2020-009858

１　引用文献１の記載事項

原査定の拒絶の理由に引用文献１として引用され、先の出願前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物である特開２０１４－８９３０８号公報（以下、同じく「引用文献１」という。）には、以下の記載事項がある。なお、当合議体が発明の認定等に用いた箇所に下線を付した。

（１）「【特許請求の範囲】

【請求項１】

透明基材の少なくとも一方の面に、微小突起が密接して配置された微小突起構造体と、導電性金属酸化物、導電性有機高分子、導電性金属ナノ粒子及び導電性金属ナノワイヤよりなる群から選択される少なくとも一種を含有する透明導電層とをこの順で有し、

前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、

続きを表示（全30行）

ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ

なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、

前記透明導電層の膜厚を、前記微小突起間の谷底を連ねた包絡面に対して法線方向の、前記透明導電層の前記微小突起構造体側界面から前記透明導電層表面までの距離とし、

前記微小突起の頂部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ１、前記微小突起の高さの１／２における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ２、前記微小突起間の谷部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ３としたときに、

ＦＴ１＜ＦＴ２＜ＦＴ３

なる関係を満たし、

前記透明導電層表面の平均高低差ΔＤが、反射防止を図る光の波長帯域の最長波長をΛｍａｘとしたときに、

ΔＤ＜Λｍａｘ×０．２

なる関係を満たす、反射防止性透明導電フィルム。

・・・省略・・・

【請求項３】

前記透明導電層が、パターニングされてなり、透明導電層形成領域と透明導電層非形成領域を有する、請求項１又は２に記載の反射防止性透明導電フィルム。

・・・省略・・・

【請求項７】

２つの電極フィルムそれぞれの電極面を一定間隔で対向させてなるタッチパネルであって、少なくとも１つの電極フィルムが、

透明基材の少なくとも一方の面に、微小突起が密接して配置された微小突起構造体と、導電性金属酸化物、導電性有機高分子、導電性金属ナノ粒子及び導電性金属ナノワイヤよりなる群から選択される少なくとも一種を含有する透明導電層とをこの順で有し、

前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、

ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ

なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、

前記透明導電層の膜厚を、前記微小突起間の谷底を連ねた包絡面に対して法線方向の、前記透明導電層の前記微小突起構造体側界面から前記透明導電層表面までの距離とし、

前記微小突起の頂部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ１、前記微小突起の高さの１／２における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ２、前記微小突起間の谷部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ３としたときに、

ＦＴ１＜ＦＴ２＜ＦＴ３

なる関係を満たし、

前記透明導電層表面の平均高低差ΔＤが、反射防止を図る光の波長帯域の最長波長をΛｍａｘとしたときに、

ΔＤ＜Λｍａｘ×０．２

なる関係を満たす、反射防止性透明導電フィルムであるタッチパネルを、画像表示面に備えた、画像表示装置。」

（２）「【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【０００１】

本発明は、反射防止性透明導電フィルムと、これを用いたタッチパネル及び画像表示装置に関するものである。

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・・・省略・・・

【発明が解決しようとする課題】

【０００９】

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、反射防止性能を有しながら、透明導電層の密着性に優れ、且つ安定量産性に優れた透明導電フィルムと、これを用いたタッチパネル及び画像表示装置を提供することを目的とする。

・・・省略・・・

【発明の効果】

【００１５】

本発明によれば、反射防止性能を有しながら、透明導電層の密着性に優れ、且つ安定量産性に優れた透明導電フィルムと、これを用いたタッチパネル及び画像表示装置を提供することができる。」

（３）「【発明を実施するための形態】

・・・省略・・・

【００２０】

図１は、本発明に係る反射防止性透明導電フィルムの一例を模式的に示す断面図である。図１に示す反射防止性透明導電フィルム１０は、透明基材１の一方の面に、当該透明基材１側から順に、微小突起が密接して配置された微小突起構造体２と、透明導電層３とを有する。図２は、本発明に係る反射防止性透明導電フィルムの他の一例を模式的に示す断面図である。図２に示す反射防止性透明導電フィルム１０は、透明基材１の一方の表面に、微小突起が密接して配置された微小突起構造体２を有し、当該微小突起構造体２の表面上に、透明導電層３を有する。

