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特許拒絶査定不服審判

2015-015856

高度な半導体応用のためのポストイオン注入フォトレジスト剥離用組成物

審判番号
2015-015856
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2012-522125外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2015年08月27日
審決日
2017年05月09日
公報発行日
2017年06月30日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
審判長/審判官
分類
P18 .113-WYF(G03F) / P18 .121-WYF(G03F) / P18 .537-WYF(G03F)
データ出所
審決公報(SGML)

事件の表示

特願2012-522125「高度な半導体応用のためのポストイオン注入フォトレジスト剥離用組成物」拒絶査定不服審判事件〔2011年2月3日国際公開,WO2011/012559,平成25年1月7日国内公表,特表2013-500503,請求項の数(11)〕について,次のとおり審決する。

結論

【結 論】 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。

理由

【理 由】 本願は,2010年7月26日(パリ条約による優先権主張 2009年7月30日 (US)アメリカ合衆国)を国際出願日とする特許出願であって,その請求項1~11に係る発明は,特許請求の範囲の請求項1~11に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして,本願については,原査定及び当合議体の拒絶の理由を検討しても,その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また,他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって,結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

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2015-015856

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