2017-014918

特願２０１３－１４４５８「反射防止フィルムおよびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年８月１４日出願公開，特開２０１４－１４５９１４〕について，次のとおり審決する。

【結　論】 本件審判の請求は，成り立たない。

【理　由】 第１　事案の概要 １　手続等の経緯 特願２０１３－１４４５８号（以下「本件出願」という。）は，平成２５年１月２９日を出願日とする特許出願であって，その後の手続等の経緯は，以下のとおりである。 平成２８年１０月１２日付け：拒絶理由通知書 平成２９年　２月１７日付け：意見書 平成２９年　２月１７日付け：手続補正書（以下「本件手続補正書」という。） 平成２９年　６月２９日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。） 平成２９年１０月　５日付け：審判請求書 ２　本願発明 本件出願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は，本件手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定されるとおりの，次のものである。 「　基材と，該基材側から順に，中屈折率層と，高屈折率層と，低屈折率層とを有し， 該基材の屈折率が１．４５～１．６５の範囲であり， 該中屈折率層が，バインダー樹脂と無機微粒子とを含む中屈折率層形成用組成物を該基材上に塗布および硬化することにより形成され，屈折率が１．６７～１．７８の範囲であり，厚みが７０ｎｍ～１２０ｎｍであり， 該高屈折率層の屈折率が２．００～２．６０の範囲であり，厚みが１４ｎｍ～２５ｎｍであり， 該低屈折率層の屈折率が１．３５～１．５５の範囲であり，厚みが７０ｎｍ～１２０ｎｍである， 反射防止フィルム。」 ３　原査定の拒絶の理由 原査定の拒絶の理由は，概略，本願発明は，その出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である特開２００１－２８１４１５号公報（以下「引用文献１」という。）に記載された発明に基づいて，その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。 第２　当合議体の判断 １　引用文献１の記載及び引用発明 (1) 引用文献１の記載 原査定の拒絶の理由に引用され，本件出願の出願前に頒布された刊行物である前記引用文献１には，以下の記載がある。なお，下線は当合議体が付したものであり，引用発明の認定及び判断に活用した箇所を示す。 ア　「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は，反射防止フィルタ及びその製造方法に関する。 …(省略)… 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】 …(省略)… 【０００９】本発明は，上述したような従来の実情に鑑みて提案されたものであり，最小限の層数で優れた低反射特性を有する表示装置用反射防止フィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。 【００１０】 【課題を解決するための手段】本発明の反射防止フィルタは，基材と，当該基材上に形成された反射防止層を備え，上記反射防止層は，基材上に形成され無機微粒子が樹脂材料中に分散されてなる第１の構成層と，第１の構成層上に形成され無機酸化物，無機窒化物又は無機酸窒化物からなる第２の構成層と，第２の構成層上に形成され無機酸化物又は無機フッ化物からなる第３の構成層とを少なくとも有することを特徴とする。 【００１１】上述したような本発明に係る反射防止フィルタでは，第１の構成層が，無機微粒子が樹脂材料中に分散されてなるので，中間屈折率膜が容易にかつ安価に形成される。また，この反射防止フィルタでは，第２の構成層以降が，無機酸化物，無機窒化物，無機酸窒化物又は無機フッ化物からなるので，膜厚制御性及び面内の膜厚均一性に優れた低反射性膜となる。」 イ　「【００１４】 【発明の実施の形態】以下，本発明の実施の形態について説明する。 