2025-004792

特願２０２３－ ５５６７６「透明導電性フィルム」拒絶査定不服審判事件〔令和 ６年１０月１１日出願公開、特開２０２４－１４３１５１〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、令和５年３月３０日に出願されたものであって、その手続の経緯は以下のとおりである。 令和６年 ３月１４日付け：拒絶理由通知書 同年 ５月１０日 ：意見書、手続補正書の提出 同年 ８月 ５日付け：拒絶理由通知書（最後） 同年１０月１０日 ：意見書、手続補正書の提出 令和７年 １月 ７日付け：補正の却下の決定 同日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。） 令和７年 ３月２８日 ：審判請求書、手続補正書の提出 第２ 令和７年３月２８日にされた手続補正についての補正の却下の決定 ［補正の却下の決定の結論］ 令和７年３月２８日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 ［理由］ １ 補正の内容 （１） 本件補正後の特許請求の範囲の記載 本件補正により、特許請求の範囲の請求項４の記載は、次のとおり補正された。（下線は、補正箇所を示す。） 「 【請求項４】 透明基材（ポリエーテルサルホンフィルムを除く）と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムであって、 前記透明基材は、透明な樹脂フィルムを備え、 前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層であり、 前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有し、 前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有し、前記非晶質層が前記結晶質層より厚い、透明導電性フィルム。」 （２） 本件補正前の特許請求の範囲の記載 本件補正前の、令和６年５月１０日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項４の記載は次のとおりである。 「 【請求項４】 透明基材と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムであって、 前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層であり、 前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有し、 前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有し、前記非晶質層が前記結晶質層より厚い、透明導電性フィルム。」 ２ 補正の適否 本件補正は、本件補正前の請求項４に記載された発明を特定するために必要な事項である「透明基材」について、「ポリエーテルサルホンフィルム」を除く「透明な樹脂フィルム」であるとの限定を付加するものであって、補正前の請求項４に記載された発明と補正後の請求項４に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第１７条の２第５項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 そこで、本件補正後の請求項４に記載される発明（以下「本件補正発明」という。）が同条第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。 （１） 本件補正発明 本件補正発明は、上記１（１）に記載したとおりのものである。 （２） 引用文献の記載及び引用発明等 ア 引用文献Ａの記載 当審において新たに引用する特開２０１１－１８１９０４号公報（以下「引用文献Ａ」という。）には、次の記載がある（下線は、合議体が付加した。以下、同じ。）。 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、導電性金属酸化物を含有する透明電極層を有する太陽電池用基板、太陽電池および有機薄膜太陽電池に関するものである。 ・・・ 【０００８】 本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、低抵抗および可撓性を併せ持つ電極を有する太陽電池用基板および太陽電池を提供すること、さらには酸による電極へのダメージを低減することが可能な太陽電池用基板および有機薄膜太陽電池を提供することを主目的とする。 ・・・ 【発明を実施するための形態】 ・・・ 【００３１】 本発明の太陽電池用基板について図面を参照しながら説明する。 図１は、本発明の太陽電池用基板の一例を示す概略断面図である。図１に示す例において、太陽電池用基板１は、透明基板２と、透明基板２上に形成され、導電性金属酸化物を含有する透明電極層３とを有している。透明電極層３は、透明基板２上に形成され、導電性金属酸化物を含有する非晶質膜３ａと、非晶質膜３ａ上に形成され、導電性金属酸化物を含有する結晶膜３ｂとを有する。非晶質膜３ａおよび結晶膜３ｂは同一の導電性金属酸化物を含有し、結晶膜３ｂは非晶質膜３ａの表面を結晶化することで得られる。 