続きを表示（全77行）

以下、本発明に係る反射防止性透明導電フィルムに含まれる透明基材、微小突起構造体、透明導電層について、順に説明する。

【００２１】

＜透明基材＞

前記透明基材としては、透明導電フィルムに用いられる公知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。前記透明基材に用いられる材料としては、例えば、透明樹脂が挙げられる。透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等を挙げることができる。

また、前記透明基材に用いられる材料としては、前記透明樹脂の他に、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等の各種透明無機材料等も挙げられる。

・・・省略・・・

【００２６】

＜微小突起構造体＞

透明基材の少なくとも一方の面に、微小突起が密接して配置された微小突起構造体を有する。

当該微小突起構造体は、図１に示したように、前記透明基材とは別の材料からなる別層として積層されていても良いし、図２に示したように、透明基材と一体となって形成されていても良い。

また、層間の密着性、塗工適性、表面平滑性等の基材表面性能を向上させる点から、透明基材の少なくとも一方の面に、１層以上の中間層を介して、微小突起構造体が積層されている積層体となっていてもよい。

また、透明基材の両面に、直接又は他の層を介して、微小突起が密接して配置された微小突起構造体を有していても良い。

【００２７】

微小突起構造体における微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、

ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ

なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有するものである。

【００２８】

前記微小突起は、隣接する突起間隔ｄ（図１参照）が、反射防止を図る波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるよう密接して配置される。本発明に係る反射防止性透明導電フィルムを、タッチパネルに配置して視認性を向上せしめることを主目的として使用する場合は、この最短波長Λｍｉｎは、個人差、視聴条件を加味した可視光領域の最短波長（通常３８０ｎｍ）に設定され、間隔ｄは、ばらつきを考慮して通常１００～３００ｎｍとされる。

またこの間隔ｄに係る隣接する微小突起は、いわゆる隣り合う微小突起であり、基材側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。本発明に係る透明導電フィルムでは、微小突起が密接して配置されることにより、微小突起間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。

【００２９】

前記微小突起は、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有することから反射防止効果を発揮する。前記微小突起構造体と、外界（通常は空気。但し、本態様においては、透明導電層。）との間の急激で不連続な屈折率変化を、連続的で漸次変化する屈折率変化に変えることが可能となるからである。光の反射は、物質界面の不連続な急激な屈折率変化によって生じる現象であるから、基材と透明導電層との界面に於ける屈折率変化を、空間的に連続的に変化する様にすることによって、該基材と透明導電層との界面に於ける光反射が減るのである。

尚、前記微小突起構造体は、通常は透明で光は透過する物となるが、不透明の物であっても、その表面反射を低下する反射防止効果は得られる。

前記微小突起構造体を構成する各微小突起は、基材に植立するように、さらに基材より先端側に向かうに従って徐々に断面積が小さくなるように（先細りとなるように）作製され、具体的な形状としては、例えば、半球、回転楕円体の半裁形状及び円錐形や四角錐形等の錐形体等が挙げられる。

【００３０】

前記微小突起は、頂部を複数有するもの（以下、「多峰性の微小突起」と称する場合がある。）であることが好ましい。前記微小突起として多峰性の微小突起を含むことにより、本発明の反射防止性透明導電フィルムは反射防止性及び密着性がより向上する。なお、多峰性の微小突起との対比により、頂部が１つのみの微小突起を「単峰性の微小突起」と称する場合がある。また多峰性の微小突起、単峰性の微小突起に係る各頂部を形成する各凸部を、適宜、「峰」と称する。

【００３１】

図３は、この頂点を複数有する多峰性の微小突起の説明に供する断面図（図３（ａ））、斜視図（図３（ｂ））、平面図（図３（ｃ））である。なおこの図３は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図３（ａ）は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。この図３（ｂ）及び（ｃ）において、ｘｙ方向は、基材１の面内方向であり、ｚ方向は微小突起の高さ方向である。反射防止性透明導電フィルム１０において、多くの微小突起５は、基材１より離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積（高さ方向に直交する面（図３においてＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積）が小さくなって、頂点が１つにより作製される。しかしながら中には、複数の微小突起が結合したかのように、先端部分に溝ｇが形成され、頂点が２つになったもの（５Ａ）、頂点が３つになったもの（５Ｂ）、さらには頂点が４つ以上のもの（図示略）が存在した。なお単峰性の微小突起５の形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性の微小突起５Ａ、５Ｂの形状は、概略、単峰性の微小突起５の頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似される。多峰性の微小突起５Ａ、５Ｂの形状は、或いは、複数の峰を含み高さ方向（図３ではＺ軸方向）を含む仮想的切断面で切断した場合の縦断面形状が、極大点を複数個含み各極大点近傍が上に凸の曲線になる代数曲線Ｚ＝ａ２Ｘ２＋ａ４Ｘ４＋・・＋ａ２ｎＸ２ｎ＋・・で近似されるような形状である。

