2022-002785

特願２０１７－１８９６５「剥離シートおよび剥離シートの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年８月９日出願公開、特開２０１８－１２２５７８、請求項の数（１０）〕について、次のとおり審決する。

結 論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、平成２９年２月３日の出願であって、令和２年９月２５日付けで拒絶理由通知がされ、令和２年１２月７日に意見書及び手続補正書が提出され、令和３年３月３１日付けで拒絶理由通知がされ、令和３年６月２日に意見書が提出され、令和３年１１月２４日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。）がされ、これに対し、令和４年２月２５日に拒絶査定不服審判の請求がされると同時に手続補正がされたものである。 第２ 令和４年２月２５日にされた手続補正についての補正の却下の決定 １ 補正の却下の決定の結論 令和４年２月２５日に提出された手続補正書による手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 ２ 補正の却下の決定の理由 （１）本件補正の内容 本件補正前の特許請求の範囲及び本件補正後の特許請求の範囲は、それぞれ以下のとおりである。 ア 本件補正前の特許請求の範囲 「 【請求項１】 基材と、前記基材の少なくとも一方の面側に設けられた剥離剤層とを備えた剥離シートであって、 前記剥離剤層が、ポリシロキサン骨格を含まないカチオン重合性化合物と、剥離成分と、加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤とを含有する剥離剤組成物から形成されており、 前記剥離成分が、シリコーン系剥離成分、フッ素系剥離成分および長鎖アルキル系剥離成分からなる群から選択される少なくとも１種であり、 前記カチオン発生剤が、下記式（１） 【化１】 ［図：0001396822000001.jpg］ で示される構造（式中、Ｒ１は、ｐ－ヒドロキシフェニル基またはｐ－アセトキシフェニル基であり、Ｒ２は、ベンジル基、ｏ－メチルベンジル基またはメチル基であり、Ｒ３は、メチル基であり、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートおよびテトラキスペンタフルオロフェニルボレートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する ことを特徴とする剥離シート。 【請求項２】 前記カチオン重合性化合物は、エポキシ化合物であることを特徴とする請求項１に記載の剥離シート。 【請求項３】 前記エポキシ化合物は、１分子中に３個以上のエポキシ基を有することを特徴とする請求項２に記載の剥離シート。 【請求項４】 前記エポキシ化合物は、分子量が２００以上、２０００以下であることを特徴とする請求項２または３に記載の剥離シート。 【請求項５】 前記剥離成分は、前記カチオン重合性化合物と反応可能な反応性基を有することを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項６】 前記剥離成分は、反応性ポリオルガノシロキサンであることを特徴とする請求項５に記載の剥離シート。 【請求項７】 前記剥離剤組成物中において、前記カチオン重合性化合物の配合量が、前記剥離成分の配合量および前記カチオン発生剤の配合量のそれぞれよりも多いことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項８】 前記剥離剤層における前記基材とは反対側の面において測定される表面自由エネルギーは、２５ｍＪ／ｍ２以上、３５ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項９】 前記剥離シートは、セラミックグリーンシート製造工程用であることを特徴とする請求項１～８のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項１０】 請求項１～９のいずれか一項に記載の剥離シートの製造方法であって、 前記基材の少なくとも一方の面側に、前記剥離剤組成物からなる塗膜を形成する工程と、 前記塗膜を加熱により硬化し、前記剥離剤層を形成する工程と を備えることを特徴とする剥離シートの製造方法。」 イ 本件補正後の特許請求の範囲（下線部は、補正箇所である。） 「 【請求項１】 基材と、前記基材の少なくとも一方の面側に設けられた剥離剤層とを備えた剥離シートであって、 前記剥離剤層が、ポリシロキサン骨格を含まないカチオン重合性化合物と、剥離成分と、加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤とを含有する剥離剤組成物から形成されており、 前記剥離成分が、シリコーン系剥離成分、フッ素系剥離成分および長鎖アルキル系剥離成分からなる群から選択される少なくとも１種であり、 前記カチオン発生剤が、下記式（１） 【化１】 ［図：0001396822000002.jpg］ で示される構造（式中、Ｒ１は、ｐ－ヒドロキシフェニル基またはｐ－アセトキシフェニル基であり、Ｒ２は、ベンジル基、ｏ－メチルベンジル基またはメチル基であり、Ｒ３は、メチル基であり、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートおよびテトラキスペンタフルオロフェニルボレートから選択されるカウンターアニオンである。）