2024-008030

特願２０２２－１６３６１６「二重Ｘ線によるＬＩＢアノードコーティング測定」拒絶査定不服審判事件〔令和５年４月２５日出願公開、特開２０２３－５８４６２〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本件出願（以下「本願」と記す。）は、令和４年１０月１２日（パリ条約による優先権主張 ２０２１年１０月１３日 米国）の出願であって、令和５年８月２２日付けで拒絶理由が通知され、これに対し同年１１月２１日に意見書及び手続補正書が提出され、同年１２月１４日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。）がなされたところ、令和６年５月１５日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正がなされ、その後当審より、令和７年４月１５日付けで拒絶理由が通知され、これに対し同年７月１５日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。 第２ 本願発明について 本願の請求項１ないし３に係る発明（以下「本願発明１ないし３」という。）は、令和７年７月１５日提出の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３の記載により特定される発明である。本願発明１を特定する請求項１の記載は以下のとおりである。（以下の記載の下線は、令和７年７月１５日提出の手続補正書の請求項１に記載されたとおりの下線であり、補正箇所を示す。） 「【請求項１】 システムであって、 コーティングされた基材（１８０）の上に構成された上部スキャナヘッド（１６０ａ）と、 前記コーティングされた基材（１８０）を走査するように構成されたＸ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）であって、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの一方が、前記コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギーに調整され、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの他方が、前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整され、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記コーティングされた基材（１８０）上の同じシート位置を走査し、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記上部スキャナヘッド（１６０ａ）内に含まれ、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の信号は、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合に対する、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２の線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号の比率として記録される、Ｘ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）と、 前記コーティングされた基材（１８０）の下に構成されて、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出のための位置を提供する、下部スキャナヘッド（１６０ｂ）と、を備える、システム。」 第３ 当審拒絶理由通知の概要 令和７年４月１５日付けで通知した拒絶理由通知（以下「当審拒絶理由通知」という。）の拒絶の理由の概要は以下のとおりである。 ●理由１：（明確性要件）本願は、特許請求の範囲の請求項１の「前記コーティングされた基材（１８０）内にシート材料が存在する場合の信号」という記載における「シート材料」が何を指しているのかが不明確であることから、請求項１－３に係る発明は明確であるとはいえず、そのため特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 ●理由２：（実施可能要件）本願は、「シート材料」に関し、本願の発明の詳細な説明においては、段落【００４４】【００５３】【００５９】【００６４】【００６８】【００６９】に記載があるものの、それらの記載からは「シート部材」が「コーティングされた基材」とどのような関係にあるのかを明確に把握することができず、さらに、「シート材料」がどのような材料から構成されているのかに関しても、本願の発明の詳細な説明には何ら記載されておらず、「シート材料」の技術的相互の関係が不明瞭なものとなっていることから、本願の発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。 ●＜付言＞ 上述のとおり、本願の請求項１－３に係る発明は不明確であり、発明の技術的意義を明確に把握することができないことから、新規性及び進歩性の判断を留保する。 なお、請求項１の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）が前記コーティングされた基材（１８０）上に構成されていない場合に対する、前記コーティングされた基材（１８０）内にシート材料が存在する場合の信号の比率」が、Ｘ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）の下にコーティングされた基材（１８０）が存在しない場合に対する、コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号の比率を表すのであれば、コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合の信号は、コーティングされた基材（１８０）を透過しない場合のＸ線強度、すなわち、照射Ｘ線強度そのものであると解される。その場合、照射Ｘ線強度と透過Ｘ線強度の比率を算出する点に関しては、原査定で引用された引用文献１（特開２００６－６４５８０号公報）の段落【００２０】－【００３０】等に開示されており、引用文献１に対する相違点になり得ないことにも留意されたい。 第４ 原査定の概要 原査定（令和５年１２月１４日付け拒絶査定）の拒絶の理由の概要は以下のとおりである。 ●理由２（新規性）この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内において、頒布された下記の引用文献１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。 ●理由３（進歩性）この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内において、頒布された下記の引用文献１に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 ・請求項 １－３ ・引用文献等 １ ＜引用文献等一覧＞ １．特開２００６－６４５８０号公報 第５ 引用文献１の記載及び引用発明について １．引用文献１の記載について 原査定の拒絶の理由２及び３において引用文献１として引用された、本願の優先日前である平成１８年（２００６年）３月９日に頒布された「特開２００６－６４５８０号公報」（以下「引用例」という。）には、図面とともに、以下の技術事項が記載されている。（下線は当審で付与した。