2021-000192

第１ 事案の概要

１ 手続等の経緯

特願２０１６－５２６２５１号（以下「もとの特許出願」という。）は、２０１６年（平成２８年）４月１５日（先の出願に基づく優先権主張 平成２７年４月１７日）を国際出願日とする出願である。

特願２０１７－１５８４７２号（以下「本件出願」という。）は、もとの特許出願の一部を平成２９年８月２１日に新たな特許出願としたものであって、その後の手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。

２ 本願発明

本件出願の請求項１に係る発明は、令和２年３月４日にした手続補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定されるとおりの、次のものである（以下「本願発明」という。）。

「硬化性樹脂と、重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有し、インクジェット法による塗布に用いられるインクジェット塗布用電子デバイス用封止剤であって、

前記硬化性樹脂は、下記式（１）で表されるシリコーン化合物を含有する

ことを特徴とするインクジェット塗布用電子デバイス用封止剤。

【化１】

［図：0001381451000001.jpg］

式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ１、Ｘ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、又は、下記式（２－４）で表される基を表し、Ｘ３は、下記式（２－４）で表される基を表す。ｍは、０～５の整数であり、ｎは、０であり、Ｘ１及びＸ２のうち少なくとも一方は、下記式（２－４）で表される基を表す。

【化２】

［図：0001381451000002.jpg］

式（２－４）中、Ｒ２は、結合手又は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ５は、水素又はメチル基を表す。」

３ 原査定の理由

原査定の拒絶の理由は、本願発明は、先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物に記載された発明に基づいて、先の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、という理由を含むものである。

（引用文献１及び引用文献２は、それぞれ主引例である。引用文献３及び４は、特定のシリコーン化合物の構造を示すために使用された文献である。）

第２ 当合議体の判断

１ 引用文献１の記載及び引用発明１

(1) 引用文献１の記載

原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開２０１４－１５２２７２号公報）は、先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物であるところ、そこには、以下の記載がある。

なお、下線は、当合議体が引用発明の認定及び判断等で活用した箇所を示す。

ア 「【技術分野】

【０００１】

本発明は、水蒸気や酸素等の気体のバリア性、及び、耐衝撃性に優れるバリア膜を形成できる硬化性樹脂組成物に関する。また、本発明は、該硬化性樹脂組成物を用いてなるバリア膜の形成方法及びデバイスの封止方法に関する。

【背景技術】

続きを表示（全87行）

【０００２】

近年、有機エレクトロルミネッセンス素子や有機薄膜太陽電池素子等の有機薄膜素子を用いた有機光デバイスの研究が進められている。有機薄膜素子は真空蒸着や溶液塗布等により簡便に作製できるため、生産性にも優れる。

【０００３】

有機エレクトロルミネッセンス素子は、互いに対向する一対の電極間に有機発光材料層が挟持された薄膜構造体を有する。この有機発光材料層に一方の電極から電子が注入されるとともに他方の電極から正孔が注入されることにより有機発光材料層内で電子と正孔とが結合して自己発光を行う。バックライトを必要とする液晶表示素子等と比較して視認性がよく、より薄型化が可能であり、かつ、直流低電圧駆動が可能であるという利点を有することから、次世代ディスプレイとして着目されている。

・・・中略・・・

【発明が解決しようとする課題】

【０００８】

本発明は、硬化後にレーザー光を照射することにより、水蒸気や酸素等の気体のバリア性、及び、耐衝撃性に優れるバリア膜を形成できる硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、該硬化性樹脂組成物を用いてなるバリア膜の形成方法及びデバイスの封止方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【０００９】

本発明は、分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂と、重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有し、硬化後の硬化物は、レーザー光を照射されることにより表面にＳｉＯ２層からなるバリア膜を形成する硬化性樹脂組成物である。

以下に本発明を詳述する。

【００１０】

本発明者は、特許文献１に開示されているようなガラスフリットに代えて、硬化性樹脂を用いて被保護物を封止することにより、封止部の耐衝撃性を向上させることを検討した。その結果、硬化性樹脂を用いることにより封止部の耐衝撃性を向上させることはできたものの、水蒸気や酸素等の気体のバリア性は充分に発揮されなかった。

そこで本発明者は、硬化性樹脂として、分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂を用いることにより、該硬化性樹脂と重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物が、硬化後の硬化物にレーザー光を照射することにより表面にＳｉＯ２層を形成し、該ＳｉＯ２層は、水蒸気や酸素等の気体のバリア性、及び、耐衝撃性に優れるバリア膜となることを見出し、本発明を完成させるに至った。

本発明の硬化性樹脂組成物で被保護物を封止した際、レーザー光によってＳｉＯ２変性されなかった部分は、応力緩和性に優れるものとなる。また、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物の表面にレーザー光を照射して形成されるバリア膜においても、該バリア膜はレーザー光によってシロキサン結合の側鎖が開裂してＳｉＯ２変性したものであるため、形成時に熱による応力が生じ難く、耐衝撃性に優れるものとなる。

【００１１】

本発明の硬化性樹脂組成物は、分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂を含有する。分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂は、硬化後にレーザー光を照射することにより、レーザー光を照射した部分（表面）のシロキサン結合の側鎖が開裂し、有機基が脱離してＳｉＯ２層を形成する。このようにして表面に形成されたＳｉＯ２層は、水蒸気や酸素等の気体のバリア性に優れるバリア膜となる。

【００１２】

上記分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂としては、例えば、下記式（１）で表される化合物等が挙げられる。

【００１３】

［図：0001381451000003.jpg］

【００１４】

式（１）中、ｍは、１～１００の整数であり、ｎは、０～１００の整数であり、各Ｒ１は、それぞれ独立に、Ｈ、ＣＨ３、又は、Ｃ２Ｈ５である。Ｒ２、Ｒ３、及び、Ｒ４の少なくとも１つは重合性基を含む基であり、重合性基を含む基以外のＲ２、Ｒ３、及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、Ｈ、ＣＨ３、又は、Ｃ２Ｈ５である。

【００１５】

上記重合性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。なお、本明細書において、上記「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。

上記式（１）中、Ｒ２、Ｒ３、及び、Ｒ４で表される重合性基を含む基としては、例えば、下記式（２－１）～（２－５）で表される基が好ましい。

【００１６】

【化２】

・・・中略・・・

［図：0001381451000004.jpg］

【００１７】

式（２－１）～（２－５）中、Ｒ５は、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１～６のアルキレン基又はアルキレンエーテル結合を表す。式（２－３）中、Ｒ６は、水素、又は、直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１～６のアルキル基を表す。式（２－４）中、Ｒ７は、水素、又は、メチル基を表す。式（２－５）中、Ｒ８は、水素、又は、メチル基を表す。