を有し、 前記剥離剤組成物が、有機溶剤に易膨潤性ないし易溶解性の樹脂を含まず、 前記剥離成分が、ガラス転移点が５０℃以上の重合体ブロックＡ、及び以下の一般式 【化２】 ［図：0001396822000003.jpg］ （ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である。） で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサンブロックＢからなるＡ－Ｂ型又は／及び（Ａ－Ｂ）ｎＸ型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）を含まない ことを特徴とする剥離シート。 【請求項２】 前記カチオン重合性化合物は、エポキシ化合物であることを特徴とする請求項１に記載の剥離シート。 【請求項３】 前記エポキシ化合物は、１分子中に３個以上のエポキシ基を有することを特徴とする請求項２に記載の剥離シート。 【請求項４】 前記エポキシ化合物は、分子量が２００以上、２０００以下であることを特徴とする請求項２または３に記載の剥離シート。 【請求項５】 前記剥離成分は、前記カチオン重合性化合物と反応可能な反応性基を有することを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項６】 前記剥離成分は、反応性ポリオルガノシロキサンであることを特徴とする請求項５に記載の剥離シート。 【請求項７】 前記剥離剤組成物中において、前記カチオン重合性化合物の配合量が、前記剥離成分の配合量および前記カチオン発生剤の配合量のそれぞれよりも多いことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項８】 前記剥離剤層における前記基材とは反対側の面において測定される表面自由エネルギーは、２５ｍＪ／ｍ２以上、３５ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項９】 前記剥離シートは、セラミックグリーンシート製造工程用であることを特徴とする請求項１～８のいずれか一項に記載の剥離シート。 【請求項１０】 請求項１～９のいずれか一項に記載の剥離シートの製造方法であって、 前記基材の少なくとも一方の面側に、前記剥離剤組成物からなる塗膜を形成する工程と、 前記塗膜を加熱により硬化し、前記剥離剤層を形成する工程と を備えることを特徴とする剥離シートの製造方法。」 （２）本件補正の適否の判断 ア 本件補正の目的について 本件補正は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明に「前記剥離剤組成物が、有機溶剤に易膨潤性ないし易溶解性の樹脂を含まず、 前記剥離成分が、ガラス転移点が５０℃以上の重合体ブロックＡ、及び以下の一般式 【化２】 ［図：0001396822000004.jpg］ （ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である。） で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサンブロックＢからなるＡ－Ｂ型又は／及び（Ａ－Ｂ）ｎＸ型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）を含まない」という事項を追加する補正を含むことで、剥離剤組成物及び剥離成分を限定するものであり、本件補正前の請求項１に記載された発明と本件補正後の請求項１に記載された発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当する。 そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本件補正発明」という。）が、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。 イ 特許法第３６条第６項第２号に規定する要件の充足について 本件補正発明における「有機溶剤に易膨潤性ないし易溶解性の樹脂」とは、どのような有機溶剤に対して、どの程度の膨潤性及び溶解性を有する樹脂であるのかが明確ではなく、そのため、そのような樹脂を含まない剥離剤組成物とはどのようなものかが明確でない。 また、「有機溶剤に易膨潤性ないし易溶解性の樹脂」について、本願の明細書及び図面の記載並びに技術常識を考慮しても、どのような樹脂かは明確でない。 したがって、本件補正発明は明確であるとはいえないから、本願は特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしておらず、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 （３）補正の却下の決定のむすび 以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するため、他の補正事項ついての検討をするまでもなく、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 原査定の概要 原査定の概要は次のとおりである。 請求項１～１０に係る発明は、引用文献１に記載された発明及び引用文献３～７に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 請求項１～４、７、８、１０に係る発明は、引用文献２に記載された発明及び引用文献６、７に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 ＜引用文献等一覧＞ １．