、図１５（ｄ） をそれぞれ見比べると、「合金層」の厚さは、ＣｒやＶのＥＰＭＡによる元素濃度分析による濃度が０になるところまでの厚さであることを理解することができる。 また、上記アの【００９６】の記載と上記各実施例、図面の記載によれば、「合金層の厚さ」は、表面から、Ｃｒ、ＶおよびＴｉからなる群より選ばれる１以上の元素のＥＰＭＡによる元素濃度分析による濃度が０になるところまでの厚さであり、１０か所について計測した平均であることを理解することができる。 よって、「合金層の厚さ」がどのように定められる厚さであるのかは、明細書の記載から一意に定まるから、請求項１～４に係る発明は、明確であるといえる。 （前置２）について 上記第４のとおり、（前置２）は、当審拒絶理由の内容と同様である。 そして、上記第８のとおり、平成３０年　８月３１日付けの補正により、補正後の請求項３～４は、「任意の複数の位置における」との記載が削除された。 よって、本願発明３～４は、明確であるといえる。 第１０　むすび 以上のとおりであるから、原査定の理由及び当審から通知した拒絶理由のいずれによっても、本願を拒絶することはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。