【００３２】 一般的に、導電性金属酸化物において、結晶膜は非晶質膜よりも抵抗が低く、すなわち導電性が高い。また、導電性金属酸化物において、結晶膜は非晶質膜よりも耐酸性に優れている。さらに、導電性金属酸化物において、非晶質膜と結晶膜とでは仕事関数が異なるものとなる。 【００３３】 本発明によれば、透明電極層が非晶質膜よりも抵抗が低い結晶膜を有することにより、透明電極層自体の導電性を高めることが可能である。また、透明電極層が可撓性に優れる非晶質膜を有することにより、透明電極層自体の可撓性を維持することが可能である。したがって本発明においては、低抵抗および可撓性を併せ持つ透明電極層とすることができる。 【００３４】 また本発明によれば、透明基板が可撓性を有するフィルム基板である場合には、透明電極層が非晶質膜を有し可撓性に優れているので、本発明の太陽電池用基板を用いることにより高性能なフレキシブル太陽電池を得ることが可能である。 ・・・ 【００４０】 １．透明電極層 本発明における透明電極層は、透明基板上に形成されるものであり、透明基板上に形成され、導電性金属酸化物を含有する非晶質膜と、非晶質膜上に形成され、非晶質膜に含有される導電性金属酸化物と同一の導電性金属酸化物を含有する結晶膜とを有するものである。非晶質膜および結晶膜は同一の導電性金属酸化物を含有し、結晶膜は非晶質膜の表面 を結晶化することにより得られる。なお、非晶質膜を結晶化させて結晶膜を得る過程で導電性金属酸化物の元素組成が変化したとしても、その非晶質膜に含有される導電性金属酸化物と結晶膜に含有される導電性金属酸化物は同一のものとする。 ・・・ 【００４３】 非晶質膜および結晶膜に用いられる導電性金属酸化物としては、導電性および透明性を有し、アモルファス構造および結晶構造を持ち、結晶化により抵抗が低く耐酸性が高くなり得るものであり、アニール処理により結晶化され得るものであれば特に限定されるものではない。このような導電性金属酸化物としては、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が好ましく用いられる。ＩＴＯは、導電性および透明性を有し、かつ仕事関数が高いからである。また、ＩＴＯを用いた場合にはレーザーアニールにより層表面のみを結晶化することができるからである。 ・・・ 【００４６】 透明電極層の膜厚としては、０．１ｎｍ～５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも１０ｎｍ～３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より薄いと、透明電極層のシート抵抗が大きくなりすぎ、発生した電荷を十分に外部回路へ伝達できない可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より厚いと、全光線透過率が低下し、光電変換効率を低下させる可能性があるからである。 【００４７】 透明電極層中の結晶膜の厚みとしては、透明電極層が可撓性を有するような厚みであればよい。結晶膜の厚みが厚いと透明電極層の可撓性が損なわれるおそれがある。したがって、透明電極層の可撓性を高めるために、結晶膜の厚みは比較的薄いことが好ましい。 また、本発明の太陽電池用基板が有機薄膜太陽電池用基板である場合、透明電極層中の結晶膜の厚みとしては、耐酸性を有する厚みであればよい。結晶膜の厚みが薄いと所望の耐酸性が得られない場合がある。一方、結晶膜の厚みが厚いと透明電極層の可撓性が損なわれる。結晶膜の厚みが一定以上であれば十分な耐酸性を得ることができる。したがって、透明電極層の可撓性を高めるために、結晶膜の厚みは耐酸性を有する厚みの中でも比較的薄いことが好ましい。 ・・・ 【００５１】 ２．透明基板 本発明に用いられる透明基板は、上記透明電極層を支持するものである。 【００５２】 透明基板としては特に限定されるものではなく、例えば石英ガラス、パイレックス（登録商標）、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を挙げることができる。 中でも、透明基板が透明樹脂フィルム等のフレキシブル材であることが好ましい。透明樹脂フィルムは、加工性に優れており、製造コスト低減や軽量化、割れにくい太陽電池の実現において有用であり、曲面への適用等、種々のアプリケーションへの適用可能性が広がるからである。 ・・・ 【０１６４】 レーザーアニールによって非晶質膜表面をどの程度まで結晶化するかは、得られる透明電極層の導電性、可撓性、耐酸性を考慮して適宜調整される。非晶質膜の表面は、結晶化により得られる結晶膜が、導電性金属酸化物が結晶構造を有するときの仕事関数と同程度の仕事関数を有するようになるまで、結晶化することが好ましい。結晶化の進行が不十分であると、所望の耐酸性が得られない場合がある。一方、結晶化が過度に進行すると、透明電極層の可撓性が損なわれる。結晶化がある程度まで進むと、仕事関数はほとんど変わらなくなる。したがって、高い可撓性を得るために、結晶膜が、導電性金属酸化物が結晶構造を有するときの仕事関数と同程度の仕事関数を有するようになった直後に、レーザーアニールを止めることが好ましい。 ・・・ 【実施例】 【０１８０】 以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。 ［実施例１］ （有機薄膜太陽電池の作製） 厚み１２５μｍのＰＥＴフィルム上にスパッタ法により厚み１５０ｎｍ、表面抵抗値６０Ω／□のＩＴＯ層を形成した。次に、上記ＩＴＯ層に対して出力９０ｍＪ／ｃｍ２のエキシマレーザーを用いたレーザーアニールを行い、表面のみが結晶化されたＩＴＯ層を得た。 【０１８１】 次に、上記ＩＴＯ層上に、導電性高分子ペースト（ポリ－（3,4－エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸分散品）をスピンコート法にて成膜した後、１００℃で１０分間乾燥させ、バッファー層を形成した。 次に、ポリチオフェン（P3HT:poly（3-hexylthiophene-2,5-diyl）、Aldrich社製）とC60PCBM（[6,6]-phenyl-C61-butyric acid mettric ester、Nano-C社製）をブロモベンゼンに溶解させ、固形分濃度１．４ｗｔ％の光電変換層用塗工液を準備した。次いで、光電変換層用塗工液を上記バッファー層上にスピンコート法にて塗布した後、１００℃で１０分間乾燥させて、光電変換層を形成した。 次に、上記光電変換層上にカルシウムおよびアルミニウムを真空蒸着法にて形成して、金属電極とした。」 「【図１】 ［図：0001438001000001.jpg］ 」 イ 引用文献Ａの記載から把握できる事項 （ア） 上記アの【００３１】によれば、「太陽電池用基板１」は、「透明基板２」と、「透明基板２上に形成され」る「透明電極層３」とを有し、「透明電極層３」は、「非晶質膜３ａ」と「非晶質膜３ａ上に形成され」る「結晶膜３ｂ」とを有する。 （イ） 上記アの【０１８０】によれば、実施例１の有機薄膜太陽電池は、「ＰＥＴフィルム」上に、「厚み１５０ｎｍ」の「ＩＴＯ層を形成し」、当該「ＩＴＯ層に対して」「レーザーアニールを行い、表面のみが結晶化されたＩＴＯ層を得た」ものである。 そして、上記（ア）より、「太陽電池用基板１」は、「透明基板２」と、「透明基板２上に形成され」る「透明電極層３」とを有するものであるところ、上記アの【００５２】によれば、「透明基板」として、「透明樹脂フィルム」が挙げられることから、実施例１の有機薄膜太陽電池において、「ＰＥＴフィルム」が「透明基板２」に相当する。また、上記アの【００４０】、【００４３】によれば、「透明電極層」は、同一の「導電性金属酸化物を含有する」「非晶質膜」と「結晶膜」を有し、「導電性金属酸化物」としては、「酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が好ましく」、「ＩＴＯを用いた場合にはレーザーアニールにより層表面のみを結晶化することができる」ことから、実施例１の有機薄膜太陽電池において、「ＩＴＯ層」が「透明電極層３」に相当するものである。 そうすると、引用文献Ａの実施例１は、透明基板２としてＰＥＴフィルムを用い、透明電極層３は、厚み１５０ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウム錫）層を形成し、レーザーアニールを行い、表面のみを結晶化したものである。 ウ 引用発明Ａ 上記イ（ア）、（イ）によれば、引用文献Ａには、次の発明（以下「引用発明Ａ」という。）が記載されている。 「透明基板２と、透明基板２上に形成される透明電極層３とを有する太陽電池用基板１であって、 透明電極層３は、非晶質膜３ａと、非晶質膜３ａ上に形成される結晶膜３ｂとを有し、 透明基板２としてＰＥＴフィルムを用い、 透明電極層３は、厚み１５０ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウム錫）層を形成し、レーザーアニールを行い、表面のみを結晶化したものである、 太陽電池用基板１。」 （３） 対比・判断 本件補正発明と引用発明Ａとを対比する。 ア 引用発明Ａの「透明基板２」は、「透明」であり、また、「透明基板２」である「ＰＥＴフィルム」は、ポリエーテルサルホンフィルムではない、樹脂フィルムである。 そうすると、引用発明Ａの「透明基板２」である「ＰＥＴフィルム」と本件補正発明の「透明基材」とは、「透明基材（ポリエーテルサルホンフィルムを除く）」である点、及び、「前記透明基材が、透明な樹脂フィルム」である点で一致する。 イ 引用発明Ａの「太陽電池用基板１」は、「透明基板２」と「透明電極層３」を有し、「透明電極層３」は「透明基板２上に形成される」ものであるから、「透明基板２」と「透明電極層３」とを厚さ方向に順に備えているといえる。 また、上記アで示したように、引用発明Ａの「透明基板２」である「ＰＥＴフィルム」は、「透明」な樹脂フィルムであるから、「透明基板２」上に「透明電極層３」を形成した「太陽電池用基板１」は、透明導電性フィルムといえる。 そうすると、上記アの検討を踏まえれば、引用発明Ａの「太陽電池用基板１」と本件補正発明の「透明導電性フィルム」は、「透明基材（ポリエーテルサルホンフィルムを除く）と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルム」である点で共通する。 