特開平４－３２３２８４号公報 ２．特開平２－２９８５１１号公報 ３．特開２００５－３６０８４号公報 ４．特開２００２－１５５１３６号公報（周知技術を示す文献） ５．特開２０１３－３１９２８号公報（周知技術を示す文献） ６．特開２０１６－１０８５１２号公報 ７．特開２０１４－６２０５７号公報 第４ 本願発明 本件補正は、上記「第２ 補正の却下の決定」のとおり、却下された。 したがって、本願請求項１～１０に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」などという。）は、令和２年１２月７日に提出された手続補正書により補正された請求項１～１０に記載された事項により特定される発明であり、上記「第２ ２ （１）ア」のとおりの発明である。 第５ 引用文献、引用発明等 １ 引用文献１について 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１には、次の事項が記載されている。以下、下線は、便宜のため当審が付した。「・・・」は記載の省略を示す。 「【請求項１】 一般式： ［図：0001396822000005.jpg］ （ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｘはエポキシ基官能性有機基であり、Ｙはポリエーテル・ポリメチレン基であり、Ｍ／（Ｌ＋Ｍ＋Ｎ）が０．０５～９０％であり、Ｎ／（Ｌ＋Ｍ＋Ｎ）が０．５～９０％である。）で表されるポリオルガノシロキサンと、エポキシ系官能基を有する単量体と、有機溶剤に易膨潤性ないし易溶解性の樹脂と、シリコーン系グラフト共重合体と、オニウム塩系硬化触媒を成分とすることを特徴とする硬化型シリコーン系剥離剤。 【請求項２】 請求項１に記載の硬化型シリコーン系剥離剤からなる硬化皮膜を支持基材上に設けてなるセパレータ。」 「【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、接着性と剥離性とのバランスに優れ、かつ油性インキ印字性に優れるシリコーン系の硬化皮膜を形成する剥離剤、及びかかる硬化皮膜を有するセパレータの開発を課題とする。」 「【００１９】本発明の硬化型シリコーン系剥離剤は、１個又は２個以上のエポキシ系官能基を有する単量体を成分とする。その例としては次のものなどがあげられる。 エチレングリコールジグリシジルエーテル： ［図：0001396822000006.jpg］ ・・・」 「【００３１】本発明の硬化型シリコーン系剥離剤は、オニウム塩系硬化触媒を成分とする。そのオニウム塩系硬化触媒としては公知のものを用いてよい。その例としては、次式で表されるジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などがあげられる。 ［図：0001396822000007.jpg］ （ただし、Ａｒはアリール基、Ｒはアルキル基又はアリール基、ＺはＢＦ４、ＰＦ６、ＡｓＦ６、ＳｂＦ６、ＳｂＣｌ６、ＨＳＯ４、ＣｌＯ４の如き非塩基性かつ非求核性の陰イオンである。）」 「【００３８】本発明の硬化型シリコーン系剥離剤を用いての剥離性の付与処理は、従来の硬化型シリコーン系剥離剤と同様に行うことができる。すなわち例えば、処理対象の基材にスクイズコータ等の適宜な装置を用いて塗工量が０．１～１０ｇ／ｍ２程度となるように塗工し、その塗工層を加熱処理、ないし紫外線照射処理等により硬化させて皮膜化させることにより行うことができる。・・・ 【００４０】硬化皮膜を形成するための加熱温度は、基材の耐熱性によって適宜に決定してよいが、一般には６０～２００℃、就中１００～１５０℃とされる。また、紫外線の照射量は剥離剤の硬化特性に基づいて適宜に決定してよい。さらに、加熱処理と紫外線照射処理を併用してもよい。」 上記【００１９】の記載から、エポキシ系官能基を有する単量体として、エチレングリコールジグリシジルエーテルが挙げられていることから、エポキシ系官能基を有する単量体として、ポリシロキサン骨格を含まないものが記載されているといえる。 上記【００３１】から、オニウム塩系硬化触媒をスルホニウム塩とし、該塩のアニオンにＰＦ６、ＳｂＦ６を採用することが記載されているといえる。 上記【００３８】、【００４０】から、硬化型シリコーン系剥離剤を塗工してなる塗工層を加熱処理又は紫外線照射処理により硬化させて皮膜化させることが記載されているといえる。 したがって、上記引用文献１には次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。 ＜引用発明１＞ 「一般式： ［図：0001396822000008.jpg］ （ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｘはエポキシ基官能性有機基であり、Ｙはポリエーテル・ポリメチレン基であり、Ｍ／（Ｌ＋Ｍ＋Ｎ）が０．０５～９０％であり、Ｎ／（Ｌ＋Ｍ＋Ｎ）が０．５～９０％である。）で表されるポリオルガノシロキサンと、エポキシ系官能基を有する単量体と、有機溶剤に易膨潤性ないし易溶解性の樹脂と、シリコーン系グラフト共重合体と、オニウム塩系硬化触媒を成分とする硬化型シリコーン系剥離剤からなる硬化皮膜を支持基材上に設けてなるセパレータであって、 前記エポキシ系官能基を有する単量体は、ポリシロキサン骨格を含まず、 前記オニウム塩系硬化触媒は、Ｒ３Ｓ＋Ｚ－のスルホニウム塩であり、Ｒはアルキル基又はアリール基、ＺはＰＦ６、ＳｂＦ６の陰イオンであり、 前記硬化型シリコーン系剥離剤を塗工してなる塗工層を加熱処理又は紫外線照射処理により硬化させて皮膜化させる、セパレータ。」 ２ 引用文献２について 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２には、次の事項が記載されている。 「２．特許請求の範囲 １．ガラス転移点が５０℃以上の重合体ブロックＡ、及び一般式：－［Ｓｉ（Ｒ２）－Ｏ］－（ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である。）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサンブロックＢからなるＡ－Ｂ型又は／及び（Ａ－Ｂ）ｎＸ型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）と、エポキシ系官能基を有する単量体と、オニウム塩系硬化触媒とからなることを特徴とするシリコーン系剥離剤。 ２．用いる（Ａ－Ｂ）ｎＸ型ブロック共重合体におけるカップリング数ｎが２～６である請求項１に記載のシリコーン系剥離剤。 ３．支持基材の片面に請求項１に記載のシリコーン系剥離剤からなる皮膜を有し、他面に粘着層を有することを特徴とする粘着部材。 ４．支持基材の片面又は両面に請求項１に記載のシリコーン系剥離剤からなる皮膜を有することを特徴とするセパレータ。」 （第２ページ右上欄第１５～１７行） 「本発明は、上記した硬化性や無溶剤塗工性等を満足させつつ、さらに油性インキ印字性に優れるものの開発を課題とする。」 （第２ページ右下欄第２～１１行） 「上記のブロック共重合体は、重合体ブロックＡに基づいてエポキシ系官能基を有する単量体との相溶性、被処理体に対する密着力、油性インキのヌレ性に優れる。また、ポリオルガノシロキサンブロックＢに基づいて剥離性能に優れる。一方、エポキシ系官能基を有する単量体は、オニウム塩系硬化触媒による紫外線硬化性ないし加熱硬化性を示し、この架橋剤としてのほか希釈剤として機能し、無溶剤塗工性を高めると共に、油性インキのヌレ性にも寄与する。」 （第３ページ左下欄第２０行～第４ページ左上欄第２行） 「本発明において用いられるエポキシ系官能基を有する単量体は、１個又は２個以上のエポキシ系官能基を有する化合物である。その例としては、 エチレングリコールジグリシジルエーテル： ［図：0001396822000009.jpg］ ・・・ などがあげられる。」 （第４ページ左上欄第１１～１９行） 「本発明においてオニウム塩系硬化触媒としては公知のものを用いうる。その例としては、 式 ＡｒＮ２＋Ｚ－ 、 Ｒ３Ｓ＋Ｚ－、 Ｒ２Ｉ＋Ｚ－ （ただし、Ａｒはアリール基、Ｒはアルキル基又はアリール基、Ｚ－はＢＦ４－ 、ＰＦ６－、ＡｓＦ６－ 、ＳｂＦ６－、ＳｂＣｌ６－ 、ＨＳＯ４－ 、ＣｌＯ４－の如き非塩基性かつ非求核性の陰イオンである。）で表されるようなジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などがあげられる。」 （第６ページ左上欄第４～８行） 「実施例２ スルホニウム塩系硬化触媒に熱反応型のものを用いて実施例１に準じ無溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、その塗工層を１００℃で１０分間加熱してセパレータを得た。」 上記第３ページ左下欄第２０行～第４ページ左上欄第２行の記載から、エポキシ系官能基を有する単量体として、エチレングリコールジグリシジルエーテルが挙げられていることから、エポキシ系官能基を有する単量体として、ポリシロキサン骨格を含まないものが記載されているといえる。 上記第４ページ左上欄第１１～１９行の記載から、オニウム塩系硬化触媒をスルホニウム塩とし、該塩のアニオンにＰＦ６－、ＳｂＦ６－を採用することが記載されているといえる。 上記第６ページ左上欄第４～８行の記載から、シリコーン系剥離剤のオニウム塩系硬化触媒に熱反応型のスルホニウム塩系硬化触媒をもちいることが記載されているといえる。 したがって、上記引用文献２には次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。 ＜引用発明２＞ 「ガラス転移点が５０℃以上の重合体ブロックＡ、及び一般式：－［Ｓｉ（Ｒ２）－Ｏ］－（ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である。）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサンブロックＢからなるＡ－Ｂ型又は／及び（Ａ－Ｂ）ｎＸ型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）と、エポキシ系官能基を有する単量体と、オニウム塩系硬化触媒とからなるシリコーン系剥離剤と、上記シリコーン系剥離剤からなる皮膜を片面又は両面に有する支持基材とからなるセパレータであって、 前記エポキシ系官能基を有する単量体は、ポリシロキサン骨格を含まず、 前記オニウム塩系硬化触媒は、熱反応型のＲ３Ｓ＋Ｚ－のスルホニウム塩であり、Ｒはアルキル基又はアリール基、Ｚ－はＰＦ６－、ＳｂＦ６－である、セパレータ。」 ３ 引用文献６について 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献６には、次の事項が記載されている。 