以下同様。） （１）「【特許請求の範囲】 【請求項１】 高エネルギーのＸ線を発生する第１のＸ線源およびそれに対向する第１のＸ線検出器と、低エネルギーのＸ線を発生する第２のＸ線源およびそれに対向する第２のＸ線検出器と、走行状態または停止状態の二層膜シートの実質的に同一部分に前記第１のＸ線源から高エネルギーのＸ線および前記第２のＸ線源から低エネルギーのＸ線をそれぞれ透過させた際の第１のＸ線検出器および第２のＸ線検出器の各出力をデータ処理し、所定の計算式に基づいて前記二層膜シートの各層の単位面積当たり重量および／または厚みを測定する演算部とを具備することを特徴とするＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置。 ・・・ 【請求項５】 前記演算部は、二層膜シートの上層の位面積当たり重量ＷC および下層の位面積当たり重量ＷB を、以下の計算式に基づいて算出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載のＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置。 ＷC ＝－｛（μ／ρ）BL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－（μ／ρ）BH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／｛（μ／ρ）CH×（μ／ρ）BL－（μ／ρ）CL×（μ／ρ）BH｝ ＷB ＝｛（μ／ρ）CL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－（μ／ρ）CH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／｛（μ／ρ）CH×（μ／ρ）BL－（μ／ρ）CL×（μ／ρ）BH｝ 但し ＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度 ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度 （μ／ρ）CH；高エネルギー側における二層膜シートの上層の質量吸収係数 （μ／ρ）BH；高エネルギー側における二層膜シートの下層の質量吸収係数 （μ／ρ）CL；低エネルギー側における二層膜シートの上層の質量吸収係数 （μ／ρ）BL；低エネルギー側における二層膜シートの下層の質量吸収係数 【請求項６】 前記第１のＸ線源、第１のＸ線検出器、第２のＸ線源および第２のＸ線検出器の相対位置を維持して前記走行パスの幅方向に往復走査を繰り返す走査手段をさらに具備することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置。」 （２）「【０００１】 本発明は、Ｘ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置および測定方法に係り、特に二層膜シートの各層の単位面積当たりの重量および／または厚みを測定する装置および方法に関するもので、例えば高分子膜上、金属膜上などに塗工膜が形成された塗工シート、２枚のシートがラミネートされたラミネートシートの走行状態においてほぼ連続的に測定する際に使用されるものである。」 （３）「【０００４】 本発明は前記した従来の問題点を解決すべくなされたもので、二層膜シートの各層について単位面積当たり重量および／または厚みを精度良く簡単に測定し得るＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置および測定方法を提供することを目的とする。」 （４）「【０００９】 本発明のＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置および測定方法によれば、高分子膜、金属膜などの基材シート上に塗工膜を有する塗工シートを連続的に製造する設備とか、二枚のシートがラミネートされたラミネートシートを連続的に製造する設備などに適用して、インラインで二層膜シートの各層の厚みを分離して正確に測定することができる。この際、二層膜シートの下層（例えば基材）の厚みむらが存在したとしても、上層（例えば塗工膜）の厚みを正確に測定することが可能となり、上層の厚み制御および品質管理を正確かつ容易に行うことができる。」 （５）「【００１１】 ＜第１の実施形態＞ 図１は、本発明の第１の実施形態に係る二層膜シートの測定装置の基本構成を示す側面図である。 【００１２】 本実施形態の測定装置は、二層膜シート１０の走行パスの第１の位置に向けて第１のエネルギーを有する第１のＸ線ビームを照射する第１のＸ線源１１と、走行パスの第１の位置を挟んで第１のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第１のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第１のＸ線検出器２１とを有する。また、第１のエネルギーとは異なる第２のエネルギーを有する第２のＸ線ビームを走行パスの第１の位置に向けて第１のＸ線ビームとは異なる方向から照射する第２のＸ線源１２と、走行パスの第１の位置を挟んで第２のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第２のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第２のＸ線検出器２２とを有する。なお、２つのＸ線源１１，１２は、一方の照射エリアが他方の照射エリアに干渉しないようにコリメータ１３で制限を行うことが好ましい。 【００１３】 さらに、第１のＸ線検出器２１および第２のＸ線検出器２２の各検出出力（透過Ｘ線量）を適宜増幅する増幅器（図示せず）と、この増幅器の出力を電流値データに変換するアナログ・デジタル・コンバータ（ＡＤＣ）２３と、このＡＤＣ２３から入力される電流値データをデータ処理し、所定の計算式から二層膜シート１０の上下各層１０ａ，１０ｂの単位面積当たり重量および／または厚みを算出する演算部３０を有する。 【００１４】 演算部３０は、例えばパーソナルコンピュータが用いられており、その一例は、装置全体を統括するとともに各種演算処理を実行するＣＰＵ（中央処理装置）３１と、プログラム記憶用のＲＯＭ３２と、データメモリ用のＲＡＭ３３と、パラメータ記憶部３４などを有し、パラメータ設定部３５、ディスプレイ等で構成された表示部３６などが接続されている。前記パラメータ設定部３５は、後述する計算式に関連するパラメータを演算部３０に入力する機能を有する。前記パラメータ記憶部３４は、パラメータ設定部３５から入力されたパラメータ、あるいは、予め本例の測定装置を用いて実測されたパラメータを、例えばデータテーブル形式で記憶している。 【００１５】 上記演算部３０において、ＣＰＵ３１は、ＡＤＣ２３から入力される電流値データを測定位置データとセットにしてＲＡＭ３３に格納し、ＲＯＭ３２に格納されているプログラムに基づいてデータ処理を行い、二層膜シート１０の各層１０ａ，１０ｂの単位面積当たり重量および／または厚みを算出し、演算結果をＲＡＭ３３に格納するとともに表示装置３６で表示させる。 【００１６】 さらに、前記２つのＸ線源１１，１２および２つのＸ線検出器２１，２２を互いに同期して走行パスの幅方向（塗工シート１０の走行方向と直角方向）に定速度で往復駆動させるために、モータ等を含む駆動機構を用いた走査手段２４が設けられている。この走査手段２４は、Ｘ線源１１，１２から照射されるＸ線が走行パスの幅方向外側に少しずれた位置まで突出するように走査領域の一端を設定している。ここで、二層膜シートの走行方向と、測定器の走査方向と、測定位置の軌跡の一例との関係を図２に示す。 【００１７】 上記したように本例の測定装置においては、互いに異なるエネルギーを用いる２つのＸ線測定器を、走行状態の二層膜シート１０の実質的に同一部分に対して２つの透過Ｘ線がクロスするように配置し、走行状態の二層膜シート１０の同一部分を同時に測定することを可能としている。即ち、高エネルギーの第１のＸ線源１１およびそれに対向する第１のＸ線検出器２１と、低エネルギーの第２のＸ線源１２およびそれに対向する第２のＸ線検出器２２とを用い、走行状態の二層膜シート１０の同一部分に高エネルギーのＸ線および低エネルギーのＸ線を透過させる（Ｘ線の一部は二層膜シート１０で吸収されるが、他の一部は直進する）。