2020-016967

特願２０１６－２４４６８６「有機エレクトロルミネッセンス素子」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年 ６月２１日出願公開、特開２０１８－ ９８１３９〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続等の経緯 特願２０１６－２４４６８６号（以下「本件出願」という。）は、平成２８年１２月１６日の出願であって、その手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。 令和 ２年 ６月１０日付け：拒絶理由通知書 令和 ２年 ７月３０日提出：意見書 令和 ２年 ７月３０日提出：手続補正書 令和 ２年 ９月１７日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。） 令和 ２年１２月 ９日提出：審判請求書 令和 ２年１２月 ９日提出：手続補正書 第２ 本願発明 本件出願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、令和２年７月３０日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。 「 基材と、前記基材上に設けられた第１電極と、前記第１電極上に設けられた発光ユニットと、前記発光ユニット上に設けられた第２電極と、前記第２電極上に設けられた固体封止層と、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、 前記第１電極は、金属グリッドと透明導電層とを備え、 前記金属グリッドの最大厚さをＡｎｍとし、前記金属グリッドが存在する部分における前記固体封止層から上層部を除いた前記有機エレクトロルミネッセンス素子の最大厚さをＢｎｍとし、前記金属グリッドが存在しない部分における前記固体封止層から上層部を除いた前記有機エレクトロルミネッセンス素子の最小厚さをＣｎｍとした場合に、Ａ／（Ｂ－Ｃ）≧５．０を満たすことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。」 なお、令和２年１２月９日提出の手続補正書による補正は、本件明細書の【０００２】についてなされたものである。 第３ 原査定の概要 原査定の拒絶の理由は、概略、本件出願の請求項１～５に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて利用可能となった発明に基づいて、本件出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。 引用文献１：特開２０１６－１３９６２０号公報 引用文献２：特開２００８－４７３５５号公報 引用文献３：特開２０１４－１９７５３７号公報 （当合議体注：引用文献１は主引用例であり、引用文献２及び引用文献３は周知技術を示す文献である。） 第４ 引用文献の記載事項及び引用文献に記載された発明 １ 引用文献の記載事項 原査定の拒絶理由に引用され、本件出願前に日本国内又は外国において電気通信回線を通じて利用可能となった特開２０１６－１３９６２０号公報（以下、同じく「引用文献１」という。）には、以下の記載がある。なお、当合議体が発明の認定等に用いた箇所に下線を付した。 （１）「【発明の詳細な説明】 【技術分野】 【０００１】 本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという）材料を発光層に含む有機ＥＬパネル及びその製造方法に関する。 ・・・省略・・・ 【発明を実施するための形態】 【００１２】 以下、本発明の実施形態の有機ＥＬパネルについて、図面を参照しつつ説明する。 【００１３】 図１は、実施形態の有機ＥＬパネルの一部分を陰極側上面から眺めた透視部分切欠平面図であり、図２は図１のＡ－Ａ線における有機ＥＬパネルの断面を示す部分的断面図である。 【００１４】 有機ＥＬパネルは、図２に示すように、光取り出し側のガラスや樹脂などからなる平板状の透明な基板１上に形成された透明な陽極２（所謂、透明導電性膜）と、この上に積層された機能積層体ＦＬＢと、この上に積層された陰極９（所謂、対向電極膜）とから構成される。白色発光可能な機能積層体ＦＬＢの機能層としては、例えば、正孔注入層３／正孔輸送層４／赤緑混合発光層５／青発光層６／電子輸送層７／電子注入層８の積層が挙げられる。 【００１５】 図１及び図２に示すように、基板１上には、パネル平面におけるＸＹ方向に拡がる透明な陽極２と陰極９が機能積層体ＦＬＢを挟むように形成されている。ＩＴＯなどの透明導電性膜の陽極２と対向電極膜の陰極９に挟まれ且つこれらに重なる機能積層体ＦＬＢの部分が発光部となり、基板１側から光が取り出される。 【００１６】 透明な陽極２下で基板１上には、複数の長手の補助電極ＢＬがＸ方向に伸長して平行にストライプ状に形成されている。