【００３２】

各微小突起の高さに高低差の有る微小突起群は、反射防止性能が広帯域化され、白色光のような多波長の混在する光、あるいは広帯域スペクトルを持つ光に対して、全スペクトル帯域で低反射率を実現するのに有利である。これは、かかる微小突起群によって良好な反射防止性能を発現し得る波長帯域が、隣接突起間距離ｄの他に、突起高さにも依存する為である。

【００３３】

また、多峰性の微小突起が混在する場合には、単峰性の微小突起のみによる場合に比して反射防止の性能を向上することができるのは、図３に示すような多峰性の微小突起５Ａ、５Ｂ等は、隣接突起間距離が同じ場合であっても、また突起高さが同じ場合であっても、単峰性の微小突起と比べて、より光の反射率が低減するからであり、多峰性の微小突起５Ａ、５Ｂ等は、頂部より下（中腹及び麓）の形状が同じ単峰性の微小突起よりも、頂部近傍における有効屈折率の高さ方向の変化率が小さくなる為である。

【００３４】

また、多峰性の微小突起が混在する場合には、単峰性の微小突起のみによる場合に比して、頂部より下（中腹及び麓）の形状が同じ単峰性の微小突起よりも、頂部近傍における表面積が大きくなるため、密着性が向上する。

【００３５】

なお多峰性の微小突起は、反射防止性及び密着性を向上する効果を発揮する点からは、表面に存在する全微小突起中における多峰性の微小突起の個数の比率は１０％以上であることが好ましい。特に多峰性の微小突起による反射防止性及び密着性を向上する効果を十分に奏する為には、該多峰性の微小突起の個数の比率は３０％以上、好ましくは５０％以上とすることが好ましい。

【００３６】

前記微小突起群において、高さＨが同じ微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、前記反射防止効果を得るためには、例えば特開昭５０－７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報、特許第４２７０８０６号公報等に開示のように、隣接突起間隔ｄは、突起配列の周期ｐ（ｄ＝ｐ）となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλｍａｘ、最短波長をλｍｉｎとした場合に、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘである為、ｐ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、ｐ≦λｍｉｎとなる。

【００３７】

なお波長λｍａｘ、λｍｉｎは、観察条件、光の強度（輝度）、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λｍａｘ＝７８０ｎｍ及びλｍｉｎ＝３８０ｎｍとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄ≦３００ｎｍであり、より好ましい条件は、ｄ≦２００ｎｍとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、隣接突起間隔ｄの下限値は、通常、ｄ≧５０ｎｍ、好ましくは、ｄ≧１００ｎｍとされる。これに対して突起の高さＨ（図１参照）は、十分な反射防止効果を発現させる観点より、Ｈ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。また、突起の高さＨは、反射防止効果の点から、通常、３５０ｎｍ以下とされる。

【００３８】

一方、上記多峰性の微小突起が混在する場合のように、前記微小突起構造体の微小突起が不規則に配置されている場合には、隣接突起間隔ｄはばらつきを有することになる。そこでこのような場合、間隔ｄは以下のように算定される。

【００３９】

（１）先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope:AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。

【００４０】

（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と称する。）を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。

【００４１】

（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図４は、ドロネー図（白色の線分により表される図である）を原画像と重ね合わせた図である。

【００４２】

（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と言う）の度数分布を求める。図５は、図４のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお、図３に示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。

【００４３】

具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微小突起（多峰性の微小突起）に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない微小突起（単峰性の微小突起）の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５～２０個程度の互いに隣接する単峰性の微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図５の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図５は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。

【００４４】

（５）このようにして求めた隣接突起間隔ｄの度数分布から平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図５の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間隔ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとなる。