【００１５】本実施の形態に係る反射防止フィルタ１は，図１に示すように，透明基材２と，透明基材２上に形成された反射防止層３と，反射防止層３上に形成された保護層４とから構成される。」 （当合議体注：図１は以下の図である。 ） ウ　「【００１６】透明基材２は，表示装置としての機能を満たすものであれば特に限定されることはなく，例えばガラス板やプラスチック板，プラスチックフィルムなどが利用できる。 …(省略)… 【００２０】反射防止層３は，透明基材側から順に積層された第１の反射防止膜５と，第２の反射防止膜６と，第３の反射防止膜７とから構成される。そして，第１の反射防止膜５は，屈折率が１．６～１．９の範囲の中屈折率層であり，第２の反射防止膜６は，屈折率が１．９～２．８の範囲の高屈折率層であり，第３の反射防止膜７は，屈折率が１．３～１．６の範囲の低屈折率層である。 【００２１】ここで，本発明の反射防止フィルタ１では，反射防止層３のうち，第１の反射防止膜５が湿式塗布法によって形成されており，第２の反射防止膜６及び第３の反射防止膜７がＰＶＤ（Psysical Vapor Deposition）法又はＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition）法により形成されている。 …(省略)… 【００４０】上述したような種々の方法により形成される第１の反射防止膜５の膜厚としては，可視光領域において広範囲な低反射特性を得るため，光学的な膜厚がλ／４前後であることが好ましい。なお，第２層目以降の成膜速度のより遅いＰＶＤ／ＣＶＤ法による合計膜厚を薄くするために，第１の反射防止膜５の光学的な膜厚をλ／４よりやや厚くする方が，生産性を上げることができるため産業上好ましい。 …(省略)… 【００４４】そして，このような第２の反射防止膜６は，光波長５５０ｎｍにおける光学的膜厚が１／４波長以下であることが好ましい。 …(省略)… 【００５８】 【実施例】以下，本発明の効果を確認するために行った実施例について説明するが，本発明はこれに限定されるものではない。 【００５９】〈実施例１〉まず，基材として厚さ１００μｍの透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いた。このＰＥＴフィルムの片面には，予め表面硬度を確保するためのハードコート処理が施されている。 【００６０】次に，特開平６－０５６４７８号公報に開示されているのと同様に，２．８ｇのアンチモンドープ酸化錫微粉末（粒径５～１０ｎｍ）と０．３ｇ（ＳｉＯ2換算）ポリエーテル変性シリコーンオイルと１９６．４ｇの水とを混合して，均一な分散液とし，グラビアコート法により上記基材上に塗布し，その後５０℃で３分間乾燥させ，屈折率１．７５，膜厚７９ｎｍの第１の反射防止膜を形成した。 【００６１】次に，第１の反射防止膜上に，スパッタリング法により，誘電体のＴｉＯ2を厚さ１１５ｎｍに被着させて第２の反射防止膜を形成した。されに，第２の反射防止膜上に，スパッタリング法により，誘電体のＳｉＯ2を厚さ９３ｎｍに被着させて第３の反射防止膜を形成して反射防止フィルタを完成した。なお，この反射防止フィルタは，光学的な膜厚が第１の反射防止膜側から順にλ／４，λ／２，λ／４となる設計とした。 【００６２】〈実施例２〉まず，膜厚を１１０ｎｍとしたこと以外は，実施例１と同様にして第１の反射防止膜を形成した。 【００６３】次に，第１の反射防止膜上に，スパッタリング法により，誘電体のＴｉＯ2を厚さ１２ｎｍに被着させて第２の反射防止膜を形成した。さらに，第２の反射防止膜上に，スパッタリング法により，誘電体のＳｉＯ2を厚さ１０７ｎｍに被着させて第３の反射防止膜を形成して反射防止フィルタを完成した。 …(省略)… 【００７０】そして，以上のようにして作製された反射防止フィルタについて，計算機によるシュミレーションを行い，表面反射（視感反射率），反射率が１％以下になる波長範囲を算出した。なお，このときの反射防止膜の構成材料の光学的屈折率としては，表１に示す数値を用いた。 【００７１】 【表１】 【００７２】各実施例及び比較例の反射防止フィルタについて，計算機によるシュミレーション結果を表２に示す。