【００１８】

上記分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂の官能基当量の好ましい下限は１００、好ましい上限は２００００である。上記分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂の官能基当量がこの範囲であることにより、得られる硬化性樹脂組成物が、硬化時に適当な架橋密度となり、接着力が強くなる。上記分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂の官能基当量のより好ましい下限は３００、より好ましい上限は１５０００である。

【００１９】

本発明の硬化性樹脂組成物は、重合開始剤及び／又は熱硬化剤を含有する。

上記重合開始剤及び熱硬化剤は、上記分子内にシロキサン結合及び重合性基を有する硬化性樹脂の重合性基の種類、及び、得られる硬化性樹脂組成物の用途に応じて適宜選択される。

例えば、上記重合性基が、エポキシ基、オキセタニル基、及び、ビニルエーテル基からなる群より選択される少なくとも１種である場合、上記熱硬化剤、及び／又は、上記重合開始剤として、カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。また、上記重合性基が、（メタ）アクリロイル基である場合、上記重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。

【００２０】

上記カチオン重合開始剤としては、加熱によりプロトン酸又はルイス酸を発生する熱カチオン重合開始剤、光照射によりプロトン酸又はルイス酸を発生する光カチオン重合開始剤等が挙げられる。

・・・中略・・・

【００２５】

上記熱硬化剤としては、例えば、ヒドラジド化合物、イミダゾール誘導体、酸無水物、ジシアンジアミド、グアニジン誘導体、変性脂肪族ポリアミン、各種アミンとエポキシ樹脂との付加生成物等が挙げられる。これらの熱硬化剤は、単独で用いられてもよいし、２種類以上が組み合わせて用いられてもよい。

・・・中略・・・

【００２９】

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系光化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、アゾ系化合物、ジアゾ系化合物、チオキサントン系化合物等が挙げられる。

上記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｐ－アミノベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ジメチルアミノベンゾフェノン、オルソベンゾイル安息香酸メチル、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド等が挙げられる。

上記アセトフェノン系化合物としては、例えば、アセトフェノン、ベンズアルデヒド、ベンジルジメチルケタール、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－（メチルチオ）フェニル）－２－モルホリノプロパン－１、オリゴ（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－（１－メチルビニル）フェニル）プロパノン）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。

上記ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。

上記アゾ系化合物としては、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。

上記ジアゾ系化合物としては、例えば、ジアゾアミノベンゼン等が挙げられる。

上記チオキサントン系化合物としては、例えば、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン等が挙げられる。

また、その他の上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、４，４’－ジアジドスチルベン－ｐ－フェニレンビスアジド、アシルホスフィンオキサイド、ジフェニルエタンジオン、カンファーキノン、アントラキノン、ミヒラーケトン等が挙げられる。なかでも、溶解性が高いことから、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（市販されているものとしては、例えば、ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦ社製））が好ましい。これらの光ラジカル重合開始剤は単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わせて用いられてもよい。

・・・中略・・・

【００３１】

本発明の硬化性樹脂組成物は、外周シール剤等の用途に用いる場合、本発明の目的を阻害しない範囲で無機充填剤を含有してもよい。

・・・中略・・・

【００３４】

本発明の硬化性樹脂組成物の粘度は特に限定されないが、コーンローター式粘度計を用いて、２５℃、２．５ｒｐｍの条件で測定した粘度の好ましい下限は１０ｍＰａ・ｓ、好ましい上限は１００万ｍＰａ・ｓである。粘度がこの範囲である本発明の硬化性樹脂組成物は、塗工性に優れるものとなる。上記重合性組成物の粘度のより好ましい下限は１００ｍＰａ・ｓ、より好ましい上限は５０万ｍＰａ・ｓである。

【００３５】

本発明の硬化性樹脂組成物の硬化後の硬化物は、レーザー光を照射されることにより表面にＳｉＯ２層からなるバリア膜を形成する。

本発明の硬化性樹脂組成物を光照射及び／又は加熱により硬化させ、硬化物を得る工程、及び、上記硬化物の表面にレーザー光を照射し、上記硬化物の表面をＳｉＯ２変性させる工程を有するバリア膜の形成方法もまた、本発明の１つである。

【００３６】

上記硬化物を得る工程において、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させる方法としては、用いた重合開始剤や熱硬化剤の種類に応じて、加熱する方法や光照射する方法が適宜選択される。

・・・中略・・・

【００３９】

本発明の硬化性樹脂組成物を光照射により硬化させる際の光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマレーザー、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置、ＬＥＤランプ等が挙げられる。これらの光源は、単独で用いられてもよく、２種以上が組み合わせて用いられてもよい。これらの光源は、上記光カチオン重合開始剤や上記光ラジカル重合開始剤の吸収波長に合わせて適宜選択される。

・・・中略・・・

【００４５】

本発明の硬化性樹脂組成物を、２枚の防湿性基材の少なくとも一方の周辺又は全面に塗布する工程、上記２枚の防湿性基材を、塗布した上記硬化性樹脂組成物及び被保護物を介して貼り合わせる工程、上記硬化性樹脂組成物を光照射及び／又は加熱により硬化させ、硬化物を得る工程、及び、上記硬化物の表面にレーザー光を照射し、上記硬化物の表面をＳｉＯ２変性してバリア膜を得る工程を有するデバイスの封止方法もまた、本発明の１つである。

また、本発明の硬化性樹脂組成物を、被保護物の周囲に塗布する工程、塗布した上記硬化性樹脂組成物を光照射及び／又は加熱により硬化させ、硬化物を得る工程、及び、上記硬化物の表面にレーザー光を照射し、上記硬化物の表面をＳｉＯ２変性してバリア膜を得る工程を有するデバイスの封止方法もまた、本発明の１つである。

以下、これらのデバイスの封止方法を併せて「本発明の封止方法」ともいう。

【００４６】

本発明の封止方法において、本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、スリットコート等の方法を用いることができる。

・・・中略・・・

【００５０】

本発明の封止方法において、本発明の硬化性樹脂組成物によって保護される上記被保護物としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子や有機薄膜太陽電池素子等の有機薄膜素子、発光ダイオード、半導体、真空管等が挙げられる。

【００５１】

本発明の封止方法において、上記レーザー光は、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物の表面、即ち、外気と触れる部分に照射される。そのため、外気と触れる部分にＳｉＯ２層からなるバリア膜が形成され、本発明の硬化性樹脂組成物によって封止された被保護物を、水蒸気や酸素等の気体から充分に保護することができる。

【発明の効果】

【００５２】

本発明によれば、硬化後にレーザー光を照射することにより、水蒸気や酸素等の気体のバリア性、及び、耐衝撃性に優れるバリア膜を形成できる硬化性樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、該硬化性樹脂組成物を用いてなるバリア膜の形成方法及びデバイスの封止方法を提供することができる。」