【００４５】

なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図６は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図５の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図６に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性の微小突起の場合は、頂部を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂部の中から高さの最も高い頂部を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。

【００４６】

突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σ、突起の高さの平均値ＨＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが必要である。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとなる。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘである為、ｄｍａｘ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎである為、ｄｍａｘ≦λｍｉｎとなる。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、ＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。また、ＨＡＶＧは、反射防止効果の点から、好ましくは３５０ｎｍ以下とされる。突起高さの分布は、通常、５０～３５０ｎｍである。

【００４７】 上述した図４～図６に係る測定結果は、図３に示すような頂点を複数有する、多峰性の微小突起の実施形態における測定結果であり、図５に示す度数分布においては、隣接突起間隔ｄ（横軸の値）について、２０ｎｍ及び４０ｎｍの短距離の極大値と１２０ｎｍ及び１６４ｎｍの長距離の極大値との２種類の極大値が存在する。これらの極大値のうちの長距離の極大値は、微小突起本体（頂部よりも下の中腹から麓にかけての部分）の配列に対応し、一方、短距離の極大値は頂部近傍に存在する複数の頂点（峰）に対応する。これにより極大点間距離の度数分布によっても、多峰性の微小突起の存在を見て取ることができる。

・・・省略・・・

【００５６】

＜透明導電層＞

本発明の反射防止性透明導電フィルムにおいては、前記微小突起構造体上に、導電性金属酸化物、導電性有機高分子、導電性金属ナノ粒子及び導電性金属ナノワイヤよりなる群から選択される少なくとも一種を含有する透明導電層を有する。

そして、図８に、本発明の透明導電層の膜厚を説明する図を示す。本発明における透明導電層３は、前記透明導電層の膜厚を、前記微小突起間の谷底を連ねた包絡面６に対して法線方向７の、前記透明導電層の前記微小突起構造体側界面８から前記透明導電層表面９までの距離とし、

前記微小突起の頂部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ１、前記微小突起の高さ（Ｈ）の１／２（Ｈ／２）における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ２、前記微小突起間の谷部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ３としたときに、

ＦＴ１＜ＦＴ２＜ＦＴ３

なる関係を満たす。

更に、本発明における透明導電層３は、図２に示すように、前記透明導電層表面の平均高低差ΔＤが、反射防止を図る光の波長帯域の最長波長をΛｍａｘとしたときに、

ΔＤ＜Λｍａｘ×０．２

なる関係を満たすことを特徴とする。

・・・省略・・・

【００７３】

本発明に係る反射防止性透明導電フィルムにおいては、前記透明導電層が、パターニングされてなり、透明導電層形成領域と透明導電層非形成領域を有する態様が、透明導電層が例えば座標認識用の配線として機能する点から好適に用いられる。

透明導電層をパターニングする方法は、特に限定されず、例えば、フォトレジストを用いてドライエッチングを行う方法等が挙げられる。」

（４）図１

（５）図２

（６）図３

（７）図４

（８）図５

（９）図６

（１０）図８

２　引用発明

引用文献１の上記１の記載に基づけば、引用文献１には、請求項１に記載の反射防止性透明導電フィルムを引用する請求項３に記載の反射防止性透明導電フィルムとして、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。

「　透明基材の少なくとも一方の面に、微小突起が密接して配置された微小突起構造体と、導電性金属酸化物、導電性有機高分子、導電性金属ナノ粒子及び導電性金属ナノワイヤよりなる群から選択される少なくとも一種を含有する透明導電層とをこの順で有し、

前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、

ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ

なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、

続きを表示（全12行）

前記透明導電層の膜厚を、前記微小突起間の谷底を連ねた包絡面に対して法線方向の、前記透明導電層の前記微小突起構造体側界面から前記透明導電層表面までの距離とし、

前記微小突起の頂部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ１、前記微小突起の高さの１／２における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ２、前記微小突起間の谷部における前記透明導電層の平均膜厚をＦＴ３としたときに、