そして、高エネルギー側の透過Ｘ線および低エネルギー側のＸ線透過を２つのＸ線検出器２１，２２で検出する。 【００１８】 上記二層膜シート１０の各層の元素構成が異なる場合、例えば基材上に塗工膜が塗工された塗工シートである場合、塗工シートの実質的に同一部分に２つのＸ線源１１，１２から異なる２つのＸ線エネルギー（塗工膜または基材に含まれる元素の吸収端波長両側のＸ線エネルギー）を照射して透過させることで、後述するような測定原理により、塗工シートの各層の単位面積当たり重量および／または厚みを正確に測定することが可能となる。 【００１９】 なお、吸収端波長両側（前後）のエネルギーは元素に依存し、Ｋ核吸収端の概算のエネルギーは、Ｔｉ；５．０ｋｅＶ、Ｃｒ；６．０ｋｅＶ、Ｆｅ；７．１ｋｅＶ、Ｃｏ；７．７ｋｅＶ、Ｃｕ；９．０ｋｅＶである。」 （６）「【００２５】 ところで、本実施形態では、エネルギーが異なる２つのＸ線源を用いて塗工シートを上層（塗工膜）と下層（基材）に分離して取り扱う。この際、高エネルギー側のＸ線透過法による基本式は以下に示される。 【００２６】 ＩH ＝ＩHoEXP ［－｛（μ／ρ）CH×ρC ×ｔC ＋（μ／ρ）BH×ρB ×ｔB ｝］ …（７） ＝ＩHoEXP ［－｛（μ／ρ）CH×ＷC ＋（μ／ρ）BH×ＷB ｝］ …（８） ＝ＩHoEXP ［－（μCH×ｔＣ＋μBH×ｔB ）］ …（９） 但し ＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度 μCH；高エネルギー側における塗工シートの塗工材の吸収係数 μBH；高エネルギー側における塗工シートの基材の吸収係数 （μ／ρ）CH；高エネルギー側における塗工シートの塗工材の質量吸収係数 （μ／ρ）BH；高エネルギー側における塗工シートの基材の質量吸収係数 である。これに対して、低エネルギー側のＸ線透過法による基本式は以下に示される。 【００２７】 ＩL ＝ＩLoEXP ［－｛（μ／ρ）CL×ρC ×ｔC ＋（μ／ρ）BL×ρB ×ｔB ｝］ …（10） ＝ＩLoEXP ［－｛（μ／ρ）CL×ＷC ＋（μ／ρ）BL×ＷB ｝］ …（11） ＝ＩLoEXP ［－（μCL×ｔC ＋μBL×ｔB ）］ …（12） 但し ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度 μCL；低エネルギー側における塗工シートの塗工材の吸収係数 μBL；低エネルギー側における塗工シートの基材の吸収係数 （μ／ρ）CL；低エネルギー側における塗工シートの塗工材の質量吸収係数 （μ／ρ）BL；低エネルギー側における塗工シートの基材の質量吸収係数 である。次に、前式（９）、（12）から塗工シートの上層（塗工材）の厚みｔC および下層（基材）の厚みｔB を求める。 【００２８】 ＩH ／ＩHo＝EXP ［－（μCH×ｔＣ＋μBH×ｔB ）］ …（13） ＩL ／ＩLo＝EXP ［－（μCL×ｔC ＋μBL×ｔB ）］ …（14） Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）＝－（μCH×ｔC ＋μBH×ｔB ） …（15） Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）＝－（μCL×ｔC ＋μBL×ｔB ） …（16） 上式（15）、（16）から ｔC ＝－｛μBL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－μBH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／（μCH×μBL－μCL×μBH） …（17）ｔB ＝｛μCL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－μCH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／（μCH×μBL－μCL×μBH） …（18） 但し ＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度 ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度 μCH；高エネルギー側における塗工シートの塗工材の吸収係数 μBH；高エネルギー側における塗工シートの基材の吸収係数 μCL；低エネルギー側における塗工シートの塗工材の吸収係数 μBL；低エネルギー側における塗工シートの基材の吸収係数 である。また、前式（８）、（11）から塗工シートの上層（塗工材）の単位面積当たり重量ＷC および下層（基材）の単位面積当たり重量ＷB を求める。 【００２９】 ＩH ／ＩHo＝EXP ［－｛（μ／ρ）CH×ＷC ＋（μ／ρ）BH×ＷB ｝］ …（19） ＩL ／ＩLo＝EXP ［－｛（μ／ρ）CL×ＷC ＋（μ／ρ）BL×ＷB ｝］ …（20） Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）＝－｛（μ／ρ）CH×ＷC ＋（μ／ρ）BH×ＷB ）｝ …（21） Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）＝－｛（μ／ρ）CL×ＷC ＋（μ／ρ）BL×ＷB ）｝ …（22） 上式（21）、（22）から ＷC ＝－｛（μ／ρ）BL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－（μ／ρ）BH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／｛（μ／ρ）CH×（μ／ρ）BL－（μ／ρ）CL×（μ／ρ）BH｝ …（23） ＷB ＝｛（μ／ρ）CL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－（μ／ρ）CH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／｛（μ／ρ）CH×（μ／ρ）BL－（μ／ρ）CL×（μ／ρ）BH｝ …（24） 但しＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度 ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度 （μ／ρ）CH；高エネルギー側における塗工シートの塗工材の質量吸収係数 （μ／ρ）BH；高エネルギー側における塗工シートの基材の質量吸収係数 （μ／ρ）CL；低エネルギー側における塗工シートの塗工材の質量吸収係数 （μ／ρ）BL；低エネルギー側における塗工シートの基材の質量吸収係数 である。 【００３０】 前式（17）、（18）、（23）、（24）において、ＩHo、ＩLoは、Ｘ線源とＸ線検出器との間に塗工シートが走行していない（存在しない）状態、本例では、Ｘ線源から照射されるＸ線が走行パスの外側にずれた位置に走査されている状態で、Ｘ線源から対向するＸ線検出器にＸ線が直接に照射された照射Ｘ線の値を測定し、その結果に基づいて補正された照射Ｘ線の値が使用される。ＩH 、ＩL は、Ｘ線源とＸ線検出器との間に塗工シートが走行している（存在する）状態の時に測定された値である。その他のμCH、μBH、μCL、μBL、（μ／ρ）CH、（μ／ρ）BH、（μ／ρ）CL、（μ／ρ）BLは、材質、Ｘ線エネルギーに応じて定まる規定値であり、この値は図１中のパラメータ記憶部３４から供給される。 【００３１】 上記したような本例の測定原理を利用し、走行状態の連続した塗工シートに対して横方向に２つの測定器を走行させながら塗工シートの幅方向の測定を行う場合には、実質的に同一部分を測定する必要がある。その理由は、測定点の移動に伴う基材の測定位置の厚みむらの変化を予測できないので、実質的に同一部分を異なったＸ線エネルギーで測定したデータでなければ正確に測定したことにならないからである。」 （７）「【００３２】 次に、上記したような測定原理を用いる本実施形態の測定方法の一例について、図３に示すフローチャートを参照しながら説明する。ここでは、高エネルギーのＸ線を発生する第１のＸ線源１１およびそれに対向する第１のＸ線検出器２１と、低エネルギーのＸ線を発生し、第１のＸ線源１１とほぼ同一部分を照射する第２のＸ線源２１およびそれに対向する第２のＸ線検出器２２と、これらのＸ線源およびＸ線検出器の相対位置を維持して二層膜シートの走行パスの幅方向に往復走査させる走査手段とを有する測定装置を用いる。第１のステップＳ１では、二層膜シートの各層について、高エネルギーのＸ線が照射された場合のＸ線吸収係数μCH，μBHおよび／または質量吸収係数（μ／ρ）CH，（μ／ρ）BH、ならびに、低エネルギーのＸ線が照射された場合のＸ線吸収係数μCL，μBLおよび／または質量吸収係数（μ／ρ）CL，（μ／ρ）BLをパラメータとして設定し、パラメータ記憶部に記憶させる。 【００３３】 第２のステップＳ２では、Ｘ線源から照射されるＸ線が走行パスの外側にずれた位置になった状態の時に、高エネルギーのＸ線および低エネルギーのＸ線を各Ｘ線検出器で検出した出力に基づいて、高エネルギー側の照射Ｘ線強度および低エネルギー側の照射Ｘ線強度ＩHo，ＩLoを測定し、補正されたＩHo，ＩLoを求める。 【００３４】 第３のステップＳ３では、走行状態の二層膜シートの実質的に同一部分に高エネルギーのＸ線およ低エネルギーのＸ線を透過させた時の各Ｘ線検出器の出力に基づいて、高エネルギー側の透過Ｘ線強度ＩH および低エネルギー側の透過Ｘ線強度ＩL を自動的に測定させる。 【００３５】 第４のステップＳ４では、各ステップＳ１～Ｓ３で得られた規定値および実測値を用いて所定の計算式に基づいて二層膜シートの各層の単位面積当たり重量および／または厚みを自動的に算出させ、結果の記録、表示を行わせる。この際、塗工シートの上層（塗工材）の厚みｔC および下層（基材）の厚みｔB を求める場合には前式（17）、（18）を使用し、塗工シートの上層（塗工材）の単位面積当たり重量ＷC および下層（基材）の単位面積当たり重量ＷB を求める場合には前式（23）、（24）を使用する。そして、測定を継続する期間中は、第３のステップＳ３および第４のステップＳ４のループ処理を繰り返す。 【００３６】 以上述べたような本実施形態の測定装置および測定方法を、基材上に塗工材を塗工する製造ライン中の塗工シートの搬送ラインの一部にインライン方式で適用することにより、基材の厚みと塗工膜の厚みを分離して正確に測定することができる。この際、基材の厚みむらが存在したとしても塗工膜の厚みを正確に測定することが可能となり、塗工膜の厚み制御および品質管理を正確かつ容易に行うことが可能になる。また、従来例のように製造ラインに２台の厚さ計を組み込む必要がある場合に比べて、約６０％程度にコストダウンが可能になる。 【００３７】 なお、上記したような本例の測定原理は、停止状態の二層膜シートの各層の単位面積当たり重量および／または厚みを測定する場合にも適用可能であることはいうまでもない。 図４は、図１の測定装置の一具体例を概略的に示す斜視図である。 【００３８】 図４において、例えばＯ型フレーム中の左右一対のフレーム４１、４１の間に、上下一対のレール４２，４３が隙間をあけて水平に取付けられている。上下一対のレール４２，４３間は、帯状の細長い二層膜シート１０が図示矢印方向に走行する走行パスの一部となっている。 【００３９】 一方のレール（本例では上側のレール４２）には、図１中に示したような第１のＸ線源１１および第２のＸ線源１２がレール長手方向に摺動可能に取付けられており、各Ｘ線源１１，１２は、相対位置を維持したままレール長手方向に往復移動が可能である。ここで、各Ｘ線源１１，１２は、例えばＸ線管カバーの内部に、Ｘ線管のＸ線照射口を下向きにして内蔵しており、Ｘ線管カバーの下部にはＸ線が通り抜ける通光孔が形成されている。上記Ｘ線源１１，１２は、Ｘ線管の陰極からの電子ビームを陽極ターゲットに照射させてＸ線を生成する。このＸ線としては、Ｘ線透過法による測定に適したエネルギーのＸ線を用いており、Ｘ線のエネルギー分布は連続Ｘ線であっても特定Ｘ線であってもよい。 【００４０】 他方のレール（本例では下側のレール４３）には、図１中に示したような第１のＸ線検出器２１および第２のＸ線検出器２２がレール長手方向に摺動可能に取付けられており、各Ｘ線検出器２１，２２は、相対位置を維持したままレール長手方向に往復移動が可能である。ここで、各Ｘ線検出器２１，２２は、入射したＸ線を例えばイオンチャンバーで受けて入射したＸ線信号に比例した電流信号に変換するか、または、シンチレータで受けて光に変換し、例えばフォトマルチプライアやフォトダイオードによって入射したＸ線信号に比例した電流信号に変換する（シンチレーション検出器）。 【００４１】 さらに、図１中に示したように２つのＸ線源１１，１２および２つのＸ線検出器２１，２２を互いに同期して走行パスの幅方向（レール長手方向）に定速度で往復駆動させるために、モータ等を含む駆動機構を用いた走査手段（図示せず）が測定装置に内蔵されている。この走査手段は、走査領域の一端が、Ｘ線源１１，１２から照射されるＸ線が走行パスの幅方向外側に少しずれた位置になるように走査駆動する。また、例えばフレーム４１の前面には、装置の操作部４４が設けられている。 【００４２】 上記構成により、２つのＸ線源１１，１２および２つのＸ線検出器２１，２２がレール長手方向のどの位置に移動しても、第１のＸ線源１１から照射されたＸ線は第１のＸ線検出器２１で検出され、第２のＸ線源１２から照射されたＸ線は第２のＸ線検出器２２で検出される。各Ｘ線検出器２１，２２で検出されたＸ線量は電流値に変換され、図１を参照して前述したようにＡ／Ｄコンバータ２３により電流値データに変換された後に演算部３０に入力される。」 （８）「【００４８】 本実施形態のＸ線透過法を用いた測定装置は、ポリエステルフィルム等の合成樹脂フィルム、紙、非鉄金属箔等のベースに、セラミック材、磁気を帯びた磁性体やフィラー、チタン、鉛等の粉体が塗布された帯状の各種の塗工シートを測定することが可能であり、以下、具体例を説明する。 ・・・ 【００５６】 ［実施例３］ リチュームイオン電池の陽極用の塗工シートとして、例えばアルミ基板にコバルト酸リチュームが塗工されており、リチュームイオン電池の負極用の塗工シートとして、例えば銅基板にカーボンが塗工されている。これらの塗工シートの各層を測定する場合には、Ｗターゲットを用いたＸ線源を用い、高エネルギー側のＸ線管は例えば１５ＫＶ、低エネルギー側のＸ線管は例えば７．５ＫＶを印加することで、高エネルギーのＸ線、低エネルギーのＸ線を照射させて測定することが可能である。」 （９）「【図１】 ［図：0001431684000001.jpg］ 【図２】 ［図：0001431684000002.jpg］ 【図３】 ［図：0001431684000003.jpg］ 【図４】 ［図：0001431684000004.jpg］ 」 ２．引用発明 前記「１．（１）ないし（９）」に示した前記引用例の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 当該引用発明については、後記する本願発明１との対比・判断で用いるために、以下のように各構成単位に分けることを行う。ここで、各構成単位冒頭の「ａ，ｂ，・・」などは当審にて付した分説記号であり、以下当該構成単位について「構成ａ，ｂ，・・」などという。また、括弧内の符号は、各構成単位を認定した参照箇所を示す。 