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特許拒絶査定不服審判

2020-008579

化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法及び精製方法

審判番号
2020-008579
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2016-566122外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2020年06月22日
審決日
2022年01月24日
公報発行日
2022年08月26日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
審判長/審判官
分類
P18 .537-WYF(C07D) / P18 .55 -WYF(C07D)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2016-566122「化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法及び精製方法」拒絶査定不服審判事件〔平成28年6月30日国際公開、WO2016/104214、請求項の数(17)〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論
原査定を取り消す。
本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

理 由

本願は、2015年12月14日(優先権主張 2014年12月25日 日本(JP))を国際出願日とする特許出願であって、その請求項1~17に係る発明は、令和3年12月20日提出の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1~17に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。

そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審からの拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。

また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。

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2020-008579

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