「【請求項１】 ベンジルスルホニウム塩（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）を含有する有機ＥＬ面封止用樹脂組成物。 【請求項２】 重合性化合物（Ｂ）が、芳香族基を有するエポキシ樹脂又はオキセタン樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ面封止用樹脂組成物。 【請求項３】 ベンジルスルホニウム塩（Ａ）が、下記式（１）である請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬ面封止用樹脂組成物。 【化１】 ［図：0001396822000010.jpg］ （上記式（１）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基又はアラルキル基を表し、Ｒ３は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アラルキルオキシカルボニルオキシ基、アリールチオカルボニル基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環式炭化水素基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子を表し、ｎは０～５の整数である。Ｙは無機アニオン又は有機アニオンを表す。）」 「【発明が解決しようとする課題】 【０００８】 本発明の目的は、有機ＥＬ素子の封止材に適した樹脂組成物と、可視光透過率、耐久性、硬化性に優れ、絶縁性にも優れる硬化物を提供するものである。」 「【００１３】 上記式中、Ｒ１又はＲ２のうち、アルキル基としては、炭素数１～１８の直鎖アルキル基又は炭素数１～１８の分岐鎖を有するアルキル基、炭素数１～１８のシクロアルキル基等が挙げられる。また、炭素数１～６の直鎖アルキル基又は分岐鎖を有するアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖アルキル基又は分岐鎖を有するアルキル基が特に好ましい。 具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec－ブチル基、tert－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert－ペンチル基、イソヘキシル基、イソオクタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基４－デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。 中でも、メチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。 【００１４】 上記式中、Ｒ１又はＲ２のうち、アラルキル基としては炭素数６～１０のアリール基で置換されている低級アルキル基（炭素数１～６のアルキル基）が挙げられる。尚、アリール基は置換基を有していても良く、置換基の例としては炭素数１～６のアルキル基、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子が挙げられる。 具体的には、ベンジル、２－メチルベンジル、１－ナフチルメチル、２－ナフチルメチル等が挙げられる。」 「【００２１】 前記式中Ｙ－としては、有機アニオン又は無機アニオンであれば特に限定されない。具体例としては、ＳｂＦ６，ＰＦ６，・・・が挙げられる。・・・ 【００２２】 中でも、下記式（４）又は（５）で表されるアニオンが好ましい。下記式（４）又は（５）においては、フッ素が解離し難い構造を備えている為に、フッ素のイオン化が防止され、有機ＥＬ装置の腐食がなされ難く、耐久性に優れる樹脂組成物を得ることが可能となる。 【化１１】 ［図：0001396822000011.jpg］ （上記式中、ｎは１～５の整数を表す。） 【化１２】 ［図：0001396822000012.jpg］ （上記式中、ｎは０～５の整数を表す。） ここで、式（４）中、ｎは３であることが好ましい。式（５）中、ｎは５であることが好ましい。」 「【００２３】 本発明においては、ベンジルホスホニウム塩を用いることで、環境汚染性も低く、また電気伝導度も低いことから絶縁性にも優れる硬化性樹脂組成物を得ることが可能となる。 ここで、式（１）で表されるベンジルスルホニウム塩の市場の製品としては、三新化学社製：ＳＩ－Ｂ３Ａ、ＳＩ－Ｂ３、ＳＩ－Ｂ２Ａが挙げられる。 【００２４】 ベンジルスルホニウム塩（Ａ）を含有することを特徴とする式（１）の熱カチオン開始剤のどれを用いるかは、例えば透明性、硬化速度、作業条件といった得られる透明樹脂組成物に要求される特性によって適宜選択される。ベンジルスルホニウム塩（Ａ）を含有することを特徴とする式（１）の熱カチオン開始剤の含有量は、重合性化合物（Ｂ）を１００質量部に対して０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．１～５質量部である。 【００２５】 本発明の樹脂組成物に含有される重合性化合物（Ｂ）としては、好適にはエポキシ樹脂またはオキセタン樹脂を使用することができる。・・・」 上記記載から引用文献６には、以下の記載事項（以下「引用文献６の記載事項」という。）が記載されているといえる。 （引用文献６の記載事項） 「有機ＥＬ面封止用樹脂組成物として、重合性化合物としてエポキシ樹脂を、及び熱カチオン開始剤としてベンジルスルホニウム塩である三新化学社製のＳＩ－Ｂ２Ａなどを使用すること。」 ４ 引用文献７について 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献７には、次の事項が記載されている。 【請求項１】 化２で表されるスルホニウム化合物をジシクロヘキシルアミン存在下に無水酢酸でエステル化し、化１で表されるスルホニウム化合物を製造する反応において、反応溶媒が酢酸エチルおよび／またはアセトニトリルであり、かつ、先にスルホニウム化合物の２～４モル量の無水酢酸を投入し、その後スルホニウム化合物の０．９～１．０５モル量のジシクロヘキシルアミンを反応させてなる化１で表されるアセチル化スルホニウム化合物の製造方法。 （化１、化２に共通してＲ1は水素，Ｃ1～Ｃ4のアルキル基のいずれかを、Ｒ2はＣ1～Ｃ4のアルキル基，Ｃ1～Ｃ4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基，２－ナフチルメチル基のいずれかを、Ｒ3はＣ1～Ｃ4のアルキル基を、Ｘはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート，ヘキサフルオロアンチモナート，ヘキサフルオロホスファートのいずれかを示す。） 【化１】 ［図：0001396822000013.jpg］ 【化２】 ［図：0001396822000014.jpg］ 「【０００１】 この発明は、アセチル化スルホニウム化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、熱硬化組成物の硬化開始剤として有用な４－アセトキシフェニルスルホニウム化合物の製造方法であり、特にエポキシ樹脂やスチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物の重合硬化開始剤として有効である高純度の４－アセトキシフェニルスルホニウム化合物の製造方法に関する。」 「【０００７】 ところが、先行技術文献に記載の方法では生成物の純度に不満があった。つまり技術分野に記載のとおり、重合開始剤は不純物によって重合速度に影響があるため、高純度品が要求されており、具体的には純度９９％以上であることが要求されている。本発明の課題は、従来の問題点である不純物の低減を目的とし、不純物の少ない重合開始剤を簡易な方法で得ることのできる製造方法を提示することにある。」 上記記載から引用文献７には、以下の記載事項（以下「引用文献７の記載事項」という。）が記載されているといえる。 （引用文献７の記載事項） 「エポキシ樹脂やスチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物の重合硬化開始剤として有効である高純度の４－アセトキシフェニルスルホニウム化合物として、以下の化１で表されるスルホニウム化合物を製造すること。（Ｒ1は水素，Ｃ1～Ｃ4のアルキル基のいずれかを、Ｒ2はＣ1～Ｃ4のアルキル基，Ｃ1～Ｃ4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基，２－ナフチルメチル基のいずれかを、Ｒ3はＣ1～Ｃ4のアルキル基を、Ｘはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート，ヘキサフルオロアンチモナート，ヘキサフルオロホスファートのいずれかを示す。） 【化１】 ［図：0001396822000015.jpg］ 第６ 対比、判断 １ 本願発明１について （１）引用発明１を主引例とした場合 ア 対比 本願発明１と引用発明１を対比すると、次のとおりである。 引用発明１の「支持基材」は、本願発明１の「基材」に相当し、以下同様に、「硬化皮膜」は「剥離剤層」に、「セパレータ」は「剥離シート」に、「ポリシロキサン骨格を含ま」ない「エポキシ系官能基を有する単量体」は「ポリシロキサン骨格を含まないカチオン重合性化合物」に、「ポリオルガノシロキサン」は「シリコーン系剥離成分」である「剥離成分」に、「硬化型シリコーン系剥離剤」は「剥離剤組成物」にそれぞれ相当する。 引用発明１の「前記オニウム塩系硬化触媒は、Ｒ３Ｓ＋Ｚ－のスルホニウム塩であり、Ｒはアルキル基又はアリール基、ＺはＰＦ６、ＳｂＦ６の陰イオンであり、前記硬化型シリコーン系剥離剤を塗工してなる塗工層を加熱処理又は紫外線照射処理により硬化させて皮膜化させる」「オニウム塩系硬化触媒」は、本願発明１の「加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤」でありかつ「前記カチオン発生剤が、下記式（１）で示される構造（式中、Ｒ１は、ｐ－ヒドロキシフェニル基またはｐ－アセトキシフェニル基であり、Ｒ２は、ベンジル基、ｏ－メチルベンジル基またはメチル基であり、Ｒ３は、メチル基であり、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートおよびテトラキスペンタフルオロフェニルボレートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する」カチオン発生剤とは、「カチオンを放出するカチオン発生剤」でありかつ「下記式（１）で示される構造（式中、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する」カチオン発生剤である限りにおいて一致する。 