イ 「【発明を実施するための形態】

【００５３】

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。

【００５４】

続きを表示（全42行）

（実施例１）

（硬化性樹脂組成物の作製）

分子内にシロキサン結合及び重合性基としてエポキシ基を有する硬化性樹脂としてエポキシ系変性シリコーン樹脂（信越シリコーン社製、「ＫＦ－１０２」、式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３がメチル基、Ｒ４が式（２－２）で表される基（Ｒ５はエチレン基）、ｍが２０、ｎが０、官能基当量が３６００である硬化性樹脂）１００重量部、重合開始剤として光カチオン重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製、「アデカオプトマーＳＰ１７０」）２重量部、及び、球状の無機充填剤としてシリカ粒子（日本アエロジル社製、「ＲＸ－２００」）１０重量部を混合し、ホモディスパー型攪拌混合機（プライミクス社製、「ホモディスパーＬ型」）を用い、攪拌速度３０００ｒｐｍで均一に攪拌混合して、硬化性樹脂組成物を作製した。

【００５５】

水分のバリア性を調べるために以下の方法でカルシウムテスト用封止体を作製した。該カルシウムテストは、カルシウム金属が水分により酸化物となり白色になる性質を有することを利用するものである。

【００５６】

（カルシウム蒸着）

ガラス基板（長さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）を１０ｍｍ×１０ｍｍの角型にくりぬいたマスクとともに真空蒸着装置の基板フォルダに固定し、素焼きの坩堝にカルシウム金属２００ｍｇを入れ、真空蒸着装置の真空チャンバー内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。その後、カルシウム金属の入った坩堝を加熱し、ガラス基板上に金属カルシウムを２０Å／ｓの速度で０．１μｍの厚みに成膜した。窒素により蒸着器内を常圧に戻し、１０ｍｍ×１０ｍｍの領域に金属カルシウムが蒸着されたガラス基板を取り出した。

【００５７】

（基板貼り合わせ）

乾燥窒素中で、金属カルシウムが蒸着されたガラス基板の周辺部に、作製した硬化性樹脂組成物をディスペンスし、もう１枚のガラス基板（長さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）を、金属カルシウムを挟持するように真空で貼り合せた後、超高圧水銀ランプにて波長３６５ｎｍ、積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、次いで、８０℃で３０分間加熱して硬化性樹脂組成物を硬化させた。

【００５８】

（レーザー照射）

貼り合わせたガラス基板を真空ポンプ及び酸素ガスを供給するバルブが接続された密閉容器内に配置した。密閉容器内を４×１０－５Ｔｏｒｒに減圧し、次いで、密閉容器内の酸素ガス圧が１０－１Ｔｏｒｒとなるよう酸素ガス供給バルブから酸素ガスを供給した。その後、水晶で形成された密閉容器の入射窓よりＡｒＦレーザー装置でエネルギー密度１０Ｊ／ｃｍ２のＡｒＦエキシマレーザーを、貼り合わせたガラス基板の側面から硬化性樹脂組成物の硬化物の外気と触れる部分に照射し、封止体を作製した。

【００５９】

（実施例２）

分子内にシロキサン結合及び重合性基としてメタクリロイル基を有する硬化性樹脂としてメタクリル系変性シリコーン樹脂（信越シリコーン社製、「Ｘ－２２－１６４Ｅ」、式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３がメチル基、Ｒ４が式（２－５）で表される基（Ｒ５はプロピレン基、Ｒ８はメチル基）、ｍが５０、ｎが０、官能基当量３９００である硬化性樹脂）１００重量部、重合開始剤として光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２重量部、及び、球状の無機充填剤としてシリカ粒子（日本アエロジル社製、「ＲＸ－２００」）１０重量部を混合し、ホモディスパー型攪拌混合機（プライミクス社製、「ホモディスパーＬ型」）を用い、攪拌速度３０００ｒｐｍで均一に攪拌混合して、硬化性樹脂組成物を作製した。

作製した硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止体を作製した。

【００６０】

（実施例３）

エポキシ系変性シリコーン樹脂に代えて、分子内にシロキサン結合及び重合性基としてオキセタニル基を有する硬化性樹脂としてオキセタン変性シリケート樹脂（東亞合成社製、「ＯＸＴ－１９１」、式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３が式（２－３）で表される基（Ｒ６はエチレン基）、ｍが５、ｎが０、官能基当量が３６００である硬化性樹脂）１００重量部を使用したこと以外は、実施例１と同様にして硬化性樹脂組成物を作製した。

作製した硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止体を作製した。

【００６１】

（比較例１）

エポキシ系変性シリコーン樹脂に代えて、分子内にシロキサン結合を有しない樹脂としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製、「ｊＥＲ ８２８」）１００重量部を使用したこと以外は、実施例１と同様にして硬化性樹脂組成物を作製した。

作製した硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止体を作製した。

【００６２】

（参考例１）

実施例１と同様にして、硬化性樹脂組成物を作製した。

実施例１と同様にして「（カルシウム蒸着）」及び「（基板貼り合わせ）」を行い、「（レーザー照射）」を行わずに封止体を作製した。

【００６３】

＜評価＞

（バリア性）

実施例、比較例及び参考例で得られた封止体を８５℃、８５％ＲＨの環境下で１００時間暴露した後のカルシウム金属の状態を観察した。カルシウム部分に変化がなかった場合を「○」、カルシウム部分に白色の変化がみられた場合を「×」としてバリア性を評価した。結果を表１に示した。

【００６４】

【表１】

［図：0001381451000005.jpg］

」

（当合議体注：【表１】は、９０度右回転し、縦横比を変更して掲記した。）

(2) 引用発明１

上記(1)によれば、引用文献１の【００１２】～【００１７】、【００５０】、【００５９】及び【００６４】【表１】には、実施例２として、硬化性樹脂組成物が記載されている。そして、引用文献１の【００５０】、【００５２】及び【００５９】等の記載によれば、当該硬化性樹脂組成物は、硬化させて、有機エレクトロルミネッセンス素子等のデバイスを被保護物とする封止方法に用いられるものと理解される。

ところで、引用文献１の【００５９】には、上記硬化性樹脂組成物に含まれる「メタクリル系変性シリコーン樹脂」について、「信越シリコーン社製、「Ｘ－２２－１６４Ｅ」、式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３がメチル基」「である硬化性樹脂」（下線は当合議体で付与したものであり、式（１）及び式（２－５）は下記のものである。）と記載されているが、信越シリコーン製の製品である「Ｘ－２２－１６４Ｅ」は、（側鎖型、片末端型、側鎖両末端型のいずれでもない）両末端型のメタクリル系変性シリコーン樹脂であることからみて、上記下線部の記載は、少なくとも、「Ｒ２、Ｒ３が式（２－５）で表される基」の誤記であると解される。

（当合議体注：このことは、例えば、製品カタログ「信越シリコーン 反応性・非反応性 変性シリコーンオイル」の４頁及び特開２０１４－１８９７６０号公報の【００６１】～【００６３】等からも確認できる事項である。）