また，実施例１，実施例２，比較例１及び比較例２の反射防止フィルタの反射特性を図６乃至図９に示す。 【００７３】 【表２】 」 （当合議体注：図６～図９は以下の図である。 図６： 図７： 図８： 図９： ） エ　「【００７４】表２及び図６乃至図９から明らかなように，反射防止層の第１層目を湿式塗布法により形成し，第２及び第３層目をＰＶＤ法により形成した実施例１及び実施例２の反射防止フィルタは，３層とも湿式塗布法により形成した比較例１の反射防止フィルタ，及び３層ともＰＶＤ法により形成した比較例２の反射防止フィルタと比較して，表面反射が小さく，また，反射率が１％以下になる波長領域も広く，優れた反射防止機能を有していることがわかる。 【００７５】また，実施例２では，第１層目の光学的膜厚をλ／４よりやや厚く，かつ第２層目の光学的膜厚をλ／４以下（１３７．５ｎｍ）として反射防止フィルタを作製した。この実施例２の反射防止フィルタは，反射特性は実施例１の反射防止フィルタにやや劣るが，成膜速度の遅いＰＶＤ法で成膜する第２層と第３層の合計膜厚を２０８ｎｍから１１９ｎｍへ薄くすることができ，製造コストが安くできるため，産業上より好ましいと言える。 …(省略)… 【００７９】 【発明の効果】本発明では，ＰＶＤ／ＣＶＤ法による高精度な成膜との組み合わせにより，大面積へ安定して高品質の低反射膜を形成できる。またＰＶＤ／ＣＶＤ法の成膜速度が遅いという欠点を改善でき，安価に低反射膜を形成できる。」 (2) 引用発明 引用文献１の【００５９】～【００６２】の記載からは，実施例２の反射防止フィルタとして，次の発明が把握される（以下「引用発明」という。）。 「　基材として厚さ１００μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムを用い， ２．８ｇのアンチモンドープ酸化錫微粉末（粒径５～１０ｎｍ）と０．３ｇ（ＳｉＯ2換算）ポリエーテル変性シリコーンオイルと１９６．４ｇの水とを混合して，均一な分散液とし，グラビアコート法により上記基材上に塗布し，その後５０℃で３分間乾燥させ，屈折率１．７５，膜厚１１０ｎｍの第１の反射防止膜を形成し， 第１の反射防止膜上に，スパッタリング法により，誘電体のＴｉＯ2を厚さ１２ｎｍに被着させて第２の反射防止膜を形成し， 第２の反射防止膜上に，スパッタリング法により，誘電体のＳｉＯ2を厚さ１０７ｎｍに被着させて第３の反射防止膜を形成して完成させた， 反射防止フィルタ。」 ２　対比及び判断 (1) 対比 本願発明と引用発明を対比すると，以下のとおりとなる。 ア　基材，中屈折率層，高屈折率層，低屈折率層 引用発明の「第１の反射防止膜」，「第２の反射防止膜」及び「第３の反射防止膜」は，それぞれ，「基材上に」，「第１の反射防止膜上に」及び「第２の反射防止膜上に」形成したものである。また，引用発明の「第１の反射防止膜」は「屈折率１．７５」であるところ，引用発明の「第２の反射防止膜」の屈折率が１．７５より高く，「第３の反射防止膜」の屈折率が１．７５より低いことは，その材料からみて明らかである（引用文献１の【００７１】の【表１】からも確認できる事項である。）。 そうしてみると，引用発明の「反射防止フィルタ」は，「厚さ１００μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルム」である基材と，該基材側から順に，中屈折率の第１の反射防止膜と，高屈折率の第２の反射防止膜と，低屈折率の第３の反射防止膜を有する，フィルム形状のものといえる。 したがって，引用発明の「反射防止フィルタ」，「基材」，「第１の反射防止膜」，「第２の反射防止膜」及び「第３の反射防止膜」は，それぞれ本願発明の「反射防止フィルム」，「基材」，「中屈折率層」，「高屈折率層」及び「低屈折率層」に相当する。また，引用発明の「反射防止フィルタ」は，本願発明の「反射防止フィルム」の，「基材と，該基材側から順に，中屈折率層と，高屈折率層と，低屈折率層とを有し」という要件を満たす。 イ　基材の屈折率 引用発明の「基材」の材質は，「ポリエチレンテレフタレート」である。 したがって，引用発明の「基材」が，本願発明の「基材」の，「基材の屈折率が１．