すなわち、基板１上の補助電極ＢＬは、陽極２に直接覆われ電気的に接続される形態で形成されている。補助電極ＢＬは、陽極２に電源電力を供給する為に形成されている。陽極２の下から発光部外部へ露出する複数の補助電極ＢＬ及びその連結配線上には陰極９の端部の間に、すなわち、発光部下以外の補助電極ＢＬ上に短絡防止膜（図示せず）を設けても良い。面光源用の有機ＥＬパネルにおいては、透明電極の抵抗率が高く広い透明電極面積を必要とする場合でも、抵抗率の低い金属材料からなる補助電極を透明電極下にストライプ状に並置することにより、補助電極ＢＬ及び透明陽極２を全体として低抵抗化を達成している。 【００１７】 複数の補助電極ＢＬを透明陽極２の下部に設けて透明陽極２の膜厚を１μｍを超えるμｍオーダと厚くすることにより、実施形態の有機ＥＬパネルでは、低抵抗化と共に補助電極ＢＬのカバレッジ効果を大きくし陽極自体の平滑化を達成している。かかる陽極の厚膜化による平滑主面は、後工程で成膜される機能積層体ＦＬＢの機能層の平滑化、膜厚ムラの軽減に貢献する。平滑化の他に陽極の厚膜化は光取り出し側の干渉低減効果にも期待できる。例えば、陽極の膜厚設定において、それぞれの取り出し発光色のピーク波長の１／４の非整数倍にできる膜厚幅の自由度が拡大できる。陽極の厚膜化のために、図２に示すように、陽極２は、補助電極ＢＬの膜厚ｔ１を超える膜厚ｔ２を有する。透明陽極２の膜厚は透明陽極２の透過率を維持しかつパネル特性を確保するために１μｍ～５μｍであることが好ましい。 【００１８】 陽極２は、図２に示すように、機能積層体ＦＬＢとの界面に平滑主面２Ａと基板１の主面上の陽極２の縁部２Ｂ（最縁端）に向けて膜厚が漸次減少するテーパ側面２Ｃとを有するように成膜される。ここで、陽極のパタニングは通常フォトリソグラフィプロセスにて行われ、上記プロセスで作製したＩＴＯ陽極のエッジは不安定であるため絶縁膜でカバーする必要がある。この絶縁膜工程がパネルのコストアップ、歩留まり低下の要因の一つになっている。この問題を解決するため陽極はスクリーン印刷や無版印刷若しくは有版印刷などの湿式塗布法又は非密着若しくは密着のマスクを用いたスパッタリング法にてパタニングすることが好ましい。また、機能積層体ＦＬＢの機能層は塗布にて形成することが好ましい。陽極２のテーパ側面２Ｃ上に機能積層体ＦＬＢがされると、機能積層体ＦＬＢにもテーパ側面が形成され、後工程で形成される陰極の断線を防止することができる。よって、以上の構成により、絶縁膜を必要とすることなく照明などに適した有機ＥＬパネルを作製することが可能になる。 【００１９】 陽極２の及び縁部２Ｂのカバレッジを良化するため機能積層体ＦＬＢの機能層は塗布にて形成する。特に機能積層体ＦＬＢの１層目（正孔注入層３又は正孔輸送層４）は補助電極ＢＬの膜厚より厚く塗布されることが好ましい。機能積層体ＦＬＢにもテーパ側面を厚膜にするほど陽極２の及び縁部２Ｂのカバレッジ性が上昇するのでリーク抑制効果が上がる。具体的には、陽極２から機能積層体ＦＬＢの発光層５までの積層膜の膜厚の合計は陽極上の異物に対する埋包性を確保するため少なくとも１００ｎｍであることが好ましい。 【００２０】 本実施形態の有機ＥＬパネルの一例は、図２に示すように、ガラスなどの透明基板１上にて、順に、積層された陽極２／正孔注入層３／正孔輸送層４／赤緑混合発光層５／青発光層６／電子輸送層７／電子注入層８／陰極９／の構成である。この積層構成の他に、図示しないが、陽極２／正孔注入層３／赤緑混合発光層５／青発光層６／電子輸送層７／電子注入層８／陰極９／の正孔輸送層４を省いた構成や、図示しないが、陽極２／正孔輸送層４／赤緑混合発光層５／青発光層６／電子輸送層７／電子注入層８／陰極９／の正孔注入層３を省いた構成や、図示しないが、陽極２／正孔輸送層４／赤緑混合発光層５／青発光層６／電子注入層８／陰極９／の正孔注入層３、電子輸送層７を省いた構成も本発明に含まれる。上記いずれの積層構造において赤緑混合発光層５と青発光層６上記の間に拡散防止層を設ける構成も本発明に含まれる。 【００２１】 有機ＥＬパネルの機能層を成膜する手法として、スパッタリング法や真空蒸着法などの乾式塗布法や、スクリーン印刷、スプレイ法、インクジェット法、スピンコータ法、グラビア印刷、ロールコータ法などの湿式塗布法が知られている。例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層を湿式塗布法でベタ膜として一様に成膜して、電子輸送層及び電子注入層を、それぞれ乾式塗布法でベタ膜として一様に順次成膜してもよい。また、すべての機能層を湿式塗布法でベタ膜として一様に順次成膜してもよい。 【００２２】 ［基板］ 基板１としては、石英やガラスの板、金属板や金属箔、曲げられる樹脂基板、プラスチックフィルムやシートなどが用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホンなどの合成樹脂の透明板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機ＥＬパネルが劣化することがあるので好ましくない。