［図：0001381451000006.jpg］

［図：0001381451000007.jpg］

以上総合すると、引用文献１には、次の硬化性樹脂組成物の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。

「分子内にシロキサン結合及び重合性基としてメタクリロイル基を有する硬化性樹脂としてメタクリル系変性シリコーン樹脂（「Ｘ－２２－１６４Ｅ」、式（１）におけるＲ１がメチル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４が式（２－５）で表される基（Ｒ５はプロピレン基、Ｒ８はメチル基）、ｍが５０、ｎが０、官能基当量３９００である硬化性樹脂）１００重量部、重合開始剤として光ラジカル重合開始剤（「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２重量部、及び、球状の無機充填剤としてシリカ粒子（「ＲＸ－２００」）１０重量部を混合し、均一に攪拌混合して、作製したものであって、

硬化させて、有機エレクトロルネッセンス素子等のデバイスを被保護物とする封止方法に用いられる、

硬化性樹脂組成物。

ここで、式（１）及び式（２－５）は以下のものである。

［図：0001381451000008.jpg］

［図：0001381451000009.jpg］

」

２ 引用文献２の記載及び引用発明２

(1) 引用文献２の記載

原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（米国特許出願公開第２０１３／０２３６６８１号明細書）は、先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物であるところ、そこには、以下の記載がある。

なお、下線は、当合議体が引用発明の認定及び判断等で活用した箇所を示す。

ア 「

［図：0001381451000010.jpg］

」

（参考訳：「 背景

【０００２】１．分野

【０００３】実施形態は、光硬化性組成物、これと同じものを含むバリア層、および、これと同じものを含む封止された装置に関するものである。」）

イ 「

［図：0001381451000011.jpg］

［図：0001381451000012.jpg］

［図：0001381451000013.jpg］

［図：0001381451000014.jpg］

」

（参考訳：「 概要

【０００６】実施形態は、光硬化性モノマーとシリコーン含有モノマーまたはそのオリゴマーとを含む光硬化性組成物を対象とするもので、シリコーン含有モノマーは、（化１）で表される。

（化１）

［図：0001381451000015.jpg］

【０００７】（化１）において、Ｘ１およびＸ２は同じであっても異なっていてもよく、Ｏ、Ｓ、Ｎ－ＨまたはＮ－Ｒ’であってもよく、Ｒ’は、置換または非置換の炭素原子数１～２０のアルキル基であってもよい。Ｒ１およびＲ２は、同じであっても異なっていてもよく、単結合、置換もしくは非置換の炭素原子数１～２０のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルエーテル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルアミン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルスルフィド基、置換もしくは非置換の炭素原子数６～３０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素原子数７～３０のアリールアルキレン基、または、置換もしくは非置換の炭素原子数１～２０のアルコキシレン基であってもよい。Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５およびＹ６は、同じであっても異なっていてもよく、水素、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルエーテル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のジアルキルアミン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルスルフィド基、置換もしくは非置換の炭素原子数６～３０のアリール基、置換もしくは非置換の炭素原子数７～３０のアリールアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルコキシレン基、または、（化２）もしくは（化３）で表される化合物であってもよい。

（化２）

［図：0001381451000016.jpg］

（化３）

［図：0001381451000017.jpg］

ここで、＊は、（化１）におけるＳｉの結合サイトを表す。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同じであっても異なっていてもよく、水素、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルエーテル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のジアルキルアミン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルスルフィド基、置換もしくは非置換の炭素原子数６～３０のアリール基、または、置換もしくは非置換の炭素原子数７～３０のアリールアルキル基であってもよい。Ｘ３は、Ｏ、Ｓ、Ｎ－ＨまたはＮ－Ｒ’であってもよい。Ｒ’は置換または非置換の炭素原子数１～２０のアルキル基であってもよい。Ｚ１およびＺ２は、同じであっても異なっていてもよく、（化４）で表される化合物である。

（化４）

［図：0001381451000018.jpg］

ここで、＊は（化１）のＲ１またはＲ２の結合サイトを表し、Ｒ８は水素、または、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキル基であってもよい。ｎは整数であってもよく、ｎは０～約３０、または、ｎの平均値は約３０以下である。」）

（当合議体注：Ｒ９はＲ８の誤記であるため、参考訳では修正した。また、【化１】は（化１）に統一した。他の化学式を表す記号についても同様である。）

ウ 「

［図：0001381451000019.jpg］

・・・

［図：0001381451000020.jpg］

続きを表示（全15行）

・・・

［図：0001381451000021.jpg］

［図：0001381451000022.jpg］

［図：0001381451000023.jpg］

・・・

［図：0001381451000024.jpg］

・・・

［図：0001381451000025.jpg］

・・・

［図：0001381451000026.jpg］

」

（参考訳：「

【００３６】一実施形態は、（Ａ）光硬化性モノマーと、（Ｂ）シリコーン含有モノマーまたはそのオリゴマーとを含む光硬化性組成物に関する。

（Ａ）光硬化性モノマー

【００３７】一実施形態において、光硬化性モノマーとは、シリコーンを含まない非シリコーンタイプの光硬化性モノマーのことである。光硬化性モノマーは、例えば、（メタ）アクリレート基、ビニル基などの光硬化性官能基を１つまたは２つ以上有していてもよい。

・・・中略・・・

（Ｂ）シリコーン含有モノマーまたはそのオリゴマー

・・・中略・・・

【００４６】一実施形態において、シリコーン含有モノマーは、（化１）で表されてもよい。

（化１）

［図：0001381451000027.jpg］

【００４７】（化１）において、Ｘ１およびＸ２は同じであっても異なっていてもよく、Ｏ、Ｓ、Ｎ－ＨまたはＮ－Ｒ’であってもよく、Ｒ’は、置換または非置換の炭素原子数１～２０のアルキル基であってもよい。Ｒ１およびＲ２は、同じであっても異なっていてもよく、単結合、置換もしくは非置換の炭素原子数１～２０のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルエーテル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルアミン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルスルフィド基、置換もしくは非置換の炭素原子数６～３０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素原子数７～３０のアリールアルキレン基、または、置換もしくは非置換の炭素原子数１～２０のアルコキシレン基であってもよい。Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５およびＹ６は、同じであっても異なっていてもよく、水素、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルエーテル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のジアルキルアミン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルスルフィド基、置換もしくは非置換の炭素原子数６～３０のアリール基、置換もしくは非置換の炭素原子数７～３０のアリールアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルコキシレン基、または、（化２）もしくは（化３）で表される化合物であってもよい。

（化２）

［図：0001381451000028.jpg］

（化３）

［図：0001381451000029.jpg］

【００４８】ここで、＊は、（化１）におけるＳｉの結合サイトを表す。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同じであっても異なっていてもよく、水素、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルエーテル基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のジアルキルアミン基、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキルスルフィド基、置換もしくは非置換の炭素原子数６～３０のアリール基、または、置換もしくは非置換の炭素原子数７～３０のアリールアルキル基であってもよい。Ｘ３は、Ｏ、Ｓ、Ｎ－ＨまたはＮ－Ｒ’であってもよい。Ｒ’は置換または非置換の炭素原子数１～２０のアルキル基であってもよい。Ｚ１およびＺ２は、同じであっても異なっていてもよく、（化４）で表される化合物であってもよい。