ウ 本願明細書の【００２３】の「インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）」との記載を踏まえると、引用発明Ａの「厚み１５０ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウム錫）層を形成し、レーザーアニールを行い、表面のみを結晶化したもの」である「透明電極層３」は、「厚み１５０ｎｍ」のインジウムスズ複合酸化物層といえる。 そうすると、引用発明Ａの「透明電極層３」と本件補正発明の「透明導電層」は、「前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層」である点、「前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有」する点で共通する。 エ 引用発明Ａの「透明電極層３」は、「非晶質膜３ａ」と「非晶質膜３ａ上に形成され」る「結晶膜３ｂ」とを有するものであり、また、「透明電極層３」は「透明基板２」上に形成されるものであるから、「透明電極層３」は、「非晶質膜３ａ」と「結晶膜３ｂ」とを「透明基板２」側からこの順で有している。 そして、「膜」は「層」ともいい得るから、引用発明Ａの「非晶質膜３ａ」、「結晶膜３ｂ」は、「非晶質層」、「結晶質層」といえる。 そうすると、引用発明Ａの「透明電極層３」と本件補正発明の「透明導電層」は、「前記透明電極層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有」する点で共通する。 オ 以上によれば、本件補正発明と引用発明Ａは、以下の一致点及び相違点を有する。 ［一致点］ 「 透明基材（ポリエーテルサルホンフィルムを除く）と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムであって、 前記透明基材は、透明な樹脂フィルムを備え、 前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層であり、 前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有し、 前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有する、透明導電性フィルム。」 ［相違点］ 本件補正発明の「透明導電層」は、「非晶質層」が「結晶質層」より厚いのに対し、引用発明Ａの「透明電極層３」は、「非晶質膜３ａ」が「結晶膜３ｂ」より厚いのか明確でない点。 カ 上記相違点について検討する。 引用発明Ａの「透明電極層３」は、ＩＴＯ層に対してレーザーアニールを行い、表面のみを結晶化したものであるところ、引用文献Ａの【０１６４】には、レーザーアニールによって非晶質膜表面をどの程度まで結晶化するかは、得られる透明電極層の導電性、可撓性、耐酸性を考慮して適宜調整されることが記載されている。 そして、同【００４７】には、透明電極層の可撓性を高めるために、結晶膜の厚みは比較的薄いことが好ましいことが記載されており、また、同【図１】には、「非晶質膜３ａ」が「結晶膜３ｂ」より厚い「透明電極層３」が記載されている。 そうすると、これらの記載を参照した当業者であれば、引用発明Ａにおいて、「透明電極層３」の可撓性を高めるために、「非晶質膜３ａ」が「結晶膜３ｂ」より厚い構成とすることは、容易になし得たことである。 （４） 小括 以上のとおり、本件補正発明は、引用発明Ａに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 ３ 本件補正についてのむすび 以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 本願発明について １ 本願発明 本件補正は、上記第２のとおり却下されたので、本願の請求項１～７に係る発明は、令和６年５月１０日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１～７に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項４に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２の［理由］１（２）のとおりである。 ２ 原査定の拒絶の理由 原査定の拒絶の理由のうち、本願発明についての拒絶の理由は、概略、以下のとおりである。 （理由１）本願発明は、その出願前に日本国内及び外国において頒布された、下記の引用文献Ｂに記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。 （理由２）本願発明は、その出願前に日本国内及び外国において頒布された、下記の引用文献Ｂに記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 引用文献Ｂ．特開平８－１７４７４６号公報 ３ 引用文献の記載及び引用発明等 （１） 引用文献Ｂの記載 原査定の拒絶の理由で引用された特開平８－１７４７４６号公報（以下「引用文献Ｂ」という。）には、次の記載がある。 