2017-013952

特願２０１６－１２３７７６「光学フィルム、偏光板及びディスプレイの帯電防止方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年１１月２４日出願公開、特開２０１６－１９７２４３、請求項の数（８）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 第１　手続の経緯 特願２０１０－２８１７８８号（以下「もとの特許出願」という。）は、平成２２年１２月１７日（優先権主張　平成２１年１２月２８日）を出願日とする特許出願である。また、特願２０１４－２０９８７６号（以下「第２出願」という。）は、もとの特許出願の一部を平成２６年１０月１４日に新たな特許出願としたものである。そして、本件拒絶査定不服審判事件に係る特願２０１６－１２３７７６号（以下「本願」という。）は、第２の特許出願の一部を平成２８年６月２２日に新たな特許出願としたものである。 本願は、もとの特許出願の時にしたものとみなされるところ、その手続等の経緯は、概略、以下のとおりである。 平成２９年　３月２８日付け：拒絶理由通知書 平成２９年　５月２４日付け：意見書、手続補正書 平成２９年　６月２３日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。） 平成２９年　９月２０日付け：審判請求書 第２　原査定の概要 原査定の拒絶の理由は、概略、本願の請求項１－８に係る発明は、その優先権主張の日（以下「優先日」という。）前に日本国内又は外国において頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、というものである。 引用文献１：特開２００８－２６４９２号公報 第３　本願発明 本願の請求項１－８に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」－「本願発明８」という。）は、平成２９年５月２４日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１－８に記載された事項により特定されるとおりの、以下の発明である。 「　【請求項１】 光透過性基材の一面側に膜厚１～４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムの帯電防止方法であって、 前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０～７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、 帯電防止方法。 【請求項２】 前記ハードコート層は、メタクリロイル基及び／又はアクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーよりなる群から選ばれる硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層である、請求項１に記載の帯電防止方法。 【請求項３】 前記ピークの半値幅が２５～５００ｎｍであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の帯電防止方法。 【請求項４】 前記カチオンが、第４級アンモニウム系カチオン、第４級ホスホニウム系カチオン、イミダゾリウム系カチオン、ピリジニウム系カチオン及びピロリジニウム系カチオンからなる群より選ばれる１種以上のカチオンであることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の帯電防止方法。 【請求項５】 前記ハードコート層の表面抵抗値が、１．０×１０１３Ω／□以下であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の帯電防止方法。 【請求項６】 前記ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の面に低屈折率層が設けられていることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の帯電防止方法。 【請求項７】 光透過性基材の一面側に膜厚１～４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムの前記光透過性基材側の面に偏光素子が設けられた偏光板の帯電防止方法であって、 前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０～７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、 帯電防止方法。 【請求項８】 光透過性基材の一面側に膜厚１～４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムを備えるディスプレイの帯電防止方法であって、 前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０～７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、 帯電防止方法。」 