審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許拒絶査定不服審判

2016-013380

下地層および研磨表面層を有する研磨パッド

審判番号
2016-013380
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2014-543467
請求日
2016年09月07日
審決日
2018年03月01日
公報発行日
2018年04月27日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
  • 【請求人】キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
  • 【請求人代理人】山本 秀策
  • 【請求人代理人】森下 夏樹
  • 【請求人代理人】飯田 貴敏
  • 【請求人代理人】石川 大輔
  • 【請求人代理人】山本 健策
審判長/審判官
  • 審判長 平岩 正一
  • 審判官 柏原 郁昭
  • 審判官 栗田 雅弘
分類
P18 .121-WYF(H01L) / P18 .65 -WYF(H01L)
データ出所
審決公報(SGML)

事件の表示

特願2014-543467「下地層および研磨表面層を有する研磨パッド」拒絶査定不服審判事件〔平成25年6月6日国際公開、WO2013/081665、平成27年1月29日国内公表、特表2015-503232、請求項の数(29)〕について、次のとおり審決する。

結論

【結 論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

【理 由】 本願は、2012(平成24)年5月16日(パリ条約による優先権主張外国庁受理 2011年11月29日 (US)アメリカ合衆国 2011年11月29日 (US)アメリカ合衆国)を国際出願日とする出願であって、その請求項1ないし29に係る発明は、平成30年1月31日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし29に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審で通知した拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2016-013380

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ当事者の審決9件(キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション)
  • 2020-000680拒絶査定不服審判 / 2020-11-04 / 原査定取消(特許/登録すべき)下地層および研磨表面層を有する研磨パッド
    同じ当事者: キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
  • 2019-015708拒絶査定不服審判 / 2020-10-20 / 原査定取消(特許/登録すべき)液状充填材を含むポロゲンを有する研磨パッド
    同じ当事者: キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
  • 2018-016020拒絶査定不服審判 / 2020-06-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物
    同じ当事者: キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
  • 2019-005965拒絶査定不服審判 / 2020-03-03 / 原査定取消(特許/登録すべき)独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド
    同じ当事者: キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
  • 2017-012112拒絶査定不服審判 / 2019-03-19 / 原査定取消(特許/登録すべき)低密度研磨パッド
    同じ当事者: キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
検索でもっと見る →
同じ論点・分野の審決(審決分類)2,480件(121・H01L、65・H01L)
  • 2024-007139拒絶査定不服審判 / 2025-08-27 / 原査定取消(特許/登録すべき)発光ダイオードデバイスおよび照明システムのためのファンアウト構造
    共通の審決分類: 121・H01L、65・H01L
  • 2024-001405拒絶査定不服審判 / 2025-08-20 / 原査定取消(特許/登録すべき)高性能の三次元半導体構造の製造方法、及びこの製造方法から生成される構造
    共通の審決分類: 121・H01L、65・H01L
  • 2024-000055拒絶査定不服審判 / 2024-10-16 / 原査定取消(特許/登録すべき)半導体素子
    共通の審決分類: 121・H01L、65・H01L
  • 2024-002315拒絶査定不服審判 / 2024-06-27 / 原査定取消(特許/登録すべき)プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
    共通の審決分類: 121・H01L、65・H01L
  • 2023-008265拒絶査定不服審判 / 2024-05-07 / 原査定取消(特許/登録すべき)はんだ材および焼結体
    共通の審決分類: 121・H01L、65・H01L

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存