（化４）

［図：0001381451000030.jpg］

【００４９】ここで、＊は（化１）におけるＲ１またはＲ２の結合サイトを表し、Ｒ９は水素、または、置換もしくは非置換の炭素原子数１～３０のアルキル基であってもよい。ｎは０～約３０の整数であってもよく、または、ｎの平均値は約０～約３０であってもよい。この範囲内であれば、組成物を硬化した後の水蒸気透過速度やアウトガス発生量を低くすることができる可能性があり、光硬化率を高くすることができる。実施にあたり、ｎは、０～約１５、例えば、０～約１０であってもよい。

・・・中略・・・

【００５８】この組成物は、さらに反応開始剤を含んでいてもよい。

（Ｃ）反応開始剤

【００５９】反応開始剤としては、光硬化反応を引き起こす、好適な光重合反応開始剤を用いてもよい。例えば、光重合反応開始剤は、トリアジン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ベンゾイン、亜リン酸、オキシム系反応開始剤などから選択される１つまたは２つ以上を含んでいてもよい。

・・・中略・・・

【００７１】実施にあたり、光硬化性組成物は、フレキシブルディスプレイ装置の密閉または封止に使用される有機バリア層を形成するために使用されてもよい。

・・・中略・・・

【００７４】バリア層は、光硬化性組成物の硬化物を含んでいてもよい。」）

エ 「

［図：0001381451000031.jpg］

［図：0001381451000032.jpg］

［図：0001381451000033.jpg］

続きを表示（全11行）

［図：0001381451000034.jpg］

［図：0001381451000035.jpg］

・・・

［図：0001381451000036.jpg］

［図：0001381451000037.jpg］

［図：0001381451000038.jpg］

」

（参考訳：「【０１０２】図１は、一実施形態に係る封止された装置の断面を示す図である。

【０１０３】図１において、封止された装置１００は、基板１０と、基板１０上の装置の部材２０と、装置の部材２０上に形成され、無機バリア層３１および有機バリア層３２を含むバリアスタック３０とを含んでもよく、ここでは、無機バリア層３１が装置２０の部材２０に接触している。

（当合議体注：「装置２０」は、「装置１００」の誤記である。）

【０１０４】図２は、別の実施形態に係る封止された装置の断面を示す図である。

【０１０５】図２において、封止された装置２００は、基板１０と、基板１０上の装置の部材２０と、装置の部材２０上に形成され、無機バリア層３１および有機バリア層３２を含むバリアスタック３２とを含み、ここでは、無機バリア層３１は、装置の部材が収められている内部空間４０を封止してもよい。

【０１０６】図１および図２は、単一の無機バリア層と単一の有機バリア層が形成された構造を示す。しかしながら、無機バリア層および有機バリア層は、複数回堆積させてもよい。さらに、無機バリア層および有機バリア層を含む複合バリア層の側部および／または上部に、シール材および／または基板（図１および図２には示さず）がさらに形成されていてもよい。

【０１０７】装置は、好適な方法で製造することができる。例えば、基板上にデバイスを配置し、その上に無機バリア層を形成してもよい。光硬化性組成物が、スピンコート、スリットコートなどにより約１μｍ～約５μｍの厚さに塗布されていてもよく、これに光を照射して有機バリア層を形成してもよい。無機バリア層および有機バリア層の形成を、例えば、１０回以下だけ繰り返し実施してもよい。

【０１０８】一実施形態において、封止された装置の例として、有機発光ダイオードを含む有機発光ディスプレイ、液晶ディスプレイ、太陽電池などを挙げることができる。

【０１０９】以下の例および比較例は、１つまたは２つ以上の実施形態の特徴を強調するために提示されるが、例および比較例は、実施形態の範囲を限定するものとして解釈されるべきではなく、また比較例は、実施形態の範囲外であると解釈されるべきではないことが理解されるであろう。さらに、実施形態は、例および比較例に記載された特定の詳細な説明に限定されないことが理解されるであろう。

【０１１０】例および比較例で使用する要素の詳細は以下の通りである。

【０１１１】（Ａ）光硬化性モノマー：（Ａ１）ヘキシルアクリレート、（Ａ２）ヘキサンジオールジアクリレート、（Ａ３）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、（Ａ４）トリ（プロピレングリコール）ジアクリレート（アルドリッチ）

【０１１２】

（Ｂ）シリコーン含有モノマー：（Ｂ１）１，３－ビス（３－メタクリロキシプロピル）テトラメチルジシロキサン、（Ｂ２）１，３－ビス（３－メタクリロキシプロピル）テトラキス（トリメチルシロキシ）ジシロキサン（ゲレスト）、（Ｂ３）Ｘ－２２－１６４Ａ（信越）（（化５）で表されるモノマー。ここで、Ｒ１およびＲ２はプロピレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）であり、Ｚ１およびＺ２はメタクリレート基であり、ｎの平均値は６である）。

（化５）

［図：0001381451000039.jpg］

（Ｃ）反応開始剤：ダロキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ ＡＧ）

例および比較例

【０１１３】（Ａ）光硬化性モノマー、（Ｂ）シリーコン含有モノマー、および、（Ｃ）反応開始剤を、表２（単位：重量％）に列挙した量に従って１２５ｍｌの褐色ポリプロピレン容器に入れ、シェーカーを用いて３時間混合し、組成物を調製した。

【実験例】

【０１１４】例および比較例で製造した組成物の物性を評価した。結果を表２に示す。

【０１１５】物性の評価

【０１１６】１．水蒸気透過速度：水蒸気透過速度試験装置（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ ３／３３、ＭＯＣＯＮ製）を用いた。光硬化性組成物をＡｌ試料ホルダにスプレー塗布し、１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１０秒間照射して紫外線硬化させ、厚さ５μｍの層を有する硬化試料を作製した。水蒸気透過速度は、水蒸気透過速度試験機（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ ３／３３、ＭＯＣＯＮ製）を用いて、３７．８℃、１００％ＲＨで２４時間、層厚５μｍの条件で測定した。