よって、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜などを設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。 【００２３】 なお、湿式塗布法にて透明陽極を厚膜で形成する場合、基板表面の凹凸を緩和できるので、高価なディスプレイ用研磨ガラス基板でない廉価なガラス基板も有機ＥＬパネル基板に用いることができる。 【００２４】 ［陽極及び陰極］ 発光層までの機能層に正孔を供給する陽極２は、通常、インジウム酸化物とスズ酸化物の複合酸化物（所謂、ＩＴＯ）などにより構成される。ＩＴＯの他に、陽極２はＺｎＯ、ＺｎＯ－Ａｌ2Ｏ3（所謂、ＡＺＯ）、Ｉｎ2Ｏ3－ＺｎＯ（所謂、ＩＺＯ）、ＳｎＯ2－Ｓｂ2Ｏ3（所謂、ＡＴＯ）、ＲｕＯ2などにより構成され得る。さらに、陽極２の透明導電性膜は、有機ＥＬ材料から得られる発光波長において少なくとも１０％以上の透過率を持つ材料を選択することが好ましい。 【００２５】 陽極は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも可能である。 【００２６】 陽極に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極表面を紫外線（ＵＶ）／オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることが好ましい。 【００２７】 発光層までの機能層に電子を供給する陰極９の材料としては、効率良く電子注入を行う為に仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀などの適当な金属又はそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム－銀合金、マグネシウム－インジウム合金、アルミニウム－リチウム合金などの低仕事関数合金電極が挙げられる。 【００２８】 なお、陰極９の材料は、１種のみを用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。 【００２９】 さらに、低仕事関数金属から成る陰極を保護する目的で、陰極の上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、有機ＥＬパネルの安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金などの金属が使われる。なお、これらの材料は、１種のみで用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。 【００３０】 ［機能積層体の機能層］ ［正孔注入層］ 正孔注入層３は、電子受容性化合物を含有する層とすることが好ましい。 ・・・省略・・・ 【００４２】 正孔注入層の膜厚は、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、また、通常１０００ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下の範囲である。 【００４３】 ［正孔輸送層］ 正孔輸送層４の材料としては、従来、正孔輸送層の構成材料として用いられている材料であればよく、例えば、前述の正孔注入層に使用される正孔輸送性化合物として例示したものが挙げられる。 ・・・省略・・・ 【００４７】 正孔輸送層の膜厚は、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上であり、また通常３００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下である。 【００４８】 上記したように少なくとも正孔注入層３又は正孔輸送層４は厚く塗布されることが好ましいので、陽極２から発光層５までの正孔注入層３及び／又は正孔輸送層４の膜厚の合計は少なくとも１００ｎｍであることが好ましい。 【００４９】 ［発光層］ 赤緑混合発光層と青発光層の発光層は有機ＥＬ材料を含み、好ましくは、正孔輸送の性質を有する化合物（正孔輸送性化合物）、或いは、電子輸送の性質を有する化合物（電子輸送性化合物）を含有させることもできる。有機ＥＬ材料をドーパント材料として使用し、正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物などをホスト材料として適宜使用してもよい。有機ＥＬ材料については特に限定はなく、所望の発光波長で発光し、発光効率が良好である物質を用いればよい。 ・・・省略・・・ 【００６６】 発光層の膜厚は通常３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、また、通常２００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下の範囲である。