「【特許請求の範囲】 【請求項１】 厚さ100～300μｍのポリエーテルサルホンからなるフィルム上の少なくとも片面に設けられたアクリル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ700～2000Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性の高い厚さ100～300Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層し、インジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜全体の厚さが1000Å以上であることを特徴とする透明導電性フィルム。」 「【０００１】 【産業上の利用分野】 本発明は液晶ディスプレイ等に用いられる透明導電性フィルムに関する。詳しくは少なくとも片面にアクリル系有機アンカーコートを施したポリエーテルサルホンフィルム上に結晶性の異なる２層のインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層してなる透明導電性フィルムに関する。 ・・・ 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】 本発明の目的は、エッチング性を損なわずに膜耐久性の向上をはかり、液晶ディスプレイ等に適した電極材料を提供することにある。 ・・・ 【０００５】 【実施例】 《実施例１》 本発明の実施例としては100μ厚のポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム１の片面にアクリル系有機アンカーコート２をグラビアロールコーターで塗布した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置内の基板ホルダーに固定した。真空槽内を 5×10-6mbarまで排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝5：1）を導入し、真空度を 6×10-3mbarに保ち、基板温度を40℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）を用いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜下層３を形成した。このときできた膜のＸ線回折パターン（図３）を見るとピークが現れておらず非晶性のＩＴＯ膜が成膜されたことがわかる。その後さらに同スパッタ装置を用いアルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝5：1）を導入し、真空度を2×10-3mbarに保った状態で基板温度140℃でスパッタリング成膜を行いＩＴＯ膜上層４を形成した。このときできたＩＴＯ膜のＸ線回折パターン（図４）はピークを持ち結晶性であることがわかる。また、ＩＴＯ膜厚については簡易エッチングによる精密段差計での測定で、下層が1500Å、上層は 250Åの図１に示すような透明導電性フィルムが得られた。この透明導電性フィルムを３規定の塩酸でエッチングしたところ90秒で導電性がなくなり溶け残りもなかった。耐熱性（150℃、3時間）、耐湿熱性（80℃、90％、48時間）、耐擦傷性（100g／cm2 100往復ガーゼ摩擦）の各処理前後の抵抗値変化を測定したところいずれも試験前後の抵抗変化は1.1倍以下であった。」 （２） 引用発明Ｂ 上記（１）の【特許請求の範囲】によれば、引用文献Ｂには、次の発明（以下「引用発明Ｂ」という。）が記載されている。 「厚さ１００～３００μｍのポリエーテルサルホンからなるフィルム上の少なくとも片面に設けられたアクリル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ７００～２０００Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性の高い厚さ１００～３００Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層し、インジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜全体の厚さが１０００Å以上であることを特徴とする透明導電性フィルム。」 ４ 対比・判断 本願発明と引用発明Ｂとを対比する。 （１） 引用発明Ｂの「透明導電性フィルム」は、「ポリエーテルサルホンからなるフィルム」上に設けられた「アクリル系有機アンカーコート」上に、「非晶性で厚さ７００～２０００Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜」（以下「非晶性透明導電膜」という。）を積層し、さらにその上に「下層よりも結晶性の高い厚さ１００～３００Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜」（以下「結晶性透明導電膜」という。）を積層したものである。 そうすると、「ポリエーテルサルホンからなるフィルム」は、「透明導電性フィルム」の基礎となる材料であるから、透明基材といえる。 また、「膜」を積層したものは「層」ともいい得るから、非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜は、透明導電層といえる。 