４５～１．６５の範囲であり」という要件を満たすことは明らかである。 ウ　中屈折率層 引用発明の「第１の反射防止膜」は，「２．８ｇのアンチモンドープ酸化錫微粉末（粒径５～１０ｎｍ）と０．３ｇ（ＳｉＯ2換算）ポリエーテル変性シリコーンオイルと１９６．４ｇの水とを混合して，均一な分散液とし，グラビアコート法により上記基材上に塗布し，その後５０℃で３分間乾燥させ」て「形成し」たものである。また，引用発明の「ポリエーテル変性シリコーンオイル」が，「アンチモンドープ酸化錫微粉末」のバインダー樹脂といえること，及び引用発明の「アンチモンドープ酸化錫微粉末」が，無機微粒子に該当することは，技術的にみて明らかである（引用文献１の【００１０】の記載からも確認できる事項である。）。 そうしてみると，引用発明の「第１の反射防止膜」は，バインダー樹脂と無機微粒子とを含む第１の反射防止膜形成用組成物を基材上に塗布および硬化することにより形成されたものといえる。 加えて，引用発明の「第１の反射防止膜」は，「屈折率１．７５，膜厚１１０ｎｍ」のものである。 したがって，引用発明の「第１の反射防止膜」は，本願発明の「中屈折率層」の，「バインダー樹脂と無機微粒子とを含む中屈折率層形成用組成物を該基材上に塗布および硬化することにより形成され，屈折率が１．６７～１．７８の範囲であり，厚みが７０ｎｍ～１２０ｎｍであり」という要件を満たす。 （当合議体注：本件出願の明細書の【００２３】には，「バインダー樹脂は，代表的には電離線硬化型樹脂であり，より具体的には紫外線硬化型樹脂である。」と記載され，また，引用発明の「ポリエーテル変性シリコーンオイル」は「電離線硬化型樹脂」には該当しない。しかしながら，仮にこの点を相違点としても，電離線硬化型樹脂であるバインダー樹脂と無機微粒子からなる組成物は，当業者における周知慣用技術にすぎず，審決の結論を左右しない。） エ　高屈折率層 引用発明の「第２の反射防止膜」は，「スパッタリング法により，誘電体のＴｉＯ2を厚さ１２ｎｍに被着させて」形成したものである。ここで，引用発明の「第２の反射防止膜」は，その材質からみて，「屈折率が２．００～２．６０の範囲」にあることは明らかである（引用文献１の【００７１】の【表１】からも確認できる事項である。）。 したがって，引用発明の「第２の反射防止膜」は，本願発明の「高屈折率層」における「屈折率が２．００～２．６０の範囲であり，厚みが１４ｎｍ～２５ｎｍであり」という要件のうち，「屈折率が２．００～２．６０の範囲であり」という要件を満たす。 オ　低屈折率層 引用発明の「第３の反射防止膜」は，「スパッタリング法により，誘電体のＳｉＯ2を厚さ１０７ｎｍに被着させて」形成したものである。ここで，引用発明の「第３の反射防止膜」は，その材質からみて，「屈折率が１．３５～１．５５の範囲」にあることは明らかである（引用文献１の【００７１】の【表１】からも確認できる事項である。）。 したがって，引用発明の「第３の反射防止膜」は，本願発明の「低屈折率層」における，「屈折率が１．３５～１．５５の範囲であり，厚みが７０ｎｍ～１２０ｎｍである」という要件を満たす。 (2) 一致点及び相違点 ア　一致点 以上勘案すると，本願発明と引用発明は，次の構成で一致する。 「　基材と，該基材側から順に，中屈折率層と，高屈折率層と，低屈折率層とを有し， 該基材の屈折率が１．４５～１．６５の範囲であり， 該中屈折率層が，バインダー樹脂と無機微粒子とを含む中屈折率層形成用組成物を該基材上に塗布および硬化することにより形成され，屈折率が１．６７～１．７８の範囲であり，厚みが７０ｎｍ～１２０ｎｍであり， 該高屈折率層の屈折率が２．００～２．６０の範囲であり， 該低屈折率層の屈折率が１．３５～１．５５の範囲であり，厚みが７０ｎｍ～１２０ｎｍである， 反射防止フィルム。」 イ　相違点 本願発明と引用発明は，次の点で相違する。 （相違点） 高屈折率層の厚みが，本願発明は「１４ｎｍ～２５ｎｍ」であるのに対して，引用発明は「１２ｎｍ」である点。 (3) 判断 高屈折率層の厚みについて，引用文献１の【００４４】には，「第２の反射防止膜６は，光波長５５０ｎｍにおける光学的膜厚が１／４波長以下であることが好ましい。」