第４　引用文献、引用発明等 １　引用文献１の記載事項 原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である引用文献１には、以下の事項が記載されている。なお、下線は、当合議体が付したものであり、引用発明の認定に活用した箇所を示す。 （１）　「【技術分野】 【０００１】 本発明は反射防止フィルム、さらに詳しくは、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にプラズマディスプレイ用として好適な反射防止フィルムに関するものである。 ・・・（中略）・・・ 【発明が解決しようとする課題】 【０００３】 本発明は、このような事情のもとで、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にＰＤＰ用として好適なウエットプロセス法による反射防止フィルムを提供することを目的としてなされたものである。 ・・・（中略）・・・ 【発明の効果】 【０００５】 本発明によれば、ハードコート層及び／又は低屈折率層の樹脂に高い相溶性を有するイオン性液体をハードコート層及び／又は低屈折率層に添加することにより、イオン性液体の添加量の多寡にかかわらず、耐擦傷性を損なうことなく、優れた帯電防止性を示す。これにより、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にＰＤＰ用として好適なウエットプロセス法による反射防止フィルムを提供することができる。」 （２）　「【発明を実施するための最良の形態】 【０００６】 本発明の反射防止フィルムは、ウエットプロセス法により、基材フィルムの一方の面に、（Ａ）活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤を含む厚さ２～２０μｍのハードコート層（以下、（Ａ）層と称す）、及び（Ｂ）活性エネルギー線照射による硬化樹脂を含む、屈折率が１.４３以下の厚さ５０～２００ｎｍの低屈折率層（以下、（Ｂ）層と称す）が順次積層された構造を有している。 本発明の反射防止フィルムにおける基材フィルムについては特に制限はなく、従来反射防止フィルムの基材として公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。 ・・・（中略）・・・ 【０００８】 本発明の反射防止フィルムにおいては、前記基材フィルムの一方の面に、順次設けられた（Ａ）層及び（Ｂ）層のいずれか一方、あるいはその両方にイオン性液体が含まれており、その結果、優れた帯電防止性能が付与されている。 本発明において、イオン性液体は室温（２５℃）で液状を呈する溶融塩を指し、一般式（１） (Ｚa+)m・(Ａb-)n 　　　　　…（１） で表される化合物が用いられる。 前記一般式（１）において、Ｚa+はカチオン、Ａb-はアニオンを示し、ａ、ｂ、ｍ及びｎは、それぞれ１～３の整数であり、ａ×ｍ＝ｂ×ｎの関係を満たす。Ｚa+が複数ある場合、複数のＺa+は同一でも異なっていてもよく、Ａb-が複数ある場合、複数のＡb-は同一でも異なっていてもよい。 前記Ｚa+で表されるカチオンとしては特に制限はなく、従来イオン性液体のカチオンとして公知のカチオンの中から、任意のものを適宜選択することができる。このカチオンとしては、例えば下記式（２）～式（５）で表されるカチオンを挙げることができる。 【化３】 式（２）中のＲ1は、炭素数４～２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良く、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良い。但し、窒素原子が２重結合を含む場合、Ｒ3はない。 式（３）中のＲ4は、炭素数２～２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良く、Ｒ5、Ｒ6、およびＲ7は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良い。 式（４）中のＲ8は、炭素数２～２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良く、Ｒ9、Ｒ10、およびＲ11は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良い。 【０００９】 式（５）中のＥは、窒素、硫黄、又はリン原子を表し、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、およびＲ15は、それぞれ独立に炭素数１～２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでも良い。但しＥが硫黄原子の場合、Ｒ15はない。 ・・・（中略）・・・ 【００１１】 一方、前記一般式（１）において、Ａb-で表されるアニオンとしては、前記カチオンとイオン結合してイオン性液体を形成し得るものであればよく、特に制限されず、例えばＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＡｌＣｌ4-、Ａｌ2Ｃｌ7-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＣｌＯ4-、ＮＯ3-、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-、(ＣＦ3ＳＯ2)2Ｎ-、(ＣＦ3ＳＯ2)3Ｃ-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＮｂＦ6-、ＴａＦ6-、Ｆ(ＨＦ)n-、(ＣＮ)2Ｎ-、Ｃ４Ｆ9ＳＯ3-、(Ｃ2Ｆ5ＳＯ2)2Ｎ-、Ｃ3Ｆ7ＣＯＯ-、(ＣＦ3ＳＯ2)(ＣＦ3ＣＯ)Ｎ-などが用いられる。なかでも、フッ素原子を含むアニオンは、低融点のイオン性化合物を与えるので好ましく、特に(ＣＦ3ＳＯ2)2Ｎ-が好適である。 このようなイオン性液体は、（Ａ）層及び／又は（Ｂ）層を構成する樹脂との相溶性が高く、（Ａ）層及び／又は（Ｂ）層に配合された場合に、（Ａ）層及び／又は（Ｂ）層の耐擦傷性を低下させることがなく、かつ優れた帯電防止性を示す。 ・・・（中略）・・・ 【００１２】 ・・・（中略）・・・ （Ａ）層及び／又は（Ｂ）層中の前記イオン性液体の含有量及び所望によりイオン性液体と併用される前記反応性導電剤の含有量は、用いるイオン性液体や反応性導電剤の種類により異なるが、本発明の反射防止フィルムの表面抵抗率が、通常５×１０13Ω／□以下になるように選定される。（Ａ）層及び（Ｂ）層に使用した全成分中におけるイオン性液体の全含有量は、通常２～２０質量％、好ましくは３～１５質量％、より好ましくは５～１２質量％である。一方、反応性導電剤の全含有量は、（Ａ）層及び（Ｂ）層の合計量に基づき、通常０～２０質量％、好ましくは２～１５質量％、より好ましくは４～１２質量％である。 ・・・（中略）・・・ 【００１８】 ・・・（中略）・・・ 本発明において用いられる（Ａ）層用塗工液は、必要に応じ、適当な溶媒中に、前記の活性エネルギー線硬化性化合物と、近赤外線吸収剤と、前述のイオン性液体又は該イオン性液体と前述の反応性導電剤を含有したものに、所望により用いられる前記の光重合開始剤、防眩性付与剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。 ・・・（中略）・・・ 【００１９】 このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。 次に、基材フィルムの一方の面に、上記塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、（Ａ）層が形成される。 ・・・（中略）・・・ 【００２０】 本発明の反射防止フィルムにおいては、（Ａ）層上に、（Ｂ）活性エネルギー線照射による硬化樹脂を含む屈折率が１.４３以下の厚さ５０～２００ｎｍの低屈折率層が設けられる。 （Ｂ）層は、例えば活性エネルギー線硬化性化合物と、好ましくは多孔性シリカ粒子と、前述のイオン性液体又は該イオン性液体と前述の反応性導電剤を含有した層の上に、所望により光重合開始剤などを含む（Ｂ）層用塗工液を、（Ａ）層上にコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。 ・・・（中略）・・・ 【００２１】 本発明において用いられる（Ｂ）層用塗工液は、必要に応じ、適当な溶媒中に、前記の活性エネルギー線硬化性化合物と、好ましくは多孔性シリカ粒子と、前述のイオン性液体又は該イオン性液体と前述の反応性導電剤を含有したものに、所望により用いられる前記の光重合開始剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。 この際用いる溶媒については、（Ａ）層の説明において示したものから選択できる。 このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。 （Ａ）層上に、この塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、（Ｂ）層が形成される。 活性エネルギー線については、（Ａ）層の説明において示したものから選択できる。 本発明においては、（Ａ）層及び（Ｂ）層の形成は、以下に示す方法で行うのが有利である。 まず、基材フィルムの一方の面に（Ａ）層用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合には、光量は、通常５０～１５０ｍＪ／ｃｍ2程度である。次いで、このようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、（Ｂ）層用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を十分に照射し、前記ハーフキュア状態の硬化層と共に完全に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合、光量は、通常４００～１０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。