更に、「透明導電性フィルム」は、「ポリエーテルサルホンからなるフィルム」の上に、非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層しているから、「ポリエーテルサルホンからなるフィルム」と、非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜とを、厚さ方向に順に備えているといえる。 してみれば、引用発明Ｂ「透明導電性フィルム」と本願発明の「透明導電性フィルム」は、「透明基材と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルム」である点で共通する。 （２） 引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜は、いずれも「インジウム・スズ酸化物を主成分」とするものである。 そうすると、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜と本願発明の「透明導電層」は、「前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層」である点で一致する。 （３） 引用発明Ｂは、「インジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜全体の厚さが１０００Å以上」であり、また、上記（２）で示したように、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜は、いずれも「インジウム・スズ酸化物を主成分」とするものである。 そうすると、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜は、厚さが１０００Å以上、つまり、厚さが１００ｎｍ以上である。 してみれば、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜と本願発明の「透明導電層」は、「前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有」する点で一致する。 （４） 引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜は、それぞれ「非晶性」の「透明導電膜」及び「結晶性の高い」「透明導電膜」である。そして、「非晶性」及び「結晶性」は、「非晶質」及び「結晶質」といい得るものであり、また、「膜」は「層」ともいい得るから、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜は、それぞれ非晶質層及び結晶質層といえる。 また、引用発明Ｂは、「ポリエーテルサルホンからなるフィルム」上に、非晶性透明導電膜を積層し、さらにその上に結晶性透明導電膜を積層したものであるから、非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜は、「ポリエーテルサルホンからなるフィルム」側から、非晶性透明導電膜と結晶性透明導電膜とをこの順で有している。 更に、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜の厚さは「７００～２０００Å」、結晶性透明導電膜の厚さは「１００～３００Å」であるから、非晶性透明導電膜が結晶性透明導電膜より厚い。 そうすると、引用発明Ｂの非晶性透明導電膜及び結晶性透明導電膜を積層した透明導電膜と本願発明の「透明導電層」は、「前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有し、前記非晶質層が前記結晶質層より厚い」点で一致する。 （５） 以上によれば、本願発明と引用発明Ｂは、次の一致点において一致し、両者の間に相違点はない。 ［一致点］ 「 透明基材と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムであって、 前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層であり、 前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有し、 前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有し、前記非晶質層が前記結晶質層より厚い、透明導電性フィルム。」 （６） 審判請求人の主張について 審判請求人は、令和６年１０月１０日に提出した意見書において、本願の請求項４に係る発明の透明基材は、ポリエーテルサルホンフィルムを除くものであり、引用文献Ｂに記載された発明とは異なるものである旨主張する。 しかしながら、本願発明は、上記１のとおり、ポリエーテルサルホンフィルムを除くものではなく、上記主張を採用することはできない。 （７） 小括 以上のとおり、本願発明は引用発明Ｂであり、また、本願発明は引用発明Ｂに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 第４ むすび 以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、また、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。