ＦＴ１＜ＦＴ２＜ＦＴ３

なる関係を満たし、

前記透明導電層表面の平均高低差ΔＤが、反射防止を図る光の波長帯域の最長波長をΛｍａｘとしたときに、

ΔＤ＜Λｍａｘ×０．２

なる関係を満たす、反射防止性透明導電フィルムであって、

前記透明導電層が、パターニングされてなり、透明導電層形成領域と透明導電層非形成領域を有する、反射防止性透明導電フィルム。」

３　引用文献４の記載事項

原査定の拒絶の理由に引用文献４として引用され、先の出願前に日本国内又は外国において、電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明が記載されている国際公開第２００９／１１０１３９号（以下、同じく「引用文献４」という。）には、以下の記載事項がある。なお、当合議体が発明の認定等に用いた箇所に下線を付した。

（１）「技術分野

[0001]本発明は、光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法に関する。より詳しくは、低反射率が得られる表面処理がなされたロール状光学素子に好適な光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法に関するものである。

・・・省略・・・

[0010]本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、ラミネーションフイルムとの密着性に優れた光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法を提供することを目的とするものである。」

（２）「課題を解決するための手段

[0011]本発明者らは、ラミネーションフイルムとの密着性に優れた光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法について種々検討したところ、ナノ構造を形成する領域に着目した。そして、従来のロール・ツー・ロール処理によりナノ構造（ナノメートルサイズの凹凸）が表面に連続的に形成されたナノ構造フイルムを作製する技術では、ナノ構造フイルム表面の全面にナノ構造（ナノメートルサイズの凹凸）が形成されるために、ラミネーションフイルムとの密着性が弱くなってしまうことを見いだすとともに、ナノ構造フイルムの長尺方向に沿う両端部に、ナノメートルサイズの凹凸が形成されていないナノ構造非形成領域を設けることにより、このナノ構造非形成領域にラミネーションフイルムを充分に密着させることができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

[0012]すなわち、本発明は、ナノメートルサイズの凹凸が表面に連続的に形成されたナノ構造フイルムを有する光学素子であって、上記ナノ構造フイルムは、ナノ構造フイルムの長尺方向に沿う両端部に、上記ナノメートルサイズの凹凸が形成されていないナノ構造非形成領域を有する光学素子である。

[0013]これにより、ナノ構造非形成領域にラミネーションフイルムを充分に密着させることができる。また、ナノ構造非形成領域は、ナノ構造フイルムの長尺方向に沿う両端部に設けられることから、例え、ナノ構造フイルムをウエット工程に曝したとしても、ナノメートルサイズの凹凸が形成された領域（以下、「ナノ構造形成領域」ともいう。）に溶剤が侵入するのを効果的に抑制することができる。

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[0014]このように、本発明は、ナノ構造フイルムと、それを保護するラミネーションフイルムとの密着性を改善し（好適には、ロール状態で改善し）、工程での汚れや傷からナノ構造フイルムを守ることを特徴としている。

[0015]なお、本明細書において、ナノメートルサイズの凹凸は、より具体的には、高さ及び／又は幅（より好適には高さ及び幅）が１ｎｍ以上、１μｍ（＝１０００ｎｍ）未満の凹凸であることが好ましい。

[0016]また、本明細書においては、ナノメートルサイズの凹凸をナノ構造又はナノ構造体ともいう。更に、ナノ構造フイルムの厚みは特に限定されず、シートと呼ばれるものであってもよい。

[0017]本発明の光学素子の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではないが、上述のように、本発明の光学素子は、ラミネーションフイルムとの密着性に優れることから、ラミネーションフイルムを更に有することが好ましい。すなわち、本発明の光学素子は、上記ナノ構造フイルムに積層されたラミネーションフイルムを更に有することが好ましく、上記ナノ構造フイルムとラミネーションフイルムとの積層体がロール状に巻き込まれた（巻かれた）ロール状光学素子であることがより好ましい。

[0018]上記ナノメートルサイズの凹凸のパターンとしては特に限定されず、モスアイ構造、ワイヤーグリッド構造等が挙げられるが、なかでも、モスアイ構造が好適である。すなわち、上記ナノ構造フイルムは、可視光の波長よりも小さな複数の円錐状（コーン状）の突起が形成されたモスアイ構造を有することが好ましい。これにより、本発明の光学素子（ロール状光学素子）を液晶表示装置等の偏光板に使用し、例え、ナノ構造フイルムを接着性付与工程や洗浄工程等のウエット工程に曝したとしても、モスアイ構造が形成された領域に溶剤が侵入し、モスアイ構造が溶剤に侵されるのを抑制することができる。その結果、液晶表示装置に表示ムラが発生するのを効果的に抑制しつつ、反射光を激減させることができる。

