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特許拒絶査定不服審判

2020-016291

マルチトーンレベルフォトマスクの製造方法及び加工材上のフォトレジストにパターンを形成する方法

審判番号
2020-016291
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2017-554247外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2020年11月26日
審決日
2022年02月14日
公報発行日
2022年08月26日
結論
請求不成立
審判長/審判官
分類
P18 .537-WZF(G03F) / P18 .113-WZF(G03F) / P18 .121-WZF(G03F)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2017-554247号「マルチトーンレベルフォトマスクの製造方法及び加工材上のフォトレジストにパターンを形成する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成28年7月14日国際公開、WO2016/112050号、平成30年3月29日国内公表、特表2018-508835号〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論
本件審判の請求は、成り立たない。

理由

理 由

本願は、平成28年1月5日の出願であって、その請求項1ないし15に係る発明は、令和2年11月26日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし15に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。

これに対して、令和3年6月3日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。

そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。

よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

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2020-016291

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