2020-005507

理　由

第２　原査定の概要

原査定（令和元年１２月１２日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。

本願請求項１－１３，１５－２９に係る発明は、以下の引用文献Ａ－Ｇに基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。

引用文献等一覧

Ａ.特開平０１－０６４６３７号公報

Ｂ.特表２００１－５１１５９７号公報（周知技術を示す文献）

Ｃ.特開２０００－１５７５１０号公報

Ｄ.特開平１０－１２７６０４号公報

Ｅ.特開２００１－１３７２１２号公報（周知技術を示す文献）

Ｆ.特開平０８－０３１６３５号公報

Ｇ.特開昭６３－０６５８４８号公報

第３　当審拒絶理由の概要

当審拒絶理由の概要は次のとおりである。

理由２:（進歩性）本件出願の請求項１－９，１１，１２，１５－２９に係る発明は、以下の引用文献１－３に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。

引　用　例　等　文　献　一　覧

１．特開２００５－１１８０９８号公報（当審において新たに引用した文献）

２．特開平５－１８２８２１号公報（当審において新たに引用した文献）

３．特開平１０－１２７６０４号公報（拒絶査定時の引用文献Ｄ）

第４　本願発明

本願請求項１－２３に係る発明（以下それぞれ「本願発明１」－「本願発明２３」という。）は、令和２年１１月２４日提出の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１－２３に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１－２３は以下のとおりの発明である。（下線は、請求人が付与したものであり、補正箇所を表している。）

「　【請求項１】

磁気共鳴映像法システムにおける使用のための磁気システムであって、

第１のＢ０磁石と、第２のＢ０磁石とを含み、前記磁気共鳴映像法システムのためのＢ０磁場に寄与する磁場を生成するように構成される、２平面Ｂ０磁石と、

前記磁気共鳴映像法システムの撮像領域内の磁束密度を増大させるために、前記２平面Ｂ０磁石によって生成される前記磁場の少なくとも一部を取り込んで方向付けるように構成される、少なくとも１つの強磁性コンポーネントと、

続きを表示（全52行）

前記磁気共鳴映像法システムが異なる場所に輸送されることを可能にする少なくとも１つの機構とを含み、

該少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、Ｃ形状の強磁性構造を含み、該Ｃ形状の強磁性構造は、該強磁性構造の１つの側のみに沿って磁束のための戻り経路を提供し、

前記２平面Ｂ０磁石及び前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、０．１Ｔ以下の強度の前記Ｂ０磁場を生成するように構成される、

磁気システム。

【請求項２】

Ｂ０磁石は、作動させられるときに、前記磁気共鳴映像法システムのために前記Ｂ０磁場に寄与する磁場を生成するように構成される、少なくとも１つの電磁石を含む、請求項１に記載の磁気システム。

【請求項３】

当該磁気システムは、０．１Ｔ以下であり且つ２０ｍＴ以上である強度にある前記Ｂ０磁場を生成するように構成される、請求項１に記載の磁気システム。

【請求項４】

当該磁気システムは、２０ｍＴ以下であり且つ１０ｍＴ以上である強度にある前記Ｂ０磁場を生成するように構成される、請求項１に記載の磁気システム。

【請求項５】

前記少なくとも１つの電磁石は、前記磁場を生成するよう、銅又はアルミニウム導体を使用して巻回される少なくとも１つの電磁石コイルを含み、当該磁気システムは、０．１Ｔ以下であり且つ２０ｍＴ以上である強度にある前記Ｂ０磁場を生成するように構成される、請求項１に記載の磁気システム。

【請求項６】

前記少なくとも１つの電磁石は、２平面構成において配置される第１のＢ０コイルと第２のＢ０コイルとを含む一対のＢ０コイルを含み、前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記第１のＢ０コイルと前記第２のＢ０コイルとの間の前記撮像領域において前記Ｂ０磁場の磁場強度を増大させ且つ／或いは前記Ｂ０磁場の同質性を変更するように構成される、請求項２に記載の磁気システム。

【請求項７】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、強磁性構造を含み、該強磁性構造は、該強磁性構造を通じて前記第１のＢ０コイル及び前記第２のＢ０コイルによって生成される磁束のための少なくとも１つの戻り経路を提供する磁性回路を形成するよう前記第１のＢ０コイル及び前記第２のＢ０コイルに接続される、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項８】

前記強磁性構造は、少なくとも１つの面取りされた隅部を含み、該少なくとも１つの面取りされた隅部は、該少なくとも１つの面取りされた隅部の回りの磁気抵抗を減少させる、請求項７に記載の磁気システム。