[0019]本発明はまた、本発明の光学素子を作製するためのローラー型ナノインプリント装置であって、上記ローラー型ナノインプリント装置は、上記ナノメートルサイズの凹凸を形成するための凹凸パターンを外周面に有する金型ロール（ローラー）を備え、上記金型ロールは、金型ロールの軸方向の長さＡと、上記ナノ構造フイルムの幅Ｂと、上記凹凸パターンが形成された領域の幅ＣとがＡ＞Ｂ＞Ｃの関係を満たすローラー型ナノインプリント装置（以下、「本発明の第一のローラー型ナノインプリント装置」ともいう。）でもある。

[0020]これにより、ナノ構造フイルムの長尺方向に沿う両端部のナノ構造非形成領域と、ナノ構造形成領域とを同時に形成することができる。すなわち、本発明の光学素子を効率的に作製することができる。また、金型ロールの軸方向（より詳細には、回転軸方向）の長さがナノ構造フイルムの幅よりも大きいことから、ナノ構造フイルムの平坦性を損なうことなく、ナノ構造非形成領域及びナノ構造形成領域を形成することができる。なお、本明細書において、凹凸パターンが形成された領域の幅とは、金型ロールの軸方向（より詳細には、回転軸方向）における凹凸パターンが形成された領域の長さを意味する。

・・・省略・・・

[0025]本発明はそして、本発明の光学素子、なかでも好適には可視光の波長よりも小さな複数の円錐状（コーン状）の突起が形成されたモスアイ構造を有するナノ構造フイルムを備える光学素子を作製するためのローラー型ナノインプリント装置に用いられる金型ロールの製造方法であって、上記製造方法は、上記複数の円錐状の突起を形成するための窪みパターンとなる領域外のアルミニウム管をマスキング材料によりマスクした状態で、上記アルミニウム管を陽極酸化する工程と、上記アルミニウム管をエッチングする工程とを繰り返し行う金型ロールの製造方法である。

[0026]これにより、複数の円錐状の突起を形成するための窪みパターンがアルミニウム管の両端部に設けられない金型ロール、すなわち本発明の光学素子の作製に好適な金型ロールを容易に製造することができる。

[0027]本発明の金型ロールの製造方法は、上記工程を有するものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。

発明の効果

[0028]本発明の光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法によれば、ラミネーションフイルムとの密着性に優れたロール状光学素子を実現することができる。したがって、ナノ構造フイルムをラミネーションフイルムによりマスキングすることが可能となり、工程上の汚染や傷つき、薬液等からナノ構造フイルムを守ることができる。そのため、次工程、例えば、糊のコーティング工程や偏光板の貼り付け工程、裁断工程等における、ナノ構造を表面に有する光学素子を利用した加工品の歩留まりを著しく向上することができる。

」

（３）「発明を実施するための最良の形態

[0029]以下に実施形態及び実施例を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態及び実施例のみに限定されるものではない。

[0030]（実施形態１）

＜基本構造＞

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図１は、モスアイ構造を説明する図（屈折率が表面から連続的になり、界面で反射が極端に減少する原理を説明する図）であり、（ａ）は、モスアイ構造の断面の模式図を示し、（ｂ）は、モスアイ構造における屈折率の変化を示す。

モスアイ構造や、ワイヤーグリッド構造等のナノ構造を製造する場合、構造用の金型を製作し、この金型で、基板フイルム（基材フイルム）上に塗布した紫外線硬化樹脂等の電離放射線硬化型樹脂に加圧及び密着させ、金型及び電離放射線硬化型樹脂を密着した状態で、紫外線等のエネルギー線を照射し、電離放射線硬化型樹脂を硬化するナノインプリント方式が一般的に用いられる。この場合、できあがったナノ構造は、基板フイルムの表面にナノサイズの凹凸構造を有し、特に、モスアイ構造においては、図１（ａ）に示すように、電離放射線硬化型樹脂（樹脂膜３１）の表面に円錐状のナノサイズの突起物３２が無数に形成される。また、図１（ｂ）に示すように、空気層から樹脂膜内部にかけて屈折率が連続的に変化する構造が採用されている。このため、従来のモスアイ構造を有するナノ構造フイルムとラミネーションフイルムとの密着力は弱く、モスアイ構造が形成された面を保護することが困難であった。それに対して、ラミネーションフイルムの密着力を増加させた場合には、密着力は高くなるが、モスアイ構造（ナノサイズの凹凸構造）の間に、溶剤や低分子量のオリゴマー、可塑剤等が入り込み、結果的にナノ構造フイルムの反射率を上昇させてしまい、このようにナノ構造フイルムを表示装置に配置した場合には表示ムラの原因となってしまう。