なお、（Ａ）層及び／又は（Ｂ）層を完全に硬化させる際は、酸素による硬化阻害を防ぐために、窒素ガスなどの雰囲気下で、活性エネルギー線を照射することができる。この場合、酸素濃度は低い方がよく、２容量％以下が好ましい。 基材フィルム上に、（Ａ）層をハーフキュア状態で（Ｂ）層を塗工し、最終的に（Ａ）層と（Ｂ）層を完全硬化させることにより、（Ａ）層と（Ｂ）層の密着性を増大させることができる。」 （３）　「【実施例】 ・・・（中略）・・・ 【００２５】 実施例１ （１）（Ａ）層用塗工液の調製 活性エネルギー線硬化性化合物としてトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート［東亜合成化学社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」、固形分濃度１００％］４０質量部とペンタエリスリトールトリアクリレート［東亜合成化学社製、商品名「アロニックスＭ－３０５」、固形分濃度１００％］３０質量部とポリエチレングリコールジアクリレート［新中村化学社製、商品名「ＮＫエステルＡ－４００」、固形分濃度１００％］３０質量部とからなる混合物に、光重合開始剤（２－メチル－１－[４－(メチルチオ)フェニル]－２－モルフォリノプロパン－１－オン）［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］２質量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ－０１」、平均粒径２３ｎｍのセシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１０質量％懸濁液、全固形分濃度１４質量％］２７０質量部と、イオン性液体［広栄化学社製、商品名「ＩＬ－Ａ５」（カチオン種：［化１］（５）、アニオン種：(ＣＦ3ＳＯ2)2Ｎ-）、固形分濃度１００質量％］１０質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が３０質量％になるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で希釈して、（Ａ）層用塗工液を調製した。 （２）（Ｂ）層用塗工液の調製 多官能アクリレート混合物（ポリウレタンアクリレート）［荒川化学(株)製、商品名「ビームセット５７７ＣＢ」、固形分濃度１００％］１００質量部に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］５質量部を添加し、次いで多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）分散体［触媒化成工業(株)製、商品名「ＥＬＣＯＭ ＲＴ－１００２ＳＩＶ」、固形分濃度２１質量％、多孔性シリカ粒子：比重１.８、屈折率１.３０、平均粒径６０ｎｍ］１２００質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が２質量％になるようにＭＩＢＫで希釈して、（Ｂ）層用塗工液を調製した。 （３）反射防止フィルムの作製 基材フィルムとして厚さ１００μｍの両面易接着処理ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［東洋紡績(株)製、商品名「Ａ４３００」］表面に、前記（１）で得た（Ａ）層用塗工液を硬化後の厚さが６μｍになるように、マイヤーバーＮｏ．１６で塗布した。次いで、９０℃で１分間乾燥したのち、紫外線を光量１００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、ハーフキュア状態に硬化させた。 次に、このハーフキュアしたコート表面に、前記（２）で得た（Ｂ）層用塗工液を硬化後の厚さが１００ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ．４で塗布した。次いで、８０℃で１分間乾燥したのち、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度０.５容量％）で紫外線を光量５００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、完全硬化させ、ＰＥＴフィルム上に、屈折率１.５４の近赤外線吸収性ハードコート層及び屈折率１.３８の低屈折率層を順次形成させることにより、反射防止フィルムを作製した。 このようにして作製された反射防止フィルムの物性を第１表に示す。この反射防止フィルムの波長８００～１２００ｎｍの全領域における分光透過率は３０％以下であった。 実施例２ ・・・（中略）・・・ 実施例３ 実施例１（１）における（Ａ）層用塗工液の調製において、シリカゲル［東ソー・シリカ社製、商品名「ニップシールＥ－２００」、平均粒径３μｍ］５質量部を加えた以外は、実施例１と同様にして（Ａ）層用塗工液を調製し、さらに反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。 