と記載されている。また，引用発明において，「光波長５５０ｎｍにおける光学的膜厚が１／４波長」は，約５８ｎｍと計算される（５５０ｎｍ÷４÷２．３９≒５８ｎｍ）。 そうしてみると，引用発明の「第２の反射防止膜」の膜厚を５８ｎｍ以下の範囲内で調整すること，例えば，引用発明の「第２の反射防止膜」の膜厚を，「１２ｎｍ」から僅か厚い「１４ｎｍ」や「１５ｎｍ」にすることは，引用文献１の記載に接した当業者が，当然試みる範囲内の設計変更にすぎない。 また，引用発明の「第２の反射防止膜」の膜厚を「１４ｎｍ」や「１５ｎｍ」等にしても，依然として，第１の反射防止膜の膜厚，第３の反射防止膜の膜厚が本願発明の中屈折率層及び低屈折率層の範囲内に収まることは，技術的にみて明らかである。 （当合議体による簡易なシミュレーションによると，第２の反射防止膜の膜厚を１４ｎｍにしても，第１の反射防止膜及び第３層の反射防止膜の膜厚を１～３ｎｍ程度調整すれば良い程度であった。また，この場合，視感度の高い５００ｎｍ～６００ｎｍの反射率を約３割低く，かつフラットに設計変更することができた。） (4) 本願発明の効果について 本願発明の効果について，本件出願の明細書の【０００９】には，「本発明によれば，中屈折率層の形成にウェットプロセスを用い，および，高屈折率層の厚みを従来に比べて格段に薄くすることにより，高生産性かつ低コストで反射防止フィルムを得ることができる。加えて，本発明によれば，各層の屈折率と厚みを最適化することにより，広帯域において優れた反射特性（低反射性）かつニュートラルに近い優れた反射色相を有し，さらに優れた機械特性を有する反射防止フィルムを得ることができる。」と記載されている。 しかしながら，「中屈折率層の形成にウェットプロセスを用い，および，高屈折率層の厚みを従来に比べて格段に薄くすることにより，高生産性かつ低コストで反射防止フィルムを得ることができる。」という効果は，引用文献１に明示的に記載された，引用発明が奏する効果にすぎない。 また，「広帯域において優れた反射特性（低反射性）かつニュートラルに近い優れた反射色相」が得られるか否かは，各層の屈折率と厚みの相互依存関係により決定されるものである。そして，本願発明の各層の屈折率及び厚みの範囲のものすべてが，「広帯域において優れた反射特性（低反射性）かつニュートラルに近い優れた反射色相」であるとはいえないものである。 仮に，この点は措いて考えるとしても，[A]引用発明の各層の屈折率は，いずれも本願発明の屈折率の範囲内にある。また，[B]当業者ならば，引用発明の反射防止フィルタの各層の膜厚を適宜変更してシミュレーションし，反射特性を最適化できる。そして，[C]実際に，引用発明のものは最適化されている。加えて，[D]引用文献１の図６及び図７からは，実施例１よりも実施例２（引用発明）の方が，可視光領域の反射率の平坦性に優れると評価可能である。 以上[A]～[D]を勘案すると，「各層の屈折率と厚みを最適化することにより，広帯域において優れた反射特性（低反射性）かつニュートラルに近い優れた反射色相を有し，さらに優れた機械特性を有する反射防止フィルムを得ることができる。」という効果についても，引用発明が奏する効果にすぎないといえる。 (5) 請求人の主張について 請求人は，審判請求書において，概略，引用文献１には[1]反射色相に関する記載がないこと，及び[2]引用発明（実施例２）の反射特性は実施例１のものに劣ること，を指摘する。 しかしながら，[1]については，前記(4)で述べたとおりである。また，[2]については，引用文献１の【００７５】に記載のとおり，製造コストが安くできるため，産業上はより好ましいものである。 したがって，請求人の主張は採用できない。 (6) 小括 本願発明は，引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 第３　まとめ 以上のとおりであるから，本願発明は，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。 したがって，他の請求項に係る発明について検討するまでもなく，本件出願は拒絶されるべきものである。 よって，結論のとおり審決する。