[0031]そこで、本発明者は、これらのナノ構造を基材フイルム上で、連続的に生産する場合（ロールで成型する場合）に、ラミネーションフイルムと基材フイルムとの密着性をキープしながら、基材フイルムへの溶剤や低分子量のオリゴマー、可塑剤等の物質の移動を効果的に抑制できる構造を考案した。

[0032]図２は、実施形態１のロール状光学素子を示す模式図であり、（ａ）は、全体を示し、（ｂ）は、（ａ）中のＸ－Ｙ線における断面の拡大図である。

本実施形態のロール状光学素子２１は、帯状のナノ構造フイルム２０と、ナノ構造フイルム２０と同様の帯状のラミネーションフイルム（図示せず、マスキングフイルムとも呼ばれる）とを備え、ナノ構造フイルム２０及びラミネーションフイルムの積層体がロール状に巻き込まれている。

[0033]ナノ構造フイルム２０のラミネーションフイルム側の表面にはナノ構造として、図１で説明したものと同様のモスアイ構造が連続的に帯状に形成されている。このように、ナノ構造フイルム２０は、ナノ構造を有する光学シートである。

[0034]ラミネーションフイルムは、ナノ構造フイルム２０と略同一の幅を有する保護フイルムであり、ナノ構造フイルム２０側の表面には糊等の粘着材料からなる粘着層が設けられており、ナノ構造フイルム２０のモスアイ構造が形成された側の面に剥離自在に貼り合わされている。

[0035]そして、本実施形態のナノ構造フイルム２０は、長尺方向に沿う両端部に、モスアイ構造が形成されていないナノ構造非形成領域２３を有する。すなわち、ナノ構造フイルム２０は、モスアイ構造が帯状に連続的に形成されたナノ構造形成領域２２と、モスアイ構造が形成されていない帯状のナノ構造非形成領域２３とを有する。

[0036]このように、モスアイ構造をナノ構造フイルム２０に形成するときに、ナノ構造フイルム２０の両端部に、凹凸がなく平坦なナノ構造非形成領域２３を形成することによって、このナノ構造フイルム２０の両端部とラミネーションフイルムとで充分に密着力を確保することができる。したがって、ロール状光学素子２１の形成工程以降のナノ構造フイルム加工工程で、ナノ構造フイルム２０にラミネーションフイルムを掛けおく（貼り付けておく）ことができるので、汚れや傷、工程での薬液等からモスアイ構造を保護することができる。また、従来のように、粘着力の強い粘着材料をラミネーションフイルムに用いる必要もなくなるので、ナノ構造フイルム２０がラミネーションフイルムの粘着材料によって汚染されるのを効果的に抑制することができる。更に、ナノ構造非形成領域２３はナノ構造フイルム２０の両端部に設けられることから、ナノ構造フイルム２０をウエット工程に曝したとしても、ナノ構造形成領域２２に溶剤が侵入するのを効果的に抑制することができる。

・・・省略・・・

[0053]＜金型ロールの製造方法＞

金型ロールの製造方法について、ナノ構造として代表的なモスアイ構造を作製する場合について説明する。図４は、実施形態１の金型ロールの作製方法を説明する模式図であり、（ａ）～（ｄ）は、両端部にナノ構造を作製するための凹凸パターンがない金型ロールの作製方法を示す。

