2015-020505

特願２０１３－５４３９８「パターン形成方法，感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物，レジスト膜，これらを用いた電子デバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年３月６日出願公開，特開２０１４－４１３２５，請求項の数（１４）〕について，次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は，特許すべきものとする。

【理　由】 本願は，平成２５年３月１５日（優先権主張　平成２４年７月２７日）の出願であって，その請求項１～１４に係る発明は，平成２９年３月１６日付け手続補正書によって補正された，特許請求の範囲の請求項１～１４に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして，本願については，原査定の拒絶の理由及び当合議体の拒絶の理由を検討しても，その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって，結論のとおり審決する。