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特許拒絶査定不服審判

2024-001930

半導体構造及び半導体構造を製造する方法

審判番号
2024-001930
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2022-025723外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2024年02月02日
審決日
2025年03月18日
公報発行日
2025年08月29日
結論
請求不成立
審判長/審判官
分類
P18 .537-WZF(H10D)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2022- 25723「半導体構造及び半導体構造を製造する方法」拒絶査定不服審判事件〔令和 5年 5月 1日出願公開、特開2023- 61345〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理由

理 由 本願は、令和 4年 2月22日(パリ条約による優先権主張 2021年10月19日(US)米国)の出願であって、その請求項1~8に係る発明は、令和 6年 2月 2日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1~8に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 これに対して、令和 6年10月30日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。 そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

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2024-001930

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