【化１】 ［図：0001396822000016.jpg］ したがって、本願発明１と引用発明１とは、以下の一致点１で一致し、相違点１－１、１－２で相違する。 一致点１ 「基材と、前記基材の少なくとも一方の面側に設けられた剥離剤層とを備えた剥離シートであって、 前記剥離剤層が、ポリシロキサン骨格を含まないカチオン重合性化合物と、剥離成分と、カチオンを放出するカチオン発生剤とを含有する剥離剤組成物から形成されており、 前記剥離成分が、シリコーン系剥離成分であり、 前記カチオン発生剤が、下記式（１） 【化１】 ［図：0001396822000017.jpg］ で示される構造（式中、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する 剥離シート。」 相違点１－１ カチオン発生剤について、本願発明１は、「加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤」であるのに対して、引用発明１は、オニウム塩系硬化触媒が加熱によってカチオンを放出するものかどうかが特定されていない点。 相違点１－２ カチオン発生剤について、本願発明１は、下記式（１）において、「Ｒ１は、ｐ－ヒドロキシフェニル基またはｐ－アセトキシフェニル基であり、Ｒ２は、ベンジル基、ｏ－メチルベンジル基またはメチル基であり、Ｒ３は、メチル基であり、」であるのに対して、引用発明１は、オニウム塩系硬化触媒のＲはアルキル基又はアリール基である点。 ［図：0001396822000018.jpg］ イ 判断 事案に鑑み、まず相違点１－２について検討する。 本願発明１は、相違点１－２に係る構成を採用することにより、「上記式（１）で表される構造を有する化合物を使用することで、加熱の有無によってカチオン重合を制御することが容易となり、その結果、所望の程度に硬化した剥離剤層を容易に形成することが可能となる。」（本願の明細書【００５０】）という効果を奏するものである。 引用発明１における、オニウム塩系硬化触媒のＲはアルキル基又はアリール基であり、引用文献１には、本願発明１の相違点１－２に係る構成について記載も示唆もされていない。 引用文献６には、上記第５の３に示した引用文献６の記載事項が記載されている。 引用発明１の技術分野は、硬化型シリコーン系剥離剤、及びかかる硬化皮膜を有するセパレータに関するものであり、その技術課題は「接着性と剥離性とのバランスに優れ、かつ油性インキ印字性に優れるシリコーン系の硬化皮膜を形成する剥離剤、及びかかる硬化皮膜を有するセパレータの開発」（引用文献１の【０００４】）をすることであり、引用文献６に記載された事項の技術分野は、有機ＥＬ素子の封止材に関するものであり、その技術課題は、「有機ＥＬ素子の封止材に適した樹脂組成物と、可視光透過率、耐久性、硬化性に優れ、絶縁性にも優れる硬化物を提供する」（引用文献６の【０００８】）ことである。 したがって、引用発明１と引用文献６に記載された事項とは、技術分野が異なり、技術課題も異なるから、引用発明１に、引用文献６に記載された事項を適用する動機付けがない。 引用文献７には、上記第５の４に示した引用文献７の記載事項が記載されている。 引用発明１の技術分野と技術課題は上記の通りであり、引用文献７に記載された事項の技術分野は、スルホニウム化合物の製造に関するものであり、その技術課題は、「従来の問題点である不純物の低減を目的とし、不純物の少ない重合開始剤を簡易な方法で得ることのできる製造方法を提示すること」（引用文献７の【０００７】）である。 したがって、引用発明１と引用文献７に記載された事項とは、技術分野が異なり、技術課題も異なるから、引用発明１に、引用文献７に記載された事項を適用する動機付けがない。 また、他に動機付けを記載する引用文献はない。 以上を踏まえると、引用発明１において、上記相違点１－２に係る本願発明１の構成を採用することは、当業者が容易に想到し得たことではない。 ウ まとめ したがって、相違点１－１を検討するまでもなく、本願発明１は、引用発明１及び引用文献６、７に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （２）引用発明２を主引例とした場合 ア 対比 本願発明１と引用発明２を対比すると、次のとおりである。 引用発明２の「支持基材」は、本願発明１の「基材」に相当し、以下同様に、「皮膜」は「剥離剤層」に、「セパレータ」は「剥離シート」に、「ポリシロキサン骨格を含ま」ない「エポキシ系官能基を有する単量体」は「ポリシロキサン骨格を含まないカチオン重合性化合物」に、「ガラス転移点が５０℃以上の重合体ブロックＡ、及び一般式：－［Ｓｉ（Ｒ２）－Ｏ］－（ただし、Ｒは炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である。）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサンブロックＢからなるＡ－Ｂ型又は／及び（Ａ－Ｂ）ｎＸ型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）」は「シリコーン系剥離成分」である「剥離成分」に、「シリコーン系剥離剤」は「剥離剤組成物」にそれぞれ相当する。 