「ａ 高分子膜上、金属膜上などに塗工膜が形成された塗工シートなどの二層膜シートの各層の単位面積当たりの重量を測定するＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置において、（【０００１】） ｂ 前記二層膜シートの測定装置は、（【００１１】） ｃ 二層膜シート１０の走行パスの第１の位置に向けて第１のエネルギーを有する第１のＸ線ビームを照射する第１のＸ線源１１と、走行パスの第１の位置を挟んで第１のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第１のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第１のＸ線検出器２１とを有し、（【００１２】） ｄ また、第１のエネルギーとは異なる第２のエネルギーを有する第２のＸ線ビームを走行パスの第１の位置に向けて第１のＸ線ビームとは異なる方向から照射する第２のＸ線源１２と、走行パスの第１の位置を挟んで第２のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第２のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第２のＸ線検出器２２とを有し、（【００１２】） ｅ さらに、第１のＸ線検出器２１および第２のＸ線検出器２２の各検出出力（透過Ｘ線量）を適宜増幅する増幅器と、この増幅器の出力を電流値データに変換するアナログ・デジタル・コンバータ（ＡＤＣ）２３と、このＡＤＣ２３から入力される電流値データをデータ処理し、所定の計算式から二層膜シート１０の上下各層１０ａ，１０ｂの単位面積当たり重量および／または厚みを算出する演算部３０を有し、（【００１３】） ｅ－１ 演算部３０は、パーソナルコンピュータが用いられており、装置全体を統括するとともに各種演算処理を実行するＣＰＵ（中央処理装置）３１と、プログラム記憶用のＲＯＭ３２と、データメモリ用のＲＡＭ３３と、パラメータ記憶部３４などを有し、パラメータ設定部３５、ディスプレイ等で構成された表示部３６などが接続され、前記パラメータ設定部３５は、後述する計算式に関連するパラメータを演算部３０に入力する機能を有し、前記パラメータ記憶部３４は、パラメータ設定部３５から入力されたパラメータ、あるいは、予め本例の測定装置を用いて実測されたパラメータを、例えばデータテーブル形式で記憶しており、（【００１４】） ｅ－２ 上記演算部３０において、ＣＰＵ３１は、ＡＤＣ２３から入力される電流値データを測定位置データとセットにしてＲＡＭ３３に格納し、ＲＯＭ３２に格納されているプログラムに基づいてデータ処理を行い、二層膜シート１０の各層１０ａ，１０ｂの単位面積当たり重量および／または厚みを算出し、演算結果をＲＡＭ３３に格納するとともに表示装置３６で表示させ、（【００１５】） ｆ さらに、前記２つのＸ線源１１，１２および２つのＸ線検出器２１，２２を互いに同期して走行パスの幅方向（塗工シート１０の走行方向と直角方向）に定速度で往復駆動させるために、モータ等を含む駆動機構を用いた走査手段２４が設けられており、この走査手段２４は、Ｘ線源１１，１２から照射されるＸ線が走行パスの幅方向外側に少しずれた位置まで突出するように走査領域の一端を設定しており、（【００１６】【００４１】） ｇ Ｏ型フレーム中の左右一対のフレーム４１、４１の間に、上下一対のレール４２，４３が隙間をあけて水平に取付けられており、上下一対のレール４２，４３間は、帯状の細長い二層膜シート１０が走行する前記走行パスの一部となっており、上側のレール４２には、第１のＸ線源１１および第２のＸ線源１２がレール長手方向に摺動可能に取付けられており、各Ｘ線源１１，１２は、相対位置を維持したままレール長手方向に往復移動が可能であり、各Ｘ線源１１，１２は、Ｘ線管カバーの内部に、Ｘ線管のＸ線照射口を下向きにして内蔵しており、Ｘ線管カバーの下部にはＸ線が通り抜ける通光孔が形成されており、下側のレール４３には、第１のＸ線検出器２１および第２のＸ線検出器２２がレール長手方向に摺動可能に取付けられており、各Ｘ線検出器２１，２２は、相対位置を維持したままレール長手方向に往復移動が可能であり、（【００３８】【００３９】【００４０】） ｈ 前記測定装置においては、互いに異なるエネルギーを用いる２つのＸ線測定器を、走行状態の二層膜シート１０の実質的に同一部分に対して２つの透過Ｘ線がクロスするように配置し、走行状態の二層膜シート１０の同一部分を同時に測定することを可能としており、（【００１７】） ｉ 前記二層膜シートが、リチュームイオン電池の負極用の塗工シートとして、銅基板にカーボンが塗工されているものである場合に、Ｗターゲットを用いたＸ線源を用い、塗工シートの実質的に同一部分に２つのＸ線源１１，１２から異なる２つのＸ線エネルギー（基材に含まれる元素Ｃｕの吸収端＜ＣｕのＫ核吸収端の概算のエネルギーはＣｕ；９．０ｋｅＶである＞波長両側のＸ線エネルギー）すなわち高エネルギー側のＸ線管は１５ＫＶ、低エネルギー側のＸ線管は７．５ＫＶを印加することで、高エネルギーのＸ線、低エネルギーのＸ線を照射させて測定することが可能であり、（【００１８】【００１９】【００５６】） ｊ 前記演算部は、二層膜シートの上層の単位面積当たり重量ＷC および下層の単位面積当たり重量ＷB を、以下の計算式に基づいて算出し、 ＷC ＝－｛（μ／ρ）BL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－（μ／ρ）BH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／｛（μ／ρ）CH×（μ／ρ）BL－（μ／ρ）CL×（μ／ρ）BH｝ ＷB ＝｛（μ／ρ）CL×Ｌｎ（ＩH ／ＩHo）－（μ／ρ）CH×Ｌｎ（ＩL ／ＩLo）｝ ／｛（μ／ρ）CH×（μ／ρ）BL－（μ／ρ）CL×（μ／ρ）BH｝ 但し ＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度 ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度 ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度 （μ／ρ）CH；高エネルギー側における二層膜シートの上層の質量吸収係数 （μ／ρ）BH；高エネルギー側における二層膜シートの下層の質量吸収係数 （μ／ρ）CL；低エネルギー側における二層膜シートの上層の質量吸収係数 （μ／ρ）BL；低エネルギー側における二層膜シートの下層の質量吸収係数 ここで、ＩHo、ＩLoは、Ｘ線源とＸ線検出器との間に塗工シートが走行していない（存在しない）状態、本例では、Ｘ線源から照射されるＸ線が走行パスの外側にずれた位置に走査されている状態で、Ｘ線源から対向するＸ線検出器にＸ線が直接に照射された照射Ｘ線の値を測定し、その結果に基づいて補正された照射Ｘ線の値が使用され、ＩH 、ＩL は、Ｘ線源とＸ線検出器との間に塗工シートが走行している（存在する）状態の時に測定された値である、（【００２９】【００３０】） ａ 二層膜シートの測定装置。」 第６ 当審拒絶理由通知の拒絶の理由についての判断 当審拒絶理由通知で指摘されていた「シート材料」という記載は、令和７年７月１５日提出の手続補正書による補正により、本願発明１を特定する請求項１の記載には含まれなくなった。そのため、当審拒絶理由通知の理由１及び理由２は解消した。 第７ 原査定の拒絶の理由についての判断 当審拒絶理由通知の＜付言＞（前記「第３」参照。）で説示したとおり、新規性及び進歩性に対しての判断は、留保されていたが、本願発明１は令和７年７月１５日提出の手続補正書による補正により、明確になったことから、本願発明１に対する進歩性について検討する。 １．本願発明１及びその項目分け 本願発明１は、前記「第２」に示したとおりであるが、以下の進歩性についての対比及び判断で用いるために、当該本願１について、以下のように各構成単位に分けることを行う。ここで、各構成単位冒頭の「１Ａ」などは当審にて付した分説記号であり、以下当該構成単位について「構成１Ａ」などという。 