発光層の膜厚が、薄すぎると膜に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると駆動電圧が上昇する可能性がある。 【００６７】 ［電子輸送層］ 電子輸送層７は、有機ＥＬパネルの発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極から注入された電子を効率よく発光層の方向に輸送することができる化合物より形成される。 ・・・省略・・・ 【００７１】 電子輸送層の膜厚は、通常１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、また、通常３００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下の範囲である。 【００７２】 ［電子注入層］ 電子注入層８は、陰極から注入された電子を効率良く発光層へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行うには、電子注入層を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウムなどのアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属、それらの化合物（ＣｓＦ、Ｃｓ2ＣＯ3、Ｌｉ2Ｏ、ＬｉＦ）など用いられ、その膜厚は通常０．１ｎｍ以上、５ｎｍ以下が好ましい。 【００７３】 更に、バソフェナントロリンなどの含窒素複素環化合物や８－ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウムなどのアルカリ金属をドープすることにより、電子注入輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となる。この場合の膜厚は、通常、５ｎｍ以上、中でも１０ｎｍ以上が好ましく、また、通常２００ｎｍ以下、中でも１００ｎｍ以下が好ましい。 ・・・省略・・・ 【実施例】 【００７６】 以下、本発明の実施例の一例を図面を参照しつつ詳細に説明する。 【００７７】 図３～図１０は本発明が適用された有機ＥＬパネルの製造方法の製造過程における基板とその上に形成された構造物を示す断面図である。かかる製造過程を下記の（ａ）補助電極形成工程、（ｂ）陽極形成工程、（ｃ）正孔輸送層形成工程、（ｄ）塗布発光層形成工程、及び（ｅ）蒸着発光層形成工程の順に説明する。 【００７８】 （ａ）補助電極形成工程 先ず、例えば、図３に示すように、洗浄された厚さ０．７ｍｍのガラス板からなる透明な基板１を用意する。基板１の主面上に、該主面から離れて配置された非密着若しくは密着のマスク（図示せず）を用いたスパッタリング法によってＡｌＮｄ（アルミニウム－ネオジウム合金）の補助電極ＢＬが形成される。マスクのパターン開口を介してＡｌＮｄターゲットの飛沫材料を基板の所定部分に付着させて、エッジにテーパが付いた所定パターンの補助電極が得られる。基板１のＸＹ表面上においてＸ方向に平行に伸長する複数の帯状の補助電極ＢＬが一定ピッチで形成される。なお、補助電極ＢＬは次工程で成膜される陽極２への給電ラインであり、その幅がその並置されるピッチよりも小さくなるように形成される。 【００７９】 補助電極ＢＬは同一断面形状で形成されており、互いに平行に配置されており、補助電極ＢＬ同士の間に基板１の表面が露出される。例えば、各補助電極ＢＬの厚さは１５０ｎｍであり、その幅は５０μｍであり、隣接の補助電極ＢＬの離間距離は３００μｍである。 【００８０】 また、図３においては、補助電極ＢＬの伸張方向Ｘに直交する並置方向Ｙに沿った断面を示しており、このことは以下の図においても同様である。 【００８１】 （ｂ）陽極形成工程 図４に示すように、基板１の主面から離れて配置されたマスクを用いたスパッタリング法によって、基板１の主面及び補助電極ＢＬ上にＩＺＯ（Ｉｎ2Ｏ3－ＺｎＯ）の透明陽極２が形成される。補助電極ＢＬを含む基板１上にマスクのパターン開口を介してＩＺＯターゲットの飛沫材料を付着させて、エッジにテーパが付いた所定パターンのＩＺＯ膜が陽極２（透明導電性膜）として得られる。該飛沫材料がマスク開口からマスク基板間に回り込むために、透明陽極２の主面の平滑主面２Ａからその縁部２Ｂに向けて膜厚が漸次減少するテーパ側面２Ｃが形成される。 【００８２】 陽極２は補助電極ＢＬと隣接の補助電極間の基板領域（凹部）に亘ってこれらを覆うように形成され、補助電極ＢＬ間の領域では基板１上に直接接触する。陽極２の厚さは例えば、１０００ｎｍである。 【００８３】 （ｃ）正孔注入・輸送層形成工程 先ず、エキシマ光照射装置（図示せず）を用いて前処理として、陽極２上にＵＶ／Ｏ3（紫外線／オゾン）が照射され、ＩＺＯ表面を洗浄する。 