実施例４ 実施例１（１）における（Ａ）層用塗工液の調製において、イオン性液体を、［広栄化学社製、商品名「ＩＬ－Ｃ３」（カチオン種：［化１］（２）、アニオン種：(ＣＦ3ＳＯ2)2Ｎ-）］に変更した以外は、実施例１と同様にして（Ａ）層用塗工液を調製し、さらに反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。 実施例５ 実施例１（１）における（Ａ）層用塗工液の調製を、下記のように変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。 ＜（Ａ）層用塗工液の調製＞ 活性エネルギー線硬化性化合物としてトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート［東亜合成化学社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」、固形分濃度１００％］４０質量部とペンタエリスリトールトリアクリレート［東亜合成化学社製、商品名「アロニックスＭ－３０５」、固形分濃度１００％］３０質量部とポリエチレングリコールジアクリレート［新中村化学社製、商品名「ＮＫエステルＡ－４００」、固形分濃度１００％］３０質量部とからなる混合物に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］２質量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ－０４」、平均粒径２３ｎｍのセシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１７.５質量％懸濁液、全固形分濃度２８質量％］１６０質量部とイオン性液体［広栄化学社製、商品名「ＩＬ－Ａ５」、固形分濃度１００質量％］１０質量部混合し、さらに反応性導電剤としてアクリロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド水溶液［興人社製、商品名「ＤＭＡＥＡ－Ｑ」、固形分濃度７９質量％］１２質量部を加えたのち、全体の固形分濃度が３０質量％になるようにＭＩＢＫで希釈して、（Ａ）層用塗工液を調製した。 比較例１ 実施例１（１）の（Ａ）層用塗工液の調製において、イオン性液体を添加しなかったこと以外は、実施例１と同様にして（Ａ）層用塗工液を調製し、さらに反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。 【００２６】 【表１】 【００２７】 第１表から、本発明の反射防止フィルム（実施例１～５）は、いずれも反射防止性に優れると共に、近赤外線吸収性に優れ、耐擦傷性にも優れており、かつ表面抵抗率が低く、優れた帯電防止性を有している。また、実施例３は、ハードコート層に防眩性付与剤を含有させているので、６０°グロス値が８０となっている。 これに対し、比較例１は、ハードコート層及び低屈折率層のいずれにも、イオン性液体及び反応性導電剤が共に含有されていないため、表面抵抗率が高く、帯電防止性が悪い。」 ２　引用発明 （１）引用発明１ 引用文献１の【０００１】には、引用文献１にいう本発明は、「帯電防止性に優れる」「反射防止フィルム」に関するものであることが記載されている。また、引用文献１の【００２６】及び【００２７】には、「本発明の反射防止フィルム（実施例１－５）」は、比較例よりも「表面抵抗率が低く、優れた帯電防止性を有」することが記載されている。 そうしてみると、引用文献１の【００２５】に実施例１として記載された「反射防止フィルムの作製方法」は、その「（Ａ）層用塗工液を調整」する工程において「イオン性液体」を「混合し」ており、この点において、「反射防止フィルムの帯電防止方法」と理解することができる。 したがって、引用文献１の【００２５】には、実施例１として、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。 「　活性エネルギー線硬化性化合物としてトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート［東亜合成化学社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」、固形分濃度１００％］４０質量部とペンタエリスリトールトリアクリレート［東亜合成化学社製、商品名「アロニックスＭ－３０５」、固形分濃度１００％］３０質量部とポリエチレングリコールジアクリレート［新中村化学社製、商品名「ＮＫエステルＡ－４００」、固形分濃度１００％］３０質量部とからなる混合物に、光重合開始剤（２－メチル－１－[４－(メチルチオ)フェニル]－２－モルフォリノプロパン－１－オン）［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］２質量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ－０１」、平均粒径２３ｎｍのセシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１０質量％懸濁液、全固形分濃度１４質量％］２７０質量部と、イオン性液体［広栄化学社製、商品名「ＩＬ－Ａ５」（カチオン種：［化１］（５）（当合議体注：［化１］（５）の化学式は末尾参照）、アニオン種：(ＣＦ3ＳＯ2)2Ｎ-）、固形分濃度１００質量％］１０質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が３０質量％になるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で希釈して、（Ａ）層用塗工液を調製する第１の工程、 多官能アクリレート混合物（ポリウレタンアクリレート）［荒川化学(株)製、商品名「ビームセット５７７ＣＢ」、固形分濃度１００％］１００質量部に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］５質量部を添加し、次いで多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）分散体［触媒化成工業(株)製、商品名「ＥＬＣＯＭ ＲＴ－１００２ＳＩＶ」、固形分濃度２１質量％］１２００質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が２質量％になるようにＭＩＢＫで希釈して、（Ｂ）層用塗工液を調整する第２の工程、 厚さ１００μｍの両面易接着処理ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［東洋紡績(株)製、商品名「Ａ４３００」］を基材フィルムとして、その表面に、（Ａ）層用塗工液を硬化後の厚さが６μｍになるように、マイヤーバーＮｏ．１６で塗布し、９０℃で１分間乾燥したのち、紫外線を光量１００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、ハーフキュア状態に硬化させる第３の工程、 このハーフキュアしたコート表面に、（Ｂ）層用塗工液を硬化後の厚さが１００ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ．４で塗布し、８０℃で１分間乾燥したのち、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度０.５容量％）で紫外線を光量５００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、完全硬化させる第４の工程からなり、 ＰＥＴフィルム上に、近赤外線吸収性ハードコート層及び低屈折率層を順次形成させることにより反射防止フィルムを作製してなる、 反射防止フィルムの帯電防止方法。」 【［化１］（５）】 （２）引用発明３ 引用文献１の【００２５】には、実施例３として、次の発明が記載されている（以下「引用発明３」という。）。 「　引用発明１の第１の工程において、 さらに、シリカゲル［東ソー・シリカ社製、商品名「ニップシールＥ－２００」、平均粒径３μｍ］５質量部を加えてなる、 反射防止フィルムの帯電防止方法。」 （３）引用発明４ 引用文献１の【００２５】には、実施例４として、次の発明が記載されている（以下「引用発明４」という。）。 「　引用発明１の第１の工程において、 イオン性液体を、［広栄化学社製、商品名「ＩＬ－Ｃ３」（カチオン種：［化１］（２）（当合議体注：［化１］（２）の化学式は末尾参照）、アニオン種：(ＣＦ3ＳＯ2)2Ｎ-）］に変更した、 反射防止フィルムの帯電防止方法。」 【［化１］（２）】 （４）引用発明５ 引用文献１の【００２５】には、実施例５として、次の発明が記載されている（以下「引用発明５」という。）。 「　引用発明１の第１の工程において、 近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ－０１」、平均粒径２３ｎｍのセシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１０質量％懸濁液、全固形分濃度１４質量％］２７０質量部にかえて、近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ－０４」、平均粒径２３ｎｍのセシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１７.５質量％懸濁液、全固形分濃度２８質量％］１６０質量部とし、さらに反応性導電剤としてアクリロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド水溶液［興人社製、商品名「ＤＭＡＥＡ－Ｑ」、固形分濃度７９質量％］１２質量部を加えた、 反射防止フィルムの帯電防止方法。」 第５　対比・判断 １　本願発明１について （１）対比 本願発明１と引用発明１を対比すると、以下のとおりとなる。 