特許拒絶査定不服審判
2021-004940
パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜
- 審判番号
- 2021-004940
- 法域
- 特許
- 審判種別
- 拒絶査定不服審判（拒絶査定不服の審決）
- 出願番号
- 特願2018-524917外部サイト（J-PlatPat）へ移動します
- 請求日
- 2021年04月16日
- 審決日
- 2022年03月15日
- 公報発行日
- 2022年08月26日
- 結論
- 原査定取消（特許/登録すべき）
- 当事者
- 【請求人】富士フイルム株式会社
- 【請求人代理人】伊東 秀明
- 【請求人代理人】三橋 史生
- 分類
- P18 .113-WYF(G03F) / P18 .121-WYF(G03F) / P18 .537-WYF(G03F)
- データ出所
- 審決公報（XML）
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特願２０１８－５２４９１７「パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年 １月 ４日国際公開、ＷＯ２０１８／００３２７１、請求項の数（３２）〕について、次のとおり審決する。
結論
結 論
原査定を取り消す。
本願の発明は、特許すべきものとする。
理由
文字
理 由
本願は、平成２９年 ４月２７日（優先権主張 平成２８年 ６月３０日）の出願であって、その請求項に係る発明は、特許請求の範囲の請求項に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当合議体が通知した拒絶理由を検討してもそれらの理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
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