【請求項９】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記磁束が前記強磁性構造から出る場所を変更するよう、前記第１のＢ０コイル及び／又は前記第２のＢ０コイルに隣接して配置される少なくとも１つの強磁性コンポーネントを更に含む、請求項７に記載の磁気システム。

【請求項１０】

前記強磁性構造は、第１の強磁性材料を含み、前記第１のＢ０コイル及び／又は前記第２のＢ０コイルに隣接して配置される前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記第１の強磁性材料とは異なる第２の強磁性材料を含む、請求項９に記載の磁気システム。

【請求項１１】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、１つ又はそれよりも多くの中実な強磁性コンポーネントを含む、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項１２】

前記磁気システムは、少なくとも１つのラミネートパネルを含み、該少なくとも１つのラミネートパネルは、その上に加工される少なくとも１つの電磁石コンポーネントを有する、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項１３】

前記少なくとも１つのラミネートパネルは、その上に形成される少なくとも１つのＢ０コイル、少なくとも１つのシムコイル、及び／又は少なくとも１つの勾配コイルを含む、請求項１２に記載の磁気システム。

【請求項１４】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記第１のＢ０コイル及び／又は前記第２のＢ０コイルに隣接して配置される少なくとも１つのシムリングを含む、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項１５】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記第１のＢ０コイル及び／又は前記第２のＢ０コイルに隣接して配置される複数の強磁性シム部品を含む、請求項７に記載の磁気システム。

【請求項１６】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記第１のＢ０コイル及び／又は前記第２のＢ０コイルに隣接して配置される少なくとも１つの強磁性極部品を含む、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項１７】

前記少なくとも１つの強磁性極部品は、非長方形の形状を有する極部品を含む、請求項１６に記載の磁気システム。

【請求項１８】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記第１のＢ０コイル及び／又は前記第２のＢ０コイルのための支持をもたらす支持構造を提供するように構成される、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項１９】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記少なくとも１つの強磁性コンポーネント内に生成される渦電流を減少させるよう複数の電気的に絶縁されたセグメントを含む、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項２０】

前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、前記少なくとも１つの強磁性コンポーネントの重量を減少させるよう、不均一な厚さを有する、請求項６に記載の磁気システム。

【請求項２１】

前記Ｂ０磁石は、前記磁気共鳴映像法システムのための前記Ｂ０磁場に寄与する磁場を生成する少なくとも１つの永久磁石を含む、請求項１に記載の磁気システム。

【請求項２２】

前記少なくとも１つのラミネートパネルは、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向においてそれぞれ空間符号化をもたらすよう、少なくとも１つのｘ勾配コイルと、少なくとも１つのｙ勾配コイルと、少なくとも１つのｚ勾配コイルとを含む、請求項１３に記載の磁気システム。

【請求項２３】

前記少なくとも１つのラミネートパネルは、前記Ｂ０磁場に寄与するように構成される少なくとも１つのＢ０コイルを含み、前記少なくとも１つのラミネートパネルは、２平面構成において配置される第１のラミネートパネル及び第２のラミネートパネルを含む、請求項２２に記載の磁気システム。」

第５　当審拒絶理由通知における理由３及び理由４について

令和２年８月２４日付け当審拒絶理由通知で通知した理由３及び理由４において、補正前の請求項１０，１３，１４は、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていない旨通知したが、これらの請求項は、前記令和２年１１月２４日提出の手続補正書により削除されたから、令和２年８月２４日付け拒絶理由通知の理由３及び理由４は解消した。

第６　引用文献、引用発明等

１．引用文献１について

令和２年８月２４日付けの拒絶の理由に引用された引用文献１には、図面とともに次の技術事項が記載されている。（下線は当審が付与した。以下同じ。）

（１）「【０００１】

本発明は、磁気共鳴イメージング装置（以下、ＭＲＩ装置という）に関し、特に、傾斜磁場を印加した場合に静磁場発生装置の磁気特性の対称性に優れたＭＲ装置に関する。」

（２）「【００２０】

本発明の第１の実施の形態の静磁場発生装置を備えたＭＲＩ装置について、図面を用いて説明する。

【００２１】

本実施の形態のＭＲＩ装置は、図１に示したように、被検体４０１を配置する撮像領域に均一な静磁場空間を発生させる静磁場発生装置４０２を有している。静磁場発生装置４０２は、図２に斜視図を、図３に断面図を示したように、球状の撮像領域３０にｚ方向の静磁場を発生させるため、撮像領域３０を挟んで上下に配置された一対の静磁場発生コイル３２と、静磁場を均一にするために静磁場発生コイル３０の内側にそれぞれ配置された磁極板３１と、磁極板３１を連結して磁気回路を構成する継鉄３５ならびに鉄柱３３とを含む。磁極板３１は、強磁性体である鉄製であり、本実施の形態では磁極板３１と継鉄３５と鉄柱３３が一体に構成されている。磁極板３１の表面には、静磁場の均一度を高めるために溝２３７が形成されている。