ア　光透過性基材、光学フィルム、帯電防止方法、イオン液体 引用発明１の「基材フィルム」、「反射防止フィルム」、「帯電防止方法」及び「イオン性液体」は、その文言が意味する技術的事項及びその構成から理解される機能からみて、本願発明１の「光透過性基材」、「光学フィルム」、「帯電防止方法」及び「カチオンとアニオンからなるイオン液体」に相当する。 イ　ハードコート層 引用発明１の「近赤外線吸収性ハードコート層及び低屈折率層」は、いずれも光硬化性の多官能アクリレートを主成分とするものである。 そうしてみると、引用発明１の「近赤外線吸収性ハードコート層及び低屈折率層」は、全体としてハードコート層をなすものと理解できる。 したがって、引用発明１の「近赤外線吸収性ハードコート層及び低屈折率層」は、本願発明１の「ハードコート層」に相当するといえる。 そして、引用発明１の「近赤外線吸収性ハードコート層」及び「低屈折率層」の厚さは、それぞれ「６μｍ」及び「１００ｎｍ」である。また、両者は、「ＰＥＴフィルム上に」、「順次形成させ」たものであるから、ＰＥＴフィルムの一面側に設けられたものといえる。 そうしてみると、引用発明１の「反射防止フィルム」は、本願発明１の「光学フィルム」の「光透過性基材の一面側に膜厚１～４０μｍ」の「ハードコート層が設けられた」という要件を満たすものである。 さらに、引用発明１の「（Ａ）層用塗工液」は、「イオン性液体」を含有するものである。 そうしてみると、引用発明１の（Ａ）層用塗工液及び（Ｂ）層用塗工液を塗布、乾燥及び硬化した「近赤外線吸収性ハードコート層及び低屈折率層」は、本願発明１の「ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含」むという要件を満たすものである。 （２）一致点及び相違点 ア　本願発明１と引用発明１は、次の構成で一致する。 （一致点） 「　光透過性基材の一面側に膜厚１～４０μｍ、のハードコート層が設けられた光学フィルムの帯電防止方法であって、 前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含む、ハードコート層を設けた、 帯電防止方法。」 イ　本願発明１と引用発明１は、次の点で相違する。 （相違点１） 本願発明１の「ハードコート層」は、「鉛筆硬度Ｈ以上」であるのに対し、引用発明１は、「鉛筆硬度Ｈ以上」であるのかどうか不明である点。 （相違点２） 「ハードコート層」について、本願発明１は、「当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０～７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下である」のに対し、引用発明１は、このような構成となっているかどうか不 明である点。 （３）相違点についての判断 事案に鑑み相違点２について検討する。 引用発明１のイオン性液体が、ハードコート層として機能する層の膜厚方向において、当該層の基材とは反対側の界面から５０～７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在するイオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在するイオン液体の存在量の割合が５０％以下であるかについて検討すると、以下のとおりとなる。 ア　まず、引用文献１には、イオン性液体が、形成後の反射防止フィルムの膜厚方向において、どのように分布しているかについて、何ら記載がない。 したがって、引用文献１の記載からは、引用発明１の反射防止フィルムが、相違点２に係る本願発明の構成を具備するものと理解することはできない。 イ　次に、引用発明１の反射防止フィルム製造方法と、本願の明細書の【０１０１】～【０１０３】に記載された実施例１～実施例３の製造方法を比較すると、両者は同一ではない。 まず、本願の実施例１及び実施例２においては、第一のＨＣ用組成物１及び第二のＨＣ用組成物１が同時塗布されているのに対して、引用発明１においては、（Ａ）層用塗工液の塗布、乾燥及び硬化後に、（Ｂ）層用塗工液が塗布、乾燥及び硬化されている（以下「逐次塗工」という。）。 次に、本願の実施例３においては逐次塗工が行われているが、本願の実施例３の第二のＨＣ用組成物２と引用発明１の（Ｂ）層用塗工液は、固形分濃度及び膜厚が全く異なる。すなわち、本願の実施例３の第二のＨＣ用組成物２は、溶剤により希釈されておらず（材料に含まれる溶剤のみ）、また、（乾燥後）膜厚約１μｍであるのに対して、引用発明１の（Ｂ）層用塗工液は、固形分濃度が２％になるように希釈されたものであり、また、膜厚は１００ｎｍである。 ウ　さらに、引用発明１の「反射防止フィルム」の製造方法と、本願の明細書の【０１０４】～【０１０６】に記載された比較例１及び比較例２の製造方法を比較すると、以下のとおりである。 すなわち、本願の比較例１及び比較例２においては、多官能アクリレートとイオン液体を含有する、第一のＨＣ層用組成物（当合議体注：下層用組成物）と、イオン液体を含まず多官能アクリレートを含有する、第二のＨＣ層用組成物（当合議体注：上層用組成物）を用い、両者が同じ溶剤を含み、両者を逐次塗布にて形成しており、深さ方向のイオン液体の分布が、上記相違点２の条件を満たさないことが示されている。