【０１１７】２．有機バリア層のアウトガス発生量：光硬化性組成物をガラス基板上にスプレー塗布し、１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１０秒間照射して紫外線硬化させ、２０ｃｍ×２０ｃｍ×３μｍ（幅×長さ×厚さ）のサイズの有機バリア層試料を作製した。ＧＣ／ＭＳ試験装置（パーキンエルマーＣｌａｒｕｓ６００）を用いて、アウトガス発生量の測定を実施した。ＧＣ／ＭＳにおいて、カラムとしてＤＢ－５ＭＳカラム（長さ３０ｍ、直径０．２５ｍｍ、固定相の厚さ０．２５μｍ）、移動相としてヘリウムガス（流量１．０ｍＬ／ｍｉｎ、平均速度３２ｃｍ／ｓ）を用いた。さらに、スプリット比は２０：１とし、温度が４０℃で３分間保持され、１０℃／分の速度で加熱され、その後、３２０℃で６分間保持されるように、温度条件を設定した。アウトガスの回収は、ガラスサイズ２０ｃｍ×２０ｃｍに対して、回収容器としてテドラーバッグを用い、回収温度は９０℃、回収時間は３０分、流量３００ｍＬ／分でＮ２パージを実施し、吸着剤としてテナックスＧＲ（５％フェニルメチルポリシロキサン）を用いて実施した。検量線を、ノルマルヘキサンで希釈した濃度１５０ｐｐｍ、４００ｐｐｍ、８００ｐｐｍのトルエン溶液を標準溶液としてプロットしたところ、Ｒ２値０．９９８７が得られた。

・・・中略・・・

【０１１８】３．光硬化率：光硬化性組成物の吸収ピークの強度は、ＦＴ－ＩＲ（ＮＩＣＯＬＥＴ ４７００、Ｔｈｅｒｍｏ）を用いて、１６３５ｃｍ－１（Ｃ＝Ｃ）および１７２０ｃｍ－１（Ｃ＝Ｏ）付近で測定した。まず、光硬化性組成物をガラス基板上にスプレー塗布し、次いで、１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１０秒間照射して紫外線硬化させ、２０ｃｍ×２０ｃｍ×３μｍ（幅×長さ×厚さ）のサイズの試料を作製した。硬化した膜を試料として切り出し、これを用いて、ＦＴ－ＩＲ（ＮＩＣＯＬＥＴ ４７００、Ｔｈｅｒｍｏ）で１６３５ｃｍ－１（Ｃ＝Ｃ）および１７２０ｃｍ－１（Ｃ＝Ｏ）付近の吸収ピークの強度を測定した。光硬化率は、次に示す【数１】により算出した。

【数１】

光硬化率（％）＝｜１－（Ａ／Ｂ）｜×１００

【０１１９】ここで、Ａは、硬化膜の１６３５ｃｍ－１付近の吸収ピークの強度の１７２０ｃｍ－１付近の吸収ピークの強度に対する比であり、Ｂは、光硬化性組成物の１６３５ｃｍ－１付近の吸収ピークの強度の１７２０ｃｍ－１付近の吸収ピークの強度に対する比である。

表２

［図：0001381451000040.jpg］

」）

（当合議体注：便宜のため、上記表の縦横比を変更して掲記した。）

(2) 引用発明２

上記(1)によれば、引用文献２の【０１１３】～【０１１９】表２には、例８として、（Ａ）光硬化性モノマー、（Ｂ）シリコーン含有モノマー、および、（Ｃ）反応開始剤を、表２（単位：重量％）に列挙した量に従って入れ、混合し、調製した、光硬化性組成物が記載されている。

ここで、表２の記載によれば、例８の光硬化性組成物は、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）、（Ｂ３）及びＣ）からなり、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）、（Ｂ３）及びＣ）は、それぞれ引用文献２の【０１１０】～【０１１２】に記載されたものである。

また、同文献の【００７１】等の記載から、前記光硬化性組成物は、フレキシブルディスプレイ装置の密閉または封止に使用される有機バリア層を形成するために使用されることが想定されたものであると理解される。

以上によれば、引用文献２には、以下の光硬化性組成物の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている。

「（Ａ）光硬化性モノマー、（Ｂ）シリコーン含有モノマー、および、（Ｃ）反応開始剤を、混合し、調製した、光硬化性組成物であって、

使用する要素の詳細は、

（Ａ）光硬化性モノマー：（Ａ１）ヘキシルアクリレート、（Ａ２）ヘキサンジオールジアクリレート、（Ａ３）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、（Ｂ）シリコーン含有モノマー：（Ｂ３）Ｘ-２２-１６４Ａ（信越）（（化５）で表されるモノマー。ここで、Ｒ１およびＲ２はプロピレン基（-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２-）であり、Ｚ１およびＺ２はメタクリレート基であり、ｎの平均値は６である）及び（Ｃ）反応開始剤：ダロキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ ＡＧ）

（化５）

［図：0001381451000041.jpg］

であり、

フレキシブルディスプレイ装置の密閉または封止に使用される有機バリア層を形成するために使用される、

光硬化性組成物。」

３ 引用発明１を主引用発明とした場合

(1) 対比

本願発明と引用発明１を対比すると、以下のとおりとなる。

ア 重合開始剤及び／又は熱硬化剤

引用発明１の「光ラジカル重合開始剤（「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）」は、重合開始剤の一種である。

（当合議体注：本件出願の明細書の【００３０】及び【００４６】の記載からみても明らかである。）

そうしてみると、引用発明１の「光ラジカル重合開始剤（「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）」は、本願発明において「重合開始剤及び／又は熱硬化剤」とされる、「重合開始剤」に相当する。

イ 硬化性樹脂

引用発明１の「硬化性樹脂」は、その文言上の意味及び役割からみて、本願発明の「硬化性樹脂」に相当する。

また、引用発明１の「硬化性樹脂」（「Ｘ－２２－１６４Ｅ」）は、「分子内にシロキサン結合及び重合性基としてメタクリロイル基を有する」「式（１）におけるＲ１がメチル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４が式（２－５）で表される基（Ｒ５はプロピレン基、Ｒ８はメチル基）、ｍが５０、ｎが０、官能基当量３９００である硬化性樹脂」である。

（当合議体注：引用発明１における「式（１）」及び「式（２－５）」は、上記「第２ １(2) 」に示したとおりである。）

上記構造から、引用発明１の「硬化性樹脂」は、本願発明の「硬化性樹脂」における「式（１）」及び「式（２－４）」（式（１）及び式（２－４）は、以下のものである。）において、

［図：0001381451000042.jpg］

［図：0001381451000043.jpg］

「Ｒ１」が、メチル基（本願発明の「炭素数１～１０のアルキル基」に相当）であって、

「Ｘ１、Ｘ２」が、上記「式（２－４）」で表され、Ｒ２がプロピレン基（本願発明の「炭素数１～６のアルキレン基」に相当）、Ｒ５がメチル基であって、「ｎ」が、０である上記「式（１）」で表されるシリコーン化合物に該当する。

以上によれば、引用発明１の「硬化性樹脂」は、本願発明の「硬化性樹脂」における、「下記式（１）で表されるシリコーン化合物を含有する」「式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ１、Ｘ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、又は、下記式（２－４）で表される基を表し、Ｘ３は、下記式（２－４）で表される基を表す。」「ｎは、０であり、Ｘ１及びＸ２のうち少なくとも一方は、下記式（２－４）で表される基を表す。式（２－４）中、Ｒ２は、結合手又は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ５は、水素又はメチル基を表す。」との要件を満たす。