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【００２２】

鉄柱３３は、撮像領域３０の周囲を広く開放された空間とするために、磁極板３１の片側に配置されている。これにより、磁極板３１、継鉄３５ならびに鉄柱３３で構成される磁気回路は、左右非対称なＣ字型となっている。【００２３】

なお、撮像領域３０の大きさは、一例としては３０ｃｍ程度であり、静磁場の強度は、例えば０．２Ｔから１．５Ｔ程度、その均一度は、例えば０．５～３０ｐｐｍとなるように設計することができる。

【００２４】

静磁場発生コイル３２は、通常のコイルまたは、クライオスタット内に収容した超電導コイルを用いることができる。静磁場発生コイル３２の内周側には磁極板３１を取り囲むように、継鉄３５と連結した磁極突起部３６が備えられている。磁極突起部３６の内側には、傾斜磁場発生コイル３４が配置される。傾斜磁場発生コイル３４は、被検体からのＮＭＲ信号に対して位置情報を付加するための傾斜磁場を撮影領域３０に印加する。傾斜磁場の大きさは、例えば１０ｍＴ／ｍ～５０ｍＴ／ｍ、スリューレート５０～３００Ｔ／ｍ／ｓ程度にすることができる。

【００２５】

本実施の形態ではさらに、磁極板３１と傾斜磁場発生コイル３２との間の空間に、高透磁率部材３７と永久磁石３８とを配置する。高透磁率部材３７は、傾斜磁場発生コイル３４側に配置され磁極板３１を構成する強磁性体よりも透磁率が高い部材である。傾斜磁場コイル３２の発生する傾斜磁場の磁束は、磁極板３１よりも透磁率が高い高透磁率部材３７を通過するため、傾斜磁場が磁極板３１に到達するのを防ぐ作用をする。なお、高透磁率部材３７は、渦電流が生じるのを防ぐため電気抵抗値が高いものであることが望ましい。例えば、高透磁率部材３７として、積層珪素鋼鈑や、絶縁鉄粉を樹脂で固め板状にしたものを好適に用いることができる。高透磁率部材３７が厚すぎると、磁極板３１の溝２３７による場均一度の調整が困難になるので、５０mm程度以下にすることが望ましいが、逆に薄すぎると傾斜磁場の磁束が高透磁率部材３７を通り抜けて磁極板３１に到達してしまうので、約5mmから５０mmの間の厚さにすることが望ましい。

【００２６】

永久磁石３８は、厚さ方向（ｚ方向）に着磁された板状の磁石であり、高透磁率部材３７の磁極板３１側の面に貼り付けられている。永久磁石３８は、通常に製造されたものであればよいが、なるべく薄く、軽いものが望ましいので、最大エネルギー積が大きいNb-Fe-B系等の希土類系の永久磁石を用いることが望ましい。」

（３）「【図２】

」

（４）「【図３】

」

（５）【図２】及び【図３】から、上下に配置された一対の静磁場発生コイル３２は、各平面上で円形であること、継鉄３５の角部が面取りされて丸い形状になっていること、及び継鉄３５と鉄柱３３がＣ形状をなすことが見てとれる。

（６）前記引用文献１の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。

「静磁場発生装置を備えたＭＲＩ装置において、

ＭＲＩ装置は、被検体４０１を配置する撮像領域に均一な静磁場空間を発生させる静磁場発生装置４０２を有しており、

静磁場発生装置４０２は、球状の撮像領域３０にｚ方向の静磁場を発生させるため、撮像領域３０を挟んで上下に配置された一対の静磁場発生コイル３２と、静磁場を均一にするために静磁場発生コイル３２の内側にそれぞれ配置された磁極板３１と、磁極板３１を連結して磁気回路を構成する継鉄３５ならびに鉄柱３３とを含み、

上下に配置された一対の静磁場発生コイル３２は、各平面上で円形であり、　継鉄３５の角部が面取りされて丸い形状になっており、継鉄３５と鉄柱３３がＣ形状をなし、

磁極板３１は、強磁性体である鉄製であり、磁極板３１と継鉄３５と鉄柱３３が一体に構成されており、磁極板３１の表面には、静磁場の均一度を高めるために溝２３７が形成されており、