これは、多官能アクリレートとイオン液体との親和性が低いことによって、イオン液体が上層に移行したためであるといえる。 そして、引用発明１の（Ａ）層用塗工液（当合議体注：下層用組成物）及び（Ｂ）層用塗工液（当合議体注：上層用組成物）の組成は、それぞれ、本願の比較例１及び比較例２の第一のＨＣ層用組成物及び第二のＨＣ層用組成物の組成と相違するが、引用発明１と本願の比較例１及び比較例２は、いずれも多官能アクリレートとイオン液体を含有する、下層用組成物と、イオン液体を含まず多官能アクリレートを含有する上層用組成物を用い、両者が同じ溶剤を含み、両者を逐次塗布にて形成されたものである点で一致する。 そうしてみると、前述の多官能アクリレートとイオン液体との親和性が低いことに基づけば、引用発明１のイオン性液体は、本願の比較例１及び比較例２と同様、上層に移行するものといえる。 また、引用発明１の（Ｂ）層用塗工液を乾燥・硬化してなる「低屈折率層」の厚さは０．１μｍで、本願の比較例１及び比較例２の第二のＨＣ層用の厚さよりも低いものである（当合議体注：比較例１の第二のＨＣ層用の厚さは０．５μｍ、比較例２の第二のＨＣ層用の厚さは０．３μｍである）。 そうしてみると、引用発明１において、上層に移行したイオン性液体は、本願の比較例１及び比較例２と同程度又はそれ以上に最表面に近い領域（最表面から５０ｎｍ未満の領域）に存在しているものの割合が高いものといえる。 エ　したがって、引用発明１が、「当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０～７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下である」という構成を具備するものであるということはできず、上記相違点２は実質的な相違点を構成する。 オ　さらに、引用文献１には、上記記載事項イ（第４　１（２）参照）にイオン性液体を用いることや、組成物全量に対する好ましい含量について記載されているものの、形成された層における膜厚方向における存在量のピーク及び存在割合について何ら記載がなく、膜厚方向におけるイオン性液体の存在領域が偏在する可能性や偏在によって生じる課題及び効果についても何ら記載されていない。 そして、他に、ハードコート層に含まれるイオン液体の膜厚方向における存在量を制御することを示唆する文献や技術常識を見いだすことはできない。 したがって、引用発明１のハードコート層において、イオン性液体の膜厚方向における存在量のピークの領域及び存在量の割合を上記相違点２に係る領域及び割合に変更することが当業者において容易に想到し得たということはできない。 以上より、引用発明１は、本願の比較例１及び比較例２と同様に上記相違点２の条件を満たさないものといえる。 また、上記オのとおりであるから、たとえ当業者といえども、引用発明１に基づいて相違点２の条件を満たす構成とすることを容易に想到することができたとはいえない。 したがって、上記相違点１について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても引用発明１及び引用文献１に記載された技術的事項に基づいて発明できたものであるとはいえない。 ２　本願発明２－本願発明６について 本願発明２－本願発明６は、本願発明１の「帯電防止方法」と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同様の理由により、当業者であっても、引用発明１及び引用文献１に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 ３　本願発明７について 本願発明７は、本願発明１における「光学フィルム」の「光透過性基材側の面に偏光素子が設けられた偏光板の帯電防止方法」であって、「光学フィルム」は、本願発明１と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同様の理由により、当業者であっても、引用発明１及び引用文献１に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 ４　本願発明８について 本願発明８は、本願発明１における「光学フィルム」を備える「ディスプレイ帯電防止方法」であって、「光学フィルム」は、本願発明１と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同様の理由により、当業者であっても、引用発明１及び引用文献１に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 ５　本願発明１－８について／主引例：引用発明３－引用発明５ 上記１～４について、引用発明１に替えて引用発明３－引用発明５を主引用発明としても同様である。 第６　むすび 以上のとおり、原査定の理由によって、本願を拒絶することはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由もない。 よって、結論のとおり審決する。