特許拒絶査定不服審判
2016-007179
フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
- 審判番号
- 2016-007179
- 法域
- 特許
- 審判種別
- 拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
- 出願番号
- 特願2013-536309外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
- 請求日
- 2016年05月17日
- 審決日
- 2017年07月03日
- 公報発行日
- 2017年08月25日
- 結論
- 原査定取消(特許/登録すべき)
- 分類
- P18 .121-WYF(G03F) / P18 .537-WYF(G03F)
- データ出所
- 審決公報(SGML)
事件の表示
特願2013-536309「フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔2013年4月4日国際公開,WO2013/047536,請求項の数(7)〕について,次のとおり審決する。
結論
【結 論】
原査定を取り消す。
本願の発明は,特許すべきものとする。
理由
【理 由】
本願は,2012年9月25日(優先権主張 平成23年9月30日)の出願であって,その請求項1~7に係る発明は,平成29年5月26日付け手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項1~7に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして,本願については,原査定の拒絶の理由及び当合議体の拒絶の理由を検討しても,その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また,他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって,結論のとおり審決する。
審決本文(J-PlatPat)
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2016-007179