静磁場の強度は、例えば０．２Ｔから１．５Ｔ程度であり、

静磁場発生コイル３２は、通常のコイルまたは、クライオスタット内に収容した超電導コイルを用いることができ、静磁場発生コイル３２の内周側には磁極板３１を取り囲むように、継鉄３５と連結した磁極突起部３６が備えられており、磁極突起部３６の内側には、傾斜磁場発生コイル３４が配置され、磁極板３１と傾斜磁場発生コイル３２との間の空間に、積層珪素鋼鈑からなる高透磁率部材３７と永久磁石３８とを配置する、

ＭＲＩ装置。」

２．引用文献２について

令和２年８月２４日付けの拒絶の理由に引用された引用文献２には、図面とともに次の技術事項が記載されている。

（１）「【０００２】

【従来の技術】ＭＲＩは、強力な磁界を形成する磁界発生装置の空隙内に、被検者の一部または全部を挿入して、対象物の断層イメージを得てその組織の性質まで描き出すことができる装置である。

【０００３】上記ＭＲＩ用の磁界発生装置において、空隙は被検者の一部または全部が挿入できるだけの広さが必要であり、かつ鮮明な断層イメージを得るために、通常、空隙内の撮像視野内には、０．０２～２．０Ｔでかつ１×１０-4以下の精度を有する安定した強力な均一磁界を形成することが要求される。」

（２）「【００１１】

【課題を解決するための手段】この発明は、ＭＲＩ用磁界発生装置において、上記目的を達成するために種々検討した結果、空隙を形成して対向する一対の磁極片を、それぞれ複数枚のけい素鋼板を所要方向に積層して一体化した複数個のブロック状磁極片用部材で形成した積層けい素鋼板層の上にソフトフェライトを積層した２層で構成することによって、磁界強度および磁界均一度を低下させることなく、傾斜磁界コイルによる渦電流、並びに残磁現象を低減でき、さらに加工、製造が容易となることを知見した。」

（３）上記引用文献２の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用文献２には、次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。

「ＭＲＩ用の磁界発生装置において、

空隙内の撮像視野内には、０．０２～２．０Ｔでかつ１×１０-4以下の精度を有する安定した強力な均一磁界を形成し、

空隙を形成して対向する一対の磁極片を、それぞれ複数枚のけい素鋼板を所要方向に積層して一体化した複数個のブロック状磁極片用部材で形成した積層けい素鋼板層の上にソフトフェライトを積層した２層で構成することによって、磁界強度および磁界均一度を低下させることなく、傾斜磁界コイルによる渦電流、並びに残磁現象を低減する、

ＭＲＩ用の磁界発生装置。」

３．引用文献３について

令和２年８月２４日付けの拒絶の理由に引用された引用文献３には、図面とともに次の技術事項が記載されている。

（１）「【００２６】たとえ上述したＭＲＩ磁石構造体によって比較的均一な静磁場が得られるとしても、当該磁場を若干補正する必要が出てくる場合もある。この場合は、図２に示すように公知の手法によって静磁場を調整するための一つ又はそれ以上のシムコイル３８及び／又はシムリング４０といった少なくとも一つのＭＲＩ静磁場補正手段を用いる。シムコイル３８は例えば非超電導磁石（常電導磁石）であって、被検体撮影領域中の磁場を調整すべくその位置及び通電量が制御される。高透磁性のリングを構成するシムリング４０は、その位置のみが調整可能であるとともに、これは被検体撮影領域付近の磁（束）場を補正するように作用する。

【００２７】明らかに、シムリング４０及び／又はシムコイル３８のサイズ、放射状位置、及び間隔を可変とすることにより被検体撮影領域における磁場の均一性およびその補正態様は変化する。さらにまた、シムコイル及び／又はシムリングは、図２に示すように上部磁極と共に配置しても良い。上部又は下部磁極の配置箇所において、シムコイル３８及びシムリング４０はそれ自体またはその組み合わせによって利用される。シムコイル及びシムリングをいずれかの磁極とともに単独で、又は両磁極とともに単独で使用することは想定されている。」

（２）上記引用文献３の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用文献３には、次の発明（以下「引用発明３」という。）が記載されていると認められる。

「ＭＲＩ磁石構造体において、静磁場を調整するための一つ又はそれ以上のシムコイル３８及び／又はシムリング４０といった少なくとも一つのＭＲＩ静磁場補正手段を用いた、ＭＲＩ磁石構造体。」