【００８４】 正孔注入層材料として、ホストとしてＰＥＤＯＴ（ポリ３，４－エチレンジオキシチオフェン）とドーパントとしてＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）を用いた固定分濃度１ｗｔ％の水分散溶液を調製しておく。 【００８５】 前処理後、図５に示すようにインクジェット装置にて正孔注入層材料用の液滴Ｌｑがインクジェットヘッド１２により陽極２の全面上へ塗布される。例えば、インクジェットヘッド１２を陽極２上のＸＹ平面においてラスタスキャン移動させることにより、塗布された液滴Ｌｑの膜の縁部同士が繋がって陽極２の縁部と近傍の基板をも覆う液滴膜が成膜される。 【００８６】 次に、真空乾燥装置を用いてかかる液滴膜は気体圧力０．１～５０Ｐａにて２分間に亘り真空乾燥され、２３０℃での１時間に亘る加熱処理により焼成される。図６に示すように液滴の溶媒が蒸発して陽極２の縁部をも覆う硬化した正孔注入層３が得られる。機能積層体の正孔注入層３の端部の少なくとも一部は補助電極ＢＬに接することなく基板１に達している。 【００８７】 かかる正孔注入層と同様に、インクジェット法により、１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）シクロヘキサンの所定濃度の有機溶媒液滴を用いて、正孔輸送層４が図７に示すように正孔注入層３の全面と近傍の基板上に塗布、乾燥される。これら正孔注入層３及び正孔輸送層４の厚さは例えば、それぞれ５０ｎｍである。 【００８８】 （ｄ）塗布発光層形成工程 赤緑混合発光層材料として、ホストとしてＢａｌｑ（Bis-(2-methyl-8- quinolinolato)(p-phenylphenolato)aluminum)を、ドーパントとしてＨｅｘ－Ｉｒ（ｐｈｑ）３（Tris[2-(4-n-hexylphenyl)quinoline)]iridium(III)）を用いた固定分濃度６ｗｔ％の有機溶液を調製しておく。 【００８９】 上述のインクジェット法と同様にインクジェットヘッド１２により、図８に示すように、かかる赤緑混合発光層材料液滴Ｌｑが正孔輸送層４の全面上へ塗布される。 【００９０】 次に、真空乾燥装置を用いて液滴膜は気体圧力０．１～５０Ｐａにて２分間に亘って真空乾燥され、そして、１０分間に亘る１３０℃での加熱処理により焼成される。この結果、図９に示すように、正孔輸送層４を覆う硬化した赤緑混合発光層５が得られる。赤緑混合発光層５の厚さは例えば、４０ｎｍである。 【００９１】 （ｅ）蒸着発光層形成工程 真空蒸着装置を用いて、赤緑混合発光層５上に、ホストの９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン（所謂、ＡＤＮ）と、濃度６ｗｔ％となるようにドーパントの４，４’－ビス（２、２’－ジフェニルビニル）ビフェニル（所謂、ＤＰＶＢｉ）とが共に真空蒸着され、これにより青発光層６が例えば、１５ｎｍの厚さで形成される。 【００９２】 次に、青発光層６上に真空蒸着法にてＡｌｑ３が真空蒸着され、これによりＡｌｑ３の電子輸送層７が例えば、３０ｎｍの厚さで形成される。 【００９３】 次いで、電子輸送層７上に真空蒸着法にてＬｉＦ（フッ化リチウム）が真空蒸着され、これにより電子注入層８が例えば、１ｎｍの厚さで形成される。 【００９４】 最後に、電子注入層８上に真空蒸着法にて所定パターン開口のマスクを用いてＡｌ（アルミニウム）が真空蒸着され、これにより陰極９が例えば、８０ｎｍの厚さで形成される。図１０に示すように、ここで正孔注入層３から電子注入層８まで機能積層体ＦＬＢが形成される。陰極９は、補助電極ＢＬの伸張方向Ｘに直交する並置方向Ｙに沿って透明陽極２（補助電極ＢＬ）と交差するように帯状に成膜される。対向電極膜の陰極９の端部の少なくとも一部は補助電極ＢＬ及び透明陽極２に接することなく基板１に達している。機能積層体ＦＬＢを挟む陽極２と陰極９が重なる部分は有機ＥＬパネルの発光エリアを画定する。その後、封止工程を経て、封止された有機ＥＬパネルを得ることができる。 【００９５】 このように実施例によれば、（ａ）補助電極形成工程、（ｂ）陽極形成工程、（ｃ）正孔輸送層形成工程、（ｄ）塗布発光層形成工程及び（ｅ）蒸着発光層形成工程によって有機ＥＬパネルが製造されている。上記実施例では、青発光層６を真空蒸着法により成膜したが、発光層すべてをインクジェット塗布工程と乾燥工程の組で成膜して、それぞれの機能を果たす機能層ごとに塗布と乾燥を順次繰り返して、図１０に示すように、多層の機能積層体ＦＬＢ（正孔注入層３／正孔輸送層４／赤緑混合発光層５／青発光層６／電子輸送層７）が形成されてもよい。 【００９６】 上記した実施例においては、補助電極ＢＬとしてＡｌＮｄなどの金属材料が用いられ、その補助電極ＢＬの上に透明導電性膜の陽極１２が積層されて、発光層で発光した光が補助電極ＢＬで拡散されるので、有機ＥＬパネルの開口率を向上させることができる。 