特許拒絶査定不服審判
2022-008626
半導体クリーニングシステム及び半導体清浄方法
- 審判番号
- 2022-008626
- 法域
- 特許
- 審判種別
- 拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
- 出願番号
- 特願2020-042293外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
- 請求日
- 2022年06月07日
- 審決日
- 2023年04月11日
- 公報発行日
- 2023年05月26日
- 結論
- 原査定取消(特許/登録すべき)
- 当事者
- 【請求人】ディーエムエス ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー
- 【請求人代理人】アインゼル・フェリックス=ラインハルト
- 【請求人代理人】高橋 佳大
- 分類
- P18 .121-WYF(H01L) / P18 .537-WYF(H01L)
- データ出所
- 審決公報(XML)
事件の表示
特願2020- 42293「半導体クリーニングシステム及び半導体清浄方法」拒絶査定不服審判事件〔令和 2年 7月 9日出願公開、特開2020-107903、請求項の数(4)〕について、次のとおり審決する。
結論
結 論
原査定を取り消す。
本願の発明は、特許すべきものとする。
理由
文字
理 由
本願は、2012年(平成24年) 6月23日(パリ条約による優先権主張外国庁受理 2011年 6月23日(US)アメリカ合衆国)を国際出願日とする特願2014-516456号の一部を、平成29年 4月20日に特願2017-083433号として分割出願し、その一部を平成30年 5月 2日に特願2018-088788号として分割出願し、さらにその一部を令和 2年 3月11日に特願2020-042293号として分割出願したものであって、その請求項1~4に係る発明は、令和5年3月2日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1~4に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審にて通知した拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
審決本文(J-PlatPat)
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