ウ 封止剤

引用発明１の「硬化性樹脂組成物」は、「分子内にシロキサン結合及び重合性基としてメタクリロイル基を有する硬化性樹脂としてメタクリル系変性シリコーン樹脂」「１００重量部、重合開始剤として光ラジカル重合開始剤（「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２重量部、及び、球状の無機充填剤としてシリカ粒子」「１０重量部を混合し、均一に攪拌混合して、作製したものであって、硬化させて、有機エレクトロルネッセンス素子等のデバイスを被保護物とする封止方法に用いられる」。

上記用途からみて、引用発明１の「硬化性樹脂組成物」は、本願発明の「電子デバイス用封止剤」に相当する。

そして、上記ア～イの対比結果及びその組成からみて、引用発明１の「硬化性樹脂組成物」は、本願発明の「電子デバイス用封止剤」における、「硬化性樹脂と、重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有し」という要件を満たす。

(2) 一致点及び相違点

ア 一致点

本願発明と引用発明１は、次の構成で一致する。

「硬化性樹脂と、重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する、電子デバイス用封止剤であって、

前記硬化性樹脂は、下記式（１）で表されるシリコーン化合物を含有することを特徴とする電子デバイス用封止剤。

式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ１、Ｘ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、又は、下記式（２－４）で表される基を表し、Ｘ３は、下記式（２－４）で表される基を表す。ｎは、０であり、Ｘ１及びＸ２のうち少なくとも一方は、下記式（２－４）で表される基を表す。

式（２－４）中、Ｒ２は、結合手又は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ５は、水素又はメチル基を表す。

［図：0001381451000044.jpg］

［図：0001381451000045.jpg］

イ 相違点

本願発明と引用発明１は、次の点で相違する。

（ア）相違点１

「電子デバイス用封止剤」が、本願発明は、「インクジェット法による塗布に用いられるインクジェット塗布用電子デバイス用封止剤であ」るのに対して、引用発明１は、このように特定されたものではない点。

（イ）相違点２

「式（１）で表されるシリコーン化合物」が、本願発明では、「式（１）」において「ｍは、０～５の整数であ」る化合物とされているのに対して、引用発明１では、「ｍが５０」である化合物とされている点。

(3) 判断

技術的関連性に鑑み、相違点１及び２をまとめて検討する。

引用文献１の【００４６】には、「本発明の封止方法において、本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、スリットコート等の方法を用いることができる。」と記載されている。

上記記載に接した当業者は、引用発明１の硬化性樹脂組成物を用いてデバイスの封止を行うに際し、インクジェット印刷の使用（相違点１に係る構成の採用）を試みると考えられる。

ところで、当業者は、先の出願当時の技術常識として、以下の事項を心得ている。

[A]インクジェット印刷に供されるインク（組成物）に対しては、低粘度であることが一般的に求められること。

[B]インク（組成物）を低粘度にする方法として、インクの主成分として分子量が小さいものを用いること。（例えば、特開２００５－１８７５９６号公報（【請求項１】、【０００６】～【０００７】及び【００３９】）及び特開２００８－３７８９８号公報（【請求項１】、【００１６】及び【００２０】）等を参照。）

[C]両末端型のメタクリル変性シリコーンオイルにおいては、シロキサン分子鎖が短いほど（分子量が小さいほど）低粘度であること（例えば、信越化学工業株式会社の製品カタログ，「信越シリコーン 反応性・非反応性 変性シリコーンオイル」４頁の一番下の表を参照。）

加えて、引用発明１の「式（１）」で表される「メタクリル系変性シリコーン樹脂」に該当するものであって、ｍ＝４かつｎ＝０であるオルガノシロキサン（引用文献３の【００９３】～【００９４】及び【００９７】【表１】（実施例８））、ｍ＝０かつｎ＝０であるシリコーンモノマー（引用文献４の【００２１】【表１】（１）の「ＴＳＬ９７０５」）やシリコーン含有モノマー（引用文献２の【０１１２】に記載された「（Ｂ１）１，３－ビス（３－メタクリロキシプロピル）テトラメチルジシロキサン）」）は、いずれも先の出願当時において、当業者が入手可能であり、電子デバイス用封止剤の硬化性樹脂としての用途も知られていたと認められる。

そうしてみると、引用発明１の「硬化性樹脂組成物」を用いた封止において、インクジェット印刷の使用を試みる際に、上記技術常識を熟知した当業者が、メタクリル変性シリコーン樹脂としての「Ｘ－２２－１６４Ｅ」に替えて、先の出願当時に入手可能であった、より低分子量かつ低粘度のメタクリル変性シリコーン樹脂（本願発明の相違点２に係る化合物に相当）を採用してみることは容易に想到し得たことである。

４ 引用発明２を主引用発明とした場合

(1) 対比

ア 重合開始剤及び／又は熱硬化剤

引用発明２の「反応開始剤：ダロキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ ＡＧ）」は、技術的にみて、重合開始剤の一種である。

そうしてみると、引用発明２の「反応開始剤：ダロキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ ＡＧ）」は、本願発明において「重合開始剤及び／又は熱硬化剤」とされる、「重合開始剤」に相当する。

イ 硬化性樹脂

引用発明２の「（Ｂ３）Ｘ－２２－１６４Ａ（信越）」は、構造及び機能からみて、本願発明の「硬化性樹脂」に相当する。

また、引用発明２の「（Ｂ３）Ｘ－２２－１６４Ａ（信越）」は、「（化５）で表されるモノマー。ここで、Ｒ１およびＲ２はプロピレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）であり、Ｚ１およびＺ２はメタクリレート基であり、ｎの平均値は６である」。

（当合議体注：引用発明２における「（化５）」は、上記「第２ ２(2) 」に示したとおりである。）

上記構造から、引用発明２の「（Ｂ３）Ｘ－２２－１６４Ａ（信越）」は、本願発明の「硬化性樹脂」における「式（１）」及び「式（２－４）」（式（１）及び式（２－４）は、以下のものである。）において、

［図：0001381451000046.jpg］

［図：0001381451000047.jpg］

「Ｒ１」が、メチル基（本願発明の「炭素数１～１０のアルキル基」に相当）であって、

「Ｘ１、Ｘ２」が、「式（２－４）」で表され、Ｒ２が「プロピレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）であり」（本願発明の「炭素数１～６のアルキレン基」に相当）、Ｒ５がメチル基であって、ｍの平均値は６、ｎは０であり、その側鎖には、「式（２－４）で表される基」は存在しない、「式（１）」で表されるシリコーン化合物に該当する。