【００９７】 例えば、従来の有機ＬＥＤでは絶縁性のバンク材が用いられており、そのバンク材は一般的にポリイミド材質など可視域に吸収がある材料の使用が多いため、陰極の金属色である色合いに対して外観を損ねる場合がある。また、可視域に吸収材料があるため、発光した光がバンクで損失する可能性がある。これに対し、上記した実施例においては補助電極ＢＬとしてＡｌＮｄなどの金属が用いられているので、陰極９のＡｌの金属色と同等で外観を損ねることがない。また、発光した光が補助電極ＢＬで拡散しても損失することなく、有機ＥＬパネルから放出されるので従来よりも高開口率を得ることができる。更に、補助電極ＢＬの材料の電気抵抗率は陽極２の材料のそれより小さく、また補助電極ＢＬに陽極２が直接接触するので、有機ＥＬパネルに効率よく給電することができる。更に、上記したように開口率の増加のために発光した光を効率より放出させることができるので、所望の光量を得るために従来の素子より消費電力を低減させることができる。 【００９８】 上記した実施例においては、陽極２（透明導電性膜）上に正孔注入層３及び正孔輸送層４の２層が形成されているが、２層が形成されることに限定されず、正孔注入層又は正孔輸送層の１層だけ、或いは正孔注入層と正孔輸送層に電子阻止層（図示せず）を加えた３層以上が発光層までに形成されても良い。 【００９９】 なお、上記した実施例における基板１、補助電極ＢＬ、陽極２、正孔注入層３及び正孔輸送層４、赤緑混合発光層５、青発光層６、電子輸送層７、電子注入層８及び陰極９の各材料は上記したものに限定されない。例えば、補助電極ＢＬの材料としてはＡｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ａｕなどの金属又はそれらの合金を用いることができる。 【０１００】 また、上記した実施例において示した各工程での各膜の形成方法、各膜の幅及び厚さ、加熱温度、加熱時間などの条件は一例に過ぎず、本発明はこれに限定されない。 【０１０１】 更に、補助電極は必ずしも同一断面形状に限定されず、またライン伸張方向において同一の長さである必要はない。」 （２）図１ ［図：0001382112000001.jpg］ （３）図２ ［図：0001382112000002.jpg］ （４）図３ ［図：0001382112000003.jpg］ （５）図４ ［図：0001382112000004.jpg］ （６）図５ ［図：0001382112000005.jpg］ （７）図６ ［図：0001382112000006.jpg］ （８）図７ ［図：0001382112000007.jpg］ （９）図８ ［図：0001382112000008.jpg］ （１０）図９ ［図：0001382112000009.jpg］ （１１）図１０ ［図：0001382112000010.jpg］ ２ 引用発明 引用文献１の上記１の記載に基づけば、引用文献１には、有機ＥＬパネルとして、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。なお、陽極２を透明導電性膜の陽極２に統一した。 「 基板１上に形成された透明導電性膜の陽極２と、この上に積層された機能積層体ＦＬＢと、この上に積層された陰極９とから構成される有機ＥＬパネルであって、 透明導電性膜の陽極２と陰極９に挟まれ且つこれらに重なる機能積層体ＦＬＢの部分が発光部となり、基板１側から光が取り出され 基板１上には、複数の長手の補助電極ＢＬがＸ方向に伸長して平行にストライプ状に形成され、補助電極ＢＬは、透明導電性膜の陽極２に直接覆われ電気的に接続される形態で形成されて透明導電性膜の陽極２に電源電力を供給し、 複数の補助電極ＢＬを透明導電性膜の陽極２の下部に設けて透明導電性膜の陽極２の膜厚を１μｍを超えるμｍオーダと厚くすることにより、低抵抗化と共に補助電極ＢＬのカバレッジ効果を大きくし透明導電性膜の陽極２自体の平滑化を達成し、かかる透明導電性膜の陽極２の厚膜化による平滑主面は、機能積層体ＦＬＢの機能層の平滑化、膜厚ムラの軽減に貢献し、透明導電性膜の陽極２は、補助電極ＢＬの膜厚を超える膜厚を有し、透明導電性膜の陽極２の膜厚は１μｍ～５μｍである、有機ＥＬパネル。」 第５ 対比・判断 １ 対比 本願発明と引用発明とを対比する。 （１）基材 引用発明の「有機ＥＬパネル」は、「基板１上に形成された透明導電性膜の陽極２と、この上に積層された機能積層体ＦＬＢと、この上に積層された陰極９とから構成され」、「透明導電性膜の陽極２と陰極９に挟まれ且つこれらに重なる機能積層体ＦＬＢの部分が発光部となり、基板１側から光が取り出され」るものである。 上記構成からみて、引用発明の「基板１」は、本願発明の「基材」に相当する。 （２）第１電極、金属グリッド、透明導電層 引用発明の「透明導電性膜の陽極２」及び「補助電極ＢＬ」は、「基板１上には、複数の長手の補助電極ＢＬがＸ方向に伸長して平行にストライプ状に形成され、補助電極ＢＬは、透明導電性膜の陽極２に直接覆われ電気的に接続される形態で形成されて透明導電性膜の陽極２に電源電力を供給」するものである。 