引用発明２の「前記オニウム塩系硬化触媒は、熱反応型のＲ３Ｓ＋Ｚ－のスルホニウム塩であり、Ｒはアルキル基又はアリール基、Ｚ－はＰＦ６－、ＳｂＦ６－である」「オニウム塩系硬化触媒」は、本願発明１の「加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤」でありかつ「前記カチオン発生剤が、下記式（１）で示される構造（式中、Ｒ１は、ｐ－ヒドロキシフェニル基またはｐ－アセトキシフェニル基であり、Ｒ２は、ベンジル基、ｏ－メチルベンジル基またはメチル基であり、Ｒ３は、メチル基であり、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートおよびテトラキスペンタフルオロフェニルボレートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する」カチオン発生剤と、「加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤」でありかつ「下記式（１）で示される構造（式中、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する」カチオン発生剤である限りにおいて一致する。 【化１】 ［図：0001396822000019.jpg］ したがって、本願発明１と引用発明２とは、以下の一致点２で一致し、相違点２で相違する。 一致点２ 「基材と、前記基材の少なくとも一方の面側に設けられた剥離剤層とを備えた剥離シートであって、 前記剥離剤層が、ポリシロキサン骨格を含まないカチオン重合性化合物と、剥離成分と、加熱によりカチオンを放出するカチオン発生剤とを含有する剥離剤組成物から形成されており、 前記剥離成分が、シリコーン系剥離成分であり、 前記カチオン発生剤が、下記式（１） 【化１】 ［図：0001396822000020.jpg］ で示される構造（式中、Ｂ－は、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートから選択されるカウンターアニオンである。）を有する ことを特徴とする剥離シート。」 相違点２ カチオン発生剤について、本願発明１は、下記式（１）において、「Ｒ１は、ｐ－ヒドロキシフェニル基またはｐ－アセトキシフェニル基であり、Ｒ２は、ベンジル基、ｏ－メチルベンジル基またはメチル基であり、Ｒ３は、メチル基であり、」であるのに対して、引用発明２は、オニウム塩系硬化触媒のＲはアルキル基又はアリール基である点。 ［図：0001396822000021.jpg］ イ 判断 相違点２について検討する。 本願発明１は、相違点２に係る構成を採用することにより、「上記式（１）で表される構造を有する化合物を使用することで、加熱の有無によってカチオン重合を制御することが容易となり、その結果、所望の程度に硬化した剥離剤層を容易に形成することが可能となる。」（本願特許明細書【００５０】）という効果を奏するものである。 引用発明２における、オニウム塩系硬化触媒のＲはアルキル基又はアリール基であり、引用文献２には、本願発明１の相違点２に係る構成について記載も示唆もされていない。 引用文献６には、上記第５の３に示した引用文献６の記載事項が記載されている。 引用発明２の技術分野は、シリコーン系剥離剤、及びかかる皮膜を有するセパレータに関するものであり、その技術課題は「硬化性や無溶剤塗工性を満足させつつ、さらに油性インキ印字性に優れるものの開発」（引用文献２の第２ページ右上欄第１５～１７行）であり、引用文献６に記載された事項の技術分野は、有機ＥＬ素子の封止材に関するものであり、その技術課題は、「有機ＥＬ素子の封止材に適した樹脂組成物と、可視光透過率、耐久性、硬化性に優れ、絶縁性にも優れる硬化物を提供する」（引用文献６の【０００８】）ことである。 したがって、引用発明２と引用文献６に記載された事項とは、技術分野が異なり、技術課題も異なるから、引用発明２に、引用文献６に記載された事項を適用する動機付けがない。 引用文献７には、上記第５の４に示した引用文献７の記載事項が記載されている。 引用発明２の技術分野と技術課題は上記の通りであり、引用文献７に記載された事項の技術分野は、スルホニウム化合物の製造に関するものであり、その技術課題は、「従来の問題点である不純物の低減を目的とし、不純物の少ない重合開始剤を簡易な方法で得ることのできる製造方法を提示すること」（引用文献７の【０００７】）である。 したがって、引用発明２と引用文献７に記載された事項とは、技術分野が異なり、技術課題も異なるから、引用発明２に、引用文献７に記載された事項を適用する動機付けがない。 また他に動機付けを記載する引用文献はない。 以上を踏まえると、引用発明２において、上記相違点２に係る本願発明１の構成を採用することは、当業者が容易に想到し得たことではない。 ウ まとめ したがって、本願発明１は、引用発明２及び引用文献６、７に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 ２ 本願発明２～１０について 本願発明２～１０は、本願発明１の発明特定事項の全てを含むものであるから、本願発明１と同じ理由により、本願発明２～１０は、引用発明１及び引用文献６、７に記載された事項、又は、引用発明２及び引用文献６、７に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 第７ むすび 以上のとおり、本願発明１～１０は、引用発明１及び引用文献６、７に記載された事項、又は、引用発明２及び引用文献６、７に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 したがって、原査定の理由によって、本願を拒絶することはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。