モスアイ構造を作製するための金型は、一般的に、アルミ層を陽極酸化する工程と、エッチングする工程とを繰り返すことにより、アルミ層の表面にナノオーダーの円錐状の穴を開けることによって作製する。本実施形態のように、ナノ構造フイルム２０の両端部にモスアイ構造が形成されない領域を設けるとともに、ナノ構造フイルム２０の中央部分をモスアイ構造が連続的に形成された領域を設けるためには、図３に示す金型ロール１５のように、金型ロール１５自身の両端部に円錐状の窪み（穴）を開けない領域を形成することが好ましい。

[0054]このような金型ロール１５を作製するためには、陽極酸化及びエッチングを行う際に、まず、図４（ａ）及び（ｂ）に示すように、切削研磨等により外周面が研磨されたアルミニウム管３３の両端部を使用薬液に侵されることのないマスキング材料３４によりマスキングし、次に、図４（ｃ）に示すように、アルミニウム管３３の両端部をマスキング材料３４でマスクした状態で、反応容器３５中にて、アルミニウム管を陽極酸化する工程と、アルミニウム管をエッチングする工程とを繰り返し、例えば３回行い、最後に、図４（ｄ）に示すように、マスキング材料３４を除去すればよい。これにより、アルミニウム管３３の両端部にナノ構造（モスアイ構造）を作製するための凹凸パターン（窪みパターン）がない金型ロール１５を作製することができる。また、シームレスな（継ぎ目のない）モスアイ構造をナノ構造フイルム２０に形成することができる。マスキング材料３４としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等に粘着材料をコーティングした粘着フィルムを用いることができる。

[0055]このようにして作製された金型ロールにより形成されたナノ構造フイルム２０は、図１（ａ）に示すように、好適には高さ１５０～４００ｎｍ（例えば、３００ｎｍ）の略円錐状（コーン状）の突起３２が、頂点間の距離８０～３００ｎｍ（例えば、２００ｎｍ）で多数形成された表面構造を有している。このような表面構造は、一般に「モスアイ（蛾の目）構造」と呼ばれ、モスアイ構造を有するナノ構造フイルム２０は、例えば可視光の反射率を０．１５％程度にすることができる超低反射フイルムとして知られている。モスアイ構造を有するナノ構造フイルム２０においては、可視光の波長の長さ（３８０～７８０ｎｍ）よりも小さな大きさの突起が存在することにより、図１（ｂ）に示すように、界面の屈折率が、ナノ構造フイルム２０の表面上の空気の屈折率である１．０から、ナノ構造フイルム２０の構成材料の屈折率（樹脂膜３１の場合、１．５）と同等になるまで連続的に徐々に大きくなっているとみなすことができる。その結果、実質的には屈折率界面が存在せず、ナノ構造フイルム２０の界面での反射率が極端に減少する。

[0056]なお、金型ロール１５としては、金型ロール１５に直接凹凸パターンが形成されたものではなく、例えば、凹凸パターンが形成されたシート（薄膜）が円筒又は円柱の円筒面又は円柱面表面に貼り付けられたものであってもよいが、シームレスな（継ぎ目のない）ナノ構造を形成する観点からは、上述のように、金型ロール１５には直接凹凸パターンが形成されることが好ましい。

[0057]また、アルミニウム管３３の両端部以外にマスキング材料３４によりマスキングして金型ロール１５を作製することによって、金型ロール１５の両端部に加えて、金型ロール１５の両端部以外にも、例えば、図６に示すように、金型ロール１５の中央部にもナノ構造を作製するための凹凸パターンがない領域を形成してもよい。これにより、両端部に加えて、両端部以外にナノ構造非形成領域２３が形成されたナノ構造フイルムを作製することができる。このように、ナノ構造フイルム２０は、例えば、図６に示すように、長尺方向に沿う両端部と幅方向における中央部とにナノ構造非形成領域２３が形成されていてもよい。これにより、ナノ構造フイルム２０とラミネーションフイルム１９との密着性を更に改善することができる。また、取れ効率を落とさず小さな面積の光学素子を効率的に複数作製することができる。すなわち、比較的小型の光学素子を、取れ効率を落とすことなく効率よく生産することができる。なお、ナノ構造フイルム２０の中央部に設けられるナノ構造非形成領域２３の数は特に限定されず、ナノ構造フイルム２０や金型ロール１５、必要とされる光学素子のサイズに応じて適宜設定すればよい。」

（４）図１

（５）図２

（６）図４

（７）図６