ここで、引用発明の「透明導電性膜の陽極２」が層をなすことは明らかである。 そうしてみると、上記（１）の構成及び上記構成からみて、引用発明の「補助電極ＢＬ」及び「透明導電性膜の陽極２」は、それぞれ、本願発明の「金属グリッド」及び「透明導電層」に相当する。 また、引用発明の「補助電極ＢＬ」及び「透明導電性膜の陽極２」は、本願発明の「第１電極」に相当する。また、引用発明の「補助電極ＢＬ」及び「透明導電性膜の陽極２」は、本願発明の「第１電極」の「金属グリッドと透明導電層とを備え」との要件を満たす。 （３）第２電極 上記（１）の構成からみて、引用発明の「陰極９」は、本願発明の「第２電極」に相当する。 （４）発光ユニット 上記（１）の構成からみて、引用発明の「機能積層体ＦＬＢ」は、本願発明の「発光ユニット」に相当する。 （５）有機エレクトロルミネッセンス素子 上記（１）～（４）を総合すると、引用発明の「有機ＥＬパネル」は、本願発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」に相当する。 また、引用発明の「有機ＥＬパネル」は、本願発明の「有機エレクトロルミネッセンス素子」と、「基材と、前記基材上に設けられた第１電極と、前記第１電極上に設けられた発光ユニットと、前記発光ユニット上に設けられた第２電極と」、「を備える」点で共通する。 ２ 一致点及び相違点 以上より、本願発明と引用発明とは、 「 基材と、前記基材上に設けられた第１電極と、前記第１電極上に設けられた発光ユニットと、前記発光ユニット上に設けられた第２電極と、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、 前記第１電極は、金属グリッドと透明導電層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子。」の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点１） 本願発明は、「前記第２電極上に設けられた固体封止層」「を備える」のに対して、引用発明は、固体封止層を備えるかどうかが明らかでない点。 （相違点２） 本願発明は、「前記金属グリッドの最大厚さをＡｎｍとし、前記金属グリッドが存在する部分における前記固体封止層から上層部を除いた前記有機エレクトロルミネッセンス素子の最大厚さをＢｎｍとし、前記金属グリッドが存在しない部分における前記固体封止層から上層部を除いた前記有機エレクトロルミネッセンス素子の最小厚さをＣｎｍとした場合に、Ａ／（Ｂ－Ｃ）≧５．０を満たす」のに対して、引用発明の有機ＥＬパネルの厚さは、このような特定がなされていない点。 ３ 判断 上記相違点について検討する。 （１）相違点１について 引用文献１の【００７７】～【００９４】には、「本発明が適用された有機ＥＬパネルの製造方法」が記載されているところ、【００９４】には、「封止工程を経て、封止された有機ＥＬパネルを得ることができる」と記載されている。そして、有機ＥＬパネルにおいて固体封止層を用いることは、原査定の拒絶理由に引用され、本件出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である特開２００８－４７３５５号公報（以下、同じく「引用文献２」という。）の【００３０】、図２、及び原査定の拒絶理由に引用され、本件出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である特開２０１４－１９７５３７号公報（以下、同じく「引用文献３」という。）の【００３１】、図１に記載されているように、周知技術である。 そうしてみると、引用発明において、固体封止層を備えるようにして上記相違点１に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 （２）相違点２について ア 上記相違点２に係るＡ／（Ｂ－Ｃ）は、ある程度の厚みを有する金属グリッドの最大厚さＡに対して、金属グリッドが存在する部分における固体封止層から上層部を除いた有機エレクトロルミネッセンス素子の最大厚さＢと、金属グリッドが存在しない部分における固体封止層から上層部を除いた有機エレクトロルミネッセンス素子の最小厚さＣとの差であるＢ－Ｃを十分に小さくするという技術思想を数式化したものといえる。 イ 次に、有機ＥＬパネルにおいて、陰極上にさらに保護膜や接着層を形成することは慣用手段であり、引用発明においても、陰極９上に保護膜や接着層を形成することは想定される構成である。ここで、有機ＥＬパネルにおいて陰極上に形成された保護膜や接着層は、平滑化する機能を有するものであって、有機ＥＬパネルの厚さの違いを小さくする方向に機能するものであり、少なくとも、有機ＥＬパネルの厚さの違いを大きくするものではない。 そこで、引用発明において、基板１から陰極９までの有機ＥＬパネルの厚さ（以下「有機ＥＬパネルの厚さ」という。）について、以下に検討する。 