第７　対比・判断

１．本願発明１について

（１）対比

本願発明１を、引用発明１と比較する。

ア　引用発明１における「ＭＲＩ装置」は、本願発明１における「磁気共鳴映像法システム」に相当する。

イ　引用発明１における「静磁場発生装置」は、「ＭＲＩ装置」を構成するものであるから、本願発明１における「磁気共鳴映像法システムにおける使用のための磁気システム」に相当する。

ウ　引用発明１における「静磁場発生装置４０２」が発生させる「被検体４０１を配置する撮像領域」の「静磁場」は、本願発明１における「磁気共鳴映像法システムのためのＢ０磁場」に相当する。

エ　引用発明１における「撮像領域３０にｚ方向の静磁場を発生させる」「撮像領域３０を挟んで上下に配置された一対の静磁場発生コイル３２」は、「各平面上で円形であ」ることから、本願発明１における「磁気共鳴映像法システムのためのＢ０磁場に寄与する磁場を生成するように構成される」「第１のＢ０磁石と、第２のＢ０磁石とを含」む「２平面Ｂ０磁石」に相当する。

オ　引用発明１における「静磁場を均一にするために静磁場発生コイル３２の内側にそれぞれ配置された磁極板３１と、磁極板３１を連結して磁気回路を構成する継鉄３５ならびに鉄柱３３」は、「継鉄３５と鉄柱３３がＣ形状をなし」ていることから、本願発明１における「Ｃ形状の強磁性構造を含み、該Ｃ形状の強磁性構造は、該強磁性構造の１つの側のみに沿って磁束のための戻り経路を提供」する「１つの強磁性コンポーネント」に相当する。

すると、本願発明１と、引用発明１とは、次の点で一致する。

＜一致点＞

「磁気共鳴映像法システムにおける使用のための磁気システムであって、

第１のＢ０磁石と、第２のＢ０磁石とを含み、前記磁気共鳴映像法システムのためのＢ０磁場に寄与する磁場を生成するように構成される、２平面Ｂ０磁石と、

前記磁気共鳴映像法システムの撮像領域内の磁束密度を増大させるために、前記２平面Ｂ０磁石によって生成される前記磁場の少なくとも一部を取り込んで方向付けるように構成される、少なくとも１つの強磁性コンポーネントと、

を含み、

該少なくとも１つの強磁性コンポーネントは、Ｃ形状の強磁性構造を含み、該Ｃ形状の強磁性構造は、該強磁性構造の１つの側のみに沿って磁束のための戻り経路を提供し、

磁気システム。」

一方で、両者は、次の点で相違する。

＜相違点１＞

Ｃ形状の強磁性構造を含む強磁性コンポーネントを備えた磁気共鳴映像法システムにおいて、本願発明１は「前記磁気共鳴映像法システムが異なる場所に輸送されることを可能にする少なくとも１つの機構」を備えるのに対し、引用発明１は、据え付け型のシステムであり、そのような機構を備えていない点。

＜相違点２＞

２平面Ｂ０磁石及び少なくとも１つの強磁性コンポーネントにおいて、本願発明１は「０．１Ｔ以下の強度の前記Ｂ０磁場を生成するように構成される」のに対し、引用発明１は例えば０．２Ｔから１．５Ｔ程度の静磁場を発生するよう構成される点。

（２）相違点についての判断

前記相違点１について検討すると、前記相違点１に係る本願発明１のＣ形状の強磁性構造を含む強磁性コンポーネントを備えた磁気共鳴映像法システムにおいて「前記磁気共鳴映像法システムが異なる場所に輸送されることを可能にする少なくとも１つの機構」を備える構成は、上記引用文献１－３には記載されておらず、本願優先日前において周知技術であるともいえない。

したがって、他の相違点について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても引用発明１－３に基いて容易に発明できたものであるとはいえない。

２．本願発明２－２３について

本願発明２も、本願発明１の前記相違点１に係る発明特定事項を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明１－３に基いて容易に発明できたものであるとはいえない。

第８　原査定についての判断

令和２年１１月２４日付けの手続補正により、補正後の請求項１－２３は、「磁気共鳴映像法システムが異なる場所に輸送されることを可能にする少なくとも１つの機構」を備えるという技術的事項を有するものとなった。当該技術的事項は、原査定における引用文献Ａ－Ｇには記載されておらず、本願優先日前における周知技術でもないので、本願発明１－２３は、当業者であっても、原査定における引用文献Ａ－Ｇに基づいて容易に発明できたものではない。したがって、原査定を維持することはできない。

第９　むすび

以上のとおり、原査定の理由によって、本願を拒絶することはできない。

他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。