「Ａ システムであって、 Ｂ コーティングされた基材（１８０）の上に構成された上部スキャナヘッド（１６０ａ）と、 Ｃ 前記コーティングされた基材（１８０）を走査するように構成されたＸ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）であって、 Ｃ－１ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの一方が、前記コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギーに調整され、 Ｃ－２ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの他方が、前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整され、 Ｃ－３ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記コーティングされた基材（１８０）上の同じシート位置を走査し、 Ｃ－４ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記上部スキャナヘッド（１６０ａ）内に含まれ、 Ｃ－５ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の信号は、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合に対する、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号の比率として記録される、 Ｃ Ｘ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）と、 Ｄ 前記コーティングされた基材（１８０）の下に構成されて、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出のための位置を提供する、下部スキャナヘッド（１６０ｂ）と、 Ａ を備える、システム。」 ２．本願発明１の進歩性について （１）対比 本願発明１を引用発明と対比する。 ア 本願発明１の構成Ａについて （ア）引用発明の構成ａの「高分子膜上、金属膜上などに塗工膜が形成された塗工シートなどの二層膜シートの各層の単位面積当たりの重量を測定するＸ線透過法を用いた二層膜シートの測定装置」は、本願発明１の「システム」に相当する。 （イ）よって、引用発明は本願発明１の構成Ａを備えているといえる。 イ 本願発明１の構成Ｂについて （ア）引用発明の構成ｉの「リチュームイオン電池の負極用の塗工シートとして、銅基板にカーボンが塗工されている」「二層膜シート」は、本願発明１の構成Ｂの「コーティングされた基材（１８０）」に相当する。 （イ）引用発明は、構成ｇより、第１のＸ線源１１及び第２のＸ線源１２が、二層膜シート１０が走行する前記走行パスの一部の上側のレール４２にレール長手方向に摺動可能に取付けられており、各Ｘ線源１１，１２は、Ｘ線管カバーの内部に、Ｘ線管のＸ線照射口を下向きにして内蔵しており、Ｘ線管カバーの下部にはＸ線が通り抜ける通光孔が形成されていることから、引用発明の「第１のＸ線源１１及び第２のＸ線源１２を内蔵」する「Ｘ線管カバー」は、本願発明１の構成Ｂの「コーティングされた基材（１８０）の上に構成された上部スキャナヘッド（１６０ａ）」に相当する。 （ウ）前記「（ア）及び（イ）」より、引用発明は本願発明１の構成Ｂを備えているといえる。 ウ 本願発明１の構成Ｃについて （ア）本願発明１の「Ｘ線センサ（１１０）」及び「第２のＸ線センサ（１２０）」は、本願発明１において「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの一方が、前記コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギーに調整され、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの他方が、前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整され、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記コーティングされた基材（１８０）上の同じシート位置を走査」すると記載され、エネルギーが調整されるものであり、基材上の位置を走査するものとして特定されていることから、いわゆるＸ線源といえるものである。 そして、引用発明は、構成ｆより、２つのＸ線源１１，１２および２つのＸ線検出器２１，２２を互いに同期して走行パスの幅方向（塗工シート１０の走行方向と直角方向）に定速度で往復駆動することから、引用発明の「第１のＸ線源１１」及び「第２のＸ線源１２」は、それぞれ本願発明１の構成Ｃの「コーティングされた基材（１８０）を走査するように構成されたＸ線センサ（１１０）」及び「第２のＸ線センサ（１２０）」に相当する。 （イ）よって、引用発明は本願発明１の構成Ｃを備えているといえる。 エ 本願発明１の構成Ｃ－１及びＣ－２について （ア）引用発明は、構成ｉより、銅基板にカーボンが塗工されている二層膜シートを測定する際には、基材に含まれる元素Ｃｕの吸収端＜ＣｕのＫ核吸収端の概算のエネルギーはＣｕ；９．０ｋｅＶである＞波長両側のＸ線エネルギー）すなわち高エネルギー側のＸ線管は１５ＫＶ、低エネルギー側のＸ線管は７．５ＫＶを印加することで、高エネルギーのＸ線、低エネルギーのＸ線を照射させて測定するものであり、第１のＸ線源１１と第２のＸ線源はそれぞれ、高エネルギー側のＸ線管は１５ＫＶ、低エネルギー側のＸ線管は７．５ＫＶを印加するものである。 （イ）ここで、引用発明の「銅基板」は、本願発明１の構成Ｃ－１「コーティングされた基材の基材材料」及び構成Ｃ－２の「前記基材材料」に相当し、引用発明の「基材に含まれる元素Ｃｕの吸収端＜ＣｕのＫ核吸収端の概算のエネルギーはＣｕ；９．０ｋｅＶである＞波長両側のＸ線エネルギー」は、本願発明１の構成Ｃ－１の「コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギー」及び構成Ｃ－２の「前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベル」に相当する。 （ウ）また、引用発明の「高エネルギー側のＸ線管は１５ＫＶ、低エネルギー側のＸ線管は７．５ＫＶを印加すること」は、本願発明１の構成Ｃ－１の「コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギーに調整され」ること、及び構成Ｃ－２の「前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整され」ることと等価である。 （エ）したがって、引用発明は、本願発明１の構成Ｃ－１及び構成Ｃ－２を備えているといえる。 オ 本願発明１の構成Ｃ－３について （ア）引用発明の構成ｃ及び構成ｄより、第１のＸ線源１１と第２のＸ線源１２は共に二層膜シート１０の走行パスの第１の位置に向けてＸ線ビームを照射するものであり、構成ｈより、走行状態の二層膜シート１０の実質的に同一部分に対して２つの透過Ｘ線がクロスするように配置し、走行状態の二層膜シート１０の同一部分を同時に測定することを可能としていることから、第１のＸ線源１１と第２のＸ線源は共に走行状態の二層膜シート１０の同一部分にＸ線ビームを照射し測定している。 （イ）また、前記「ウ」で説示したとおり、第１のＸ線源１１と第２のＸ線源１２は共に二層膜シート１０の走行パスの幅方向（塗工シート１０の走行方向と直角方向）に定速度で往復駆動することから、二層膜シート１０を走査するものである。 （ウ）前記「（ア）及び（イ）」より、引用発明と本願発明１とは、「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記コーティングされた基材（１８０）上の同じシート位置を走査」する点で共通する。 （エ）したがって、引用発明は本願発明１の構成Ｃ－３を備えているといえる。 カ 本願発明１の構成Ｃ－４について （ア）前記「イ（イ）」で説示したとおり、引用発明の「第１のＸ線源１１及び第２のＸ線源１２を内蔵」する「Ｘ線管カバー」は、本願発明１の構成Ｂの「コーティングされた基材（１８０）の上に構成された上部スキャナヘッド（１６０ａ）」に相当することから、引用発明と本願発明１とは「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記上部スキャナヘッド（１６０ａ）内に含まれ」る点で共通する。 （イ）よって、引用発明は本願発明１の構成Ｃ－４を備えているといえる。 キ 本願発明１の構成Ｃ－５について （ア）引用発明の構成ｊの「ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度」及び「ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度」は、「Ｘ線源とＸ線検出器との間に塗工シートが走行していない（存在しない）状態、本例では、Ｘ線源から照射されるＸ線が走行パスの外側にずれた位置に走査されている状態で、Ｘ線源から対向するＸ線検出器にＸ線が直接に照射された照射Ｘ線の値を測定し、その結果に基づいて補正された照射Ｘ線の値が使用される」ことから、本願発明１の構成Ｃ－５の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の」「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合」の「信号」に相当する。 （イ）引用発明の構成ｊの「ＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度」及び「ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度」は、「Ｘ線源とＸ線検出器との間に塗工シートが走行している（存在する）状態の時に測定された値である」ことから、本願発明１の構成Ｃ－５の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の」「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号」に相当する。 （ウ）引用発明の構成ｊの下層の単位面積当たり重量ＷB の計算式内にある「（ＩH ／ＩHo）」及び「（ＩL ／ＩLo）」は、前記「（ア）及び（イ）」より、本願発明１の構成Ｃ－５の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の」「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合に対する、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号の比率」に相当する。 （エ）引用発明の構成ｊ及び構成ｅ－１より、構成ｊのＷB の計算式内にある「ＩH」、「ＩHo」、「ＩL」及び「ＩLo」は、計算式に関連するパラメータであり、本例の測定装置を用いて実測されたパラメータであることから、演算部３０が有するパラメータ記憶部３４に記憶される。 （オ）したがって、 引用発明と本願発明１とは、引用発明が上記「（ウ）」のとおり信号の比率を計算するものの、記録まではしていないことから、構成Ｃ－５のうち、「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の信号は、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合」及び「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号」「として記録される」点で共通する。 ク 本願発明１の構成Ｄについて （ア）引用発明の構成ｃ、構成ｄ及び構成ｇより、引用発明の「走行パスの第１の位置を挟んで第１のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第１のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第１のＸ線検出器２１」及び「走行パスの第１の位置を挟んで第２のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第２のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第２のＸ線検出器２２」は、「上下一対のレール４２，４３間は、帯状の細長い二層膜シート１０が走行する前記走行パスの一部となって」いる「下側のレール４３に」「レール長手方向に摺動可能に取付けられており、各Ｘ線検出器２１，２２は、相対位置を維持したままレール長手方向に往復移動が可能であ」る。 （イ）したがって、引用発明と本願発明１とは、構成Ｄのうち「前記コーティングされた基材（１８０）の下に構成されて、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出」をする「下部スキャナ」の点で共通する。 ケ 本願発明１と引用発明との一致点及び相違点について 前記「アないしク」より、本願発明１と、引用発明とは、次の点で一致する。 ＜一致点＞ 「Ａ システムであって、 Ｂ コーティングされた基材（１８０）の上に構成された上部スキャナヘッド（１６０ａ）と、 Ｃ 前記コーティングされた基材（１８０）を走査するように構成されたＸ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）であって、 Ｃ－１ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの一方が、前記コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギーに調整され、 Ｃ－２ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの他方が、前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整され、 Ｃ－３ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記コーティングされた基材（１８０）上の同じシート位置を走査し、 Ｃ－４ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）は、前記上部スキャナヘッド（１６０ａ）内に含まれ、 Ｃ－５’ 前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の信号は、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合及び、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号として記録される、 Ｃ Ｘ線センサ（１１０）及び第２のＸ線センサ（１２０）と、 Ｄ’ 前記コーティングされた基材（１８０）の下に構成されて、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出をする下部スキャナと、 Ａ を備える、システム。」 （当審注：構成Ｃ－５’及び構成Ｄ’は、それぞれ構成Ｃ－５及び構成Ｄと一部相違する点がある。） 一方で、両者は、次の点で相違する。 ＜相違点１＞ 構成Ｃ－５において、「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の信号」が、本願発明１では、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在しない場合に対する、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）の下に前記コーティングされた基材（１８０）が存在する場合の信号「の比率として記録される」のに対し、引用発明は、「ＩHo；高エネルギー側における照射Ｘ線強度」、「ＩLo；低エネルギー側における照射Ｘ線強度」、「ＩH ；高エネルギー側における透過Ｘ線強度」及び「ＩL ；低エネルギー側における透過Ｘ線強度」それぞれをパラメータ記憶部３４に記憶する点。 ＜相違点２＞ 構成Ｄにおいて、コーティングされた基材（１８０）の下のスキャナが、本願発明１は「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出のための位置を提供する、下部スキャナヘッド（１６０ｂ）」であるのに対し、引用発明は、「走行パスの第１の位置を挟んで第１のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第１のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第１のＸ線検出器２１」及び「走行パスの第１の位置を挟んで第２のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第２のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第２のＸ線検出器２２」である点。 （２）当審の判断 ア 相違点１について 引用発明において、演算部３０における下層の単位面積当たり重量ＷB の計算式に関係するパラメータとして、「ＩH」、「ＩHo」、「ＩL」及び「ＩLo」は、パラメータ記憶部３４に記憶することが行われている。そして、計算に必要なパラメータを記憶することは計算装置における常套手段であるところ、ＷB の計算式では、上記４つのパラメータは、「（ＩH ／ＩHo）」及び「（ＩL ／ＩLo）」というパラメータとして用いられることから、パラメータ記憶部３４に記憶するパラメータを「ＩH」、「ＩHo」、「ＩL」及び「ＩLo」に代えて、又は加えて、「（ＩH ／ＩHo）」及び「（ＩL ／ＩLo）」という比率として記憶するようにすることは、当業者が適宜なし得る設計的事項にすぎず、当業者が容易になし得たことである。 したがって、引用発明に前記相違点１に係る構成を備えるようにすることは、当業者ならば容易になし得たことである。 イ 相違点２について （ア）引用発明の、「走行パスの第１の位置を挟んで第１のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第１のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第１のＸ線検出器２１」及び「走行パスの第１の位置を挟んで第２のＸ線ビームに対向し、走行パスの第１の位置における二層膜シート１０を第２のＸ線ビームが透過した透過Ｘ線の強さを検出する第２のＸ線検出器２２」は、第１の位置からのＸ線の検出のための位置にそれぞれ配置されるものであるから、本願発明１の構成Ｃ－５の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出のための位置を提供する、下部スキャナヘッド（１６０ｂ）」に相当する。よって、前記相違点２は、本願発明１と引用発明との間の相違点ではない。 （イ）仮に、本願発明１の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のＸ線の検出のための位置を提供する、下部スキャナヘッド（１６０ｂ）」が、本願の【図１Ｂ】に記載されているように、Ｘ線センサ１１０からの透過Ｘ線を受ける受信機１１０ｂ及び第２のセンサ１２０からの透過Ｘ線を受ける受信機１２０ｂを収納して使用するための箱状のものであると特定されている場合について検討すると、その場合は、確かに引用発明は第１のＸ線検出器２１及び第２のＸ線検出器２２を収納するケース状のものを備えているとは明示されていない。しかしながら、計測機器を、当該計測機器が配置された雰囲気内の大気、温度、湿度、外部からの光照射などの外部環境影響から守るために、箱内に配置して使用することは、当業者において、引例を挙げるまでもなく周知慣用の技術にすぎないことから、引用発明に前記周知慣用の技術を適用して第１のＸ線検出器２１及び第２のＸ線検出器２２を収納して使用するための箱状のものを備えるようにすることは、当業者ならば容易になし得たことである。 ウ 本願発明１の効果について 本願発明１の効果は、引用発明及び周知慣用の技術から、当業者が予測しうる程度のものにすぎない。 エ 審判請求人の主張について （ア）令和７年７月１５日提出の意見書における主張について ａ 審判請求人は、令和７年７月１５日提出の意見書の「（４）本願発明の進歩性」において、本願発明が引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない理由として、以下の２点について主張する。している。 （ａ）主張１：本願発明の「前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの一方が、前記コーティングされた基材の基材材料の吸収ピークを下回るエネルギーに調整され、前記Ｘ線センサ（１１０）及び前記第２のＸ線センサ（１２０）のうちの他方が、前記基材材料の前記吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整され、」との特徴は、引用文献１に開示も示唆もされていない。 （ｂ）主張２：本願発明は、本願の明細書の段落０００２－０００５に記載されているような、リチウムイオン電池の銅が関与するアノードフィルムのコーティングと箔の厚さの変動をより効果的に区別するという課題に対し、同明細書の段落００４３，００４７記載の「Ｘ線センサのうちの一方は、１０キロ電子ボルト（ＫｅＶ）の銅吸収ピークを下回るエネルギーレベルに調整される。他方のＸ線センサは、１０ＫｅＶの銅吸収ピークを上回るエネルギーレベルに調整される。」という構成を採用し、同段落００６８及び００６９記載の「銅及び炭素／シリコンの坪量を計算する」効果を奏するものである。 ｂ 前記主張１については、本願発明１の構成Ｃ－１及び構成Ｃ－２についての主張であり、前記「（１）エ」で説示したとおり、引用発明が備える構成である。よって、審判請求人の前記主張１は採用することができない。 ｃ 前記主張２については、引用発明においても、構成ｉで示したとおり、前記二層膜シートが、リチュームイオン電池の負極用の塗工シートとして、銅基板にカーボンが塗工されているものである場合に、塗工シートの実質的に同一部分に２つのＸ線源１１，１２から異なる２つのＸ線エネルギー（基材に含まれる元素Ｃｕの吸収端＜ＣｕのＫ核吸収端の概算のエネルギーはＣｕ；９．０ｋｅＶである＞波長両側のＸ線エネルギー）すなわち高エネルギー側のＸ線管は１５ＫＶ、低エネルギー側のＸ線管は７．５ＫＶを印加することで、高エネルギーのＸ線、低エネルギーのＸ線を照射させて測定し、構成ｊで示したとおり、二層膜シートの上層の単位面積当たり重量ＷC および下層の単位面積当たり重量ＷB を、計算式に基づいて算出することから、引用発明は、前記主張２で主張される本願発明が備える構成及び奏する効果を、同様に備え奏するものである。よって、審判請求人の前記主張２は採用することができない。 （イ）令和６年５月１５日提出の審判請求書における主張について ａ 審判請求人は、令和６年５月１５日提出の審判請求書の請求の理由を変更する令和６年６月１８日提出の手続補正書の「３．本願発明が特許されるべき理由（ｂ）本願発明と引用発明との対比」において、令和７年７月１５日提出の意見書の「（４）本願発明の進歩性」と同様の主張をしている。 ｂ したがって、前記「（ア）」で説示したとおり、審判請求人の審判請求書における主張は採用することができない。 （３）進歩性についてのまとめ したがって、本願発明１は、引用発明及び周知慣用の技術から当業者が容易に発明をすることができたものである。 ３．原査定の拒絶の理由についての判断のまとめ 以上のことから、本願発明１は、引用文献１に記載された発明（引用発明）及び周知慣用の技術から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 第８ むすび 以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 したがって、その他の理由及びその余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。