以上によれば、引用発明２の「（Ｂ３）Ｘ－２２－１６４Ａ（信越）」は、本願発明の「硬化性樹脂」における、「下記式（１）で表されるシリコーン化合物を含有する」「式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ１、Ｘ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、又は、下記式（２－４）で表される基を表し、Ｘ３は、下記式（２－４）で表される基を表す。」「ｎは、０であり、Ｘ１及びＸ２のうち少なくとも一方は、下記式（２－４）で表される基を表す。式（２－４）中、Ｒ２は、結合手又は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ５は、水素又はメチル基を表す。」との要件を満たす。

ウ 封止剤

引用発明２の「光硬化性組成物」は、「（Ａ）光硬化性モノマー、（Ｂ）シリコーン含有モノマー、および、（Ｃ）反応開始剤を、混合し、調製した、光硬化性組成物であって、

使用する要素の詳細は、

（Ａ）光硬化性モノマー：（Ａ１）ヘキシルアクリレート、（Ａ２）ヘキサンジオールジアクリレート、（Ａ３）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、（Ｂ）シリコーン含有モノマー：（Ｂ３）Ｘ-２２-１６４Ａ（信越）」「及び（Ｃ）反応開始剤：ダロキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ ＡＧ）」「であり、フレキシブルディスプレイ装置の密閉または封止に使用される有機バリア層を形成するために使用される」。

上記用途及びその組成からみて、引用発明２の「光硬化性組成物」は、本願発明の「電子デバイス用封止剤」に相当する。

そして、上記ア～イの対比結果及び組成から、引用発明の「光硬化性組成物」は、本願発明の「電子デバイス用封止剤」における、「硬化性樹脂と、重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有し」という要件を満たす。

(2) 一致点及び相違点

ア 一致点

本願発明と引用発明２は、次の構成で一致する。

「硬化性樹脂と、重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する、電子デバイス用封止剤であって、

前記硬化性樹脂は、下記式（１）で表されるシリコーン化合物を含有することを特徴とする電子デバイス用封止剤。

式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ１、Ｘ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、又は、下記式（２－４）で表される基を表し、Ｘ３は、下記式（２－４）で表される基を表す。ｎは、０であり、Ｘ１及びＸ２のうち少なくとも一方は、下記式（２－４）で表される基を表す。

式（２－４）中、Ｒ２は、結合手又は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ５は、水素又はメチル基を表す。」

イ 相違点

本願発明と引用発明２は、次の点で相違する。

（ア）相違点１’

「電子デバイス用封止剤」が、本願発明は、「インクジェット法による塗布に用いられるインクジェット塗布用電子デバイス用封止剤であ」るのに対して、引用発明２は、このように特定されたものではない点。

（イ）相違点２’

「式（１）で表されるシリコーン化合物」が、本願発明では、「式（１）」において「ｍは、０～５の整数であ」る化合物とされているのに対して、引用発明２では、「ｎの平均値は６である」点。

（当合議体注：引用発明２の「ｎ」は、本願発明の「ｍ」に相当する。）

(3) 判断

相違点１’及び ２’について、まとめて検討する。

引用発明２の「光硬化性組成物」は、ジメチルシロキサン骨格を主鎖とするシリコーン化合物を主成分とする電子デバイス用封止剤である点で、引用発明１の「硬化性樹脂組成物」と共通する。

そして、上記「３(3)」で述べたとおり、引用文献１の【００４６】には、「本発明の封止方法において、本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、スリットコート等の方法を用いることができる。」と記載されている。

してみると、当業者は、引用発明２の「光硬化性組成物」を用いてデバイスの封止を行うに際し、インクジェット印刷の使用を試みる（相違点１’に係る本願発明の構成を採用する）と考えられる。

さらに、引用発明１の「式（１）」で表される「シリコーン含有モノマー」に該当するものであって、ｍ＝０かつｎ＝０であるもの（例えば、引用文献２の【０１１２】に記載された「（Ｂ１）１，３－ビス（３－メタクリロキシプロピル）テトラメチルジシロキサン」等）は、先の出願当時において、当業者が入手可能であり、電子デバイス用封止剤の硬化性樹脂としての用途も知られていたと認められる。（上記「３(3)」参照。）

そうすると、上記「３(3)」で述べた理由と同様の理由により、引用発明２の「光硬化性組成物」を用いた封止において、インクジェット印刷の使用を試みる際に、当業者が、「（Ｂ）シリコーン含有モノマー」としての「（Ｂ３）Ｘ－２２－１６４Ａ（信越）」に代えて、先の出願当時に入手可能であった、より低分子量かつ低粘度のシリコーン含有モノマー（本願発明の相違点２’に係る化合物に相当）を採用することは容易に想到し得たことである。

５ 本願発明の効果について

本件出願の明細書には、発明の効果に関して、明示の記載はないが、【００１１】及び【０１２４】の記載からみて、その効果は、「インクジェット法により容易に塗布することができ、かつ、インクジェット装置のダメージを低減できる電子デバイス用封止剤を提供すること」ができることと一応認められる。

しかしながら、上記効果は、上記技術常識を熟知する当業者が、引用発明１又は引用発明２から容易に想到し得る構成（封止剤）が奏する効果であって、当業者が予測可能な範囲にとどまるものであって、格別顕著なものでもない。

あるいは、次のように考えることもできる。

本願発明は、「式（１）で表されるシリコーン化合物」の配合量を何ら特定していない発明である。そうすると、例えば、本件出願の明細書の【０１２３】【表２】に記載された比較例４において、「１，６－ヘキサンジオールジアクリレート」（１００質量部）のうち、きわめて少量を「Ｘ－２２－１６４」に変更してなる電子デバイス用封止剤が、本件出願の明細書の【０１１６】に記載された、「接着剤片の膨潤性（装置ダメージ）」の評価において「○」以上の結果が得られるとは必ずしもいえない。

したがって、上記効果（特に、装置ダメージの点）は、本願発明が必ずしも奏する効果とはいえない。

６ 請求人の主張について

審判請求人は、令和３年１月６日の審判請求書において、引用文献１～４のいずれにも上記効果及び評価について何ら示唆されていない点を指摘する。また、同請求書の５頁では、「引用文献１又は２に記載された発明において、本願における式（１）のｍが範囲外である化合物（「Ｘ－２２－１６４Ｅ」や「Ｘ－２２－１６４Ａ」）に代えて、単に引用文献３、４の実施例の一部に記載されただけの化合物を用いる動機付けとなる記載は、これらの引用文献にはなく、本願発明は、各引用文献からは予測できない顕著な効果を奏するものであると言えます。」と主張する。

しかしながら、上記主張については、上記「３(3)」や上記「４(3)」に示したとおりであって、採用の限りでない。

７ 小括

本願発明は、引用文献１に記載された発明又は引用文献２に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。

第３ むすび

以上のとおり、本願発明は、引用文献１に記載された発明又は引用文献２に記載された発明及び周知技術に基づいて、先の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。

したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶すべきものである。

よって、結論のとおり審決する。