ウ 引用発明の「補助電極ＢＬ」及び「透明導電性膜の陽極２」は、「複数の補助電極ＢＬを透明導電性膜の陽極２の下部に設けて透明導電性膜の陽極２の膜厚を１μｍを超えるμｍオーダと厚くすることにより、低抵抗化と共に補助電極ＢＬのカバレッジ効果を大きくし透明導電性膜の陽極自体の平滑化を達成し、かかる透明導電性膜の陽極の厚膜化による平滑主面は、機能積層体ＦＬＢの機能層の平滑化、膜厚ムラの軽減に貢献し、透明導電性膜の陽極２は、補助電極ＢＬの膜厚を超える膜厚を有し、透明導電性膜の陽極２の膜厚は１μｍ～５μｍである」。 このように、引用発明は、補助電極ＢＬに対するカバレッジ効果を利用して、透明導電性膜の陽極２自体に平滑主面を形成し、さらに機能積層体ＦＬＢの機能層も平滑化することを目的として、透明導電性膜の陽極２の膜厚を設定することを示している。ここで、陰極９は平滑化された機能積層体ＦＬＢ上に形成されることから、陰極９の表面も平滑化されることは、当業者にとって明らかである。すると、引用発明は結局、補助電極ＢＬが存在する部分と存在しない部分で、有機ＥＬパネルの厚さの差（Ｂ－Ｃ）が小さくなるように、必要なカバレッジ効果を設定していることになる。 ここで、カバレッジ効果は、補助電極ＢＬの膜厚に応じた程度で必要になることは明らかなことである。つまり、引用文献１の【００１７】に「陽極２は、補助電極ＢＬの膜厚ｔ１を超える膜厚ｔ２」との記載もあるように、平滑化のためには、凹凸の程度に応じてカバレッジ効果を大きくする必要がある。一方で、同じ【００１７】に、透明導電性膜の膜厚と透過率との相反関係について示唆されているように、常に完全な平滑化（Ｂ－Ｃ＝０）を達成する程度に、カバレッジ効果を大きく（透明導電性膜や機能積層体ＦＬＢの機能層の膜厚を厚く）することはできないこともまた、当業者に明らかなことである。そうした技術的背景のもとで引用発明における平滑化を検討するにあたり、その平滑化の程度を、補助電極ＢＬの膜厚に応じた程度（凹凸に応じた程度）として定めることは、当業者が容易に想到し得たことであって、具体的にその程度を、引用文献１にも示された「陽極及び陰極間の短絡防止や陰極断線の抑制」（【０００５】）などの技術課題を確認しながら、補助電極ＢＬの膜厚の５分の１以下（凹凸を５分の１以下とする）に定めることは、当業者が設計的になし得たことである。 そうしてみると、引用発明において、補助電極ＢＬが存在する部分における有機ＥＬパネルの厚さと補助電極ＢＬが存在しない部分における有機ＥＬパネルの厚さの差（Ｂ－Ｃ）を小さくする程度について、補助電極ＢＬの膜厚（Ａ）の５分の１以下とすること、すなわち、上記相違点２に係る本願発明のように「Ａ／（Ｂ－Ｃ）≧５．０を満たす」とすることは、当業者にとって何ら格別の困難性はない。 エ さらに進んで検討する。 引用文献１の実施例として記載された、【００７９】及び【００８２】には、それぞれ、「各補助電極ＢＬの厚さは１５０ｎｍであり」及び「陽極の厚さは、例えば、１０００ｎｍである。」と記載されていて、陽極が補助電極ＢＬの厚さよりも十分厚く、補助電極の有無による厚さの違いを埋めることができる程度の厚さである。さらに、引用文献１の実施例として記載された【００８７】には、陽極２上に形成される「正孔注入層３及び正孔輸送層４の厚さは例えば、それぞれ５０ｎｍである。」と記載されている。仮に、陽極２に３０ｎｍ（１５０ｎｍ／５）以上の凹凸があると、陽極２の表面の凹凸は、陽極２上に形成される正孔注入層３及び正孔輸送層４の厚さに対して６０％（３０ｎｍ／５０ｎｍ）以上もの大きさとなり、不自然なものとなる。さらに、機能積層体ＦＬＢや陰極９の製法からみても、有機ＥＬパネルの厚さのバラツキを大きくする要因はない。 そうしてみると、引用文献１の実施例の記載された有機ＥＬパネルにおいても、補助電極ＢＬの最大厚さに対して、補助電極ＢＬが存在する部分における有機ＥＬパネルの厚さと補助電極ＢＬが存在しない部分における有機ＥＬパネルの厚さの差は、十分に小さいものといえる。 オ 以上のとおりであるから、引用発明において、上記相違点２に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 ４ 効果 本件明細書の【００１５】には、本願発明の効果として「本発明によれば、輝度均一性に優れるとともに、リーク率の低い有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。」と記載されている。金属グリッドの存在によって輝度均一性の効果を奏するところ（同【０００２】～【０００３】）、輝度均一性を確実にするための金属グリッドの厚さＡは、１５０ｎｍ以上が好ましい（同【００３９】）と記載されている。また、Ａ／（Ｂ－Ｃ）の値を大きくすることでリーク率の低減の効果を奏するところ、Ａ／（Ｂ－Ｃ）の値を大きくする手段として、金属グリッドの断面形状を角のない形状や、出来る限り段差の少ない形状にすること（同【００３８】）、金属グリッドの厚さを２０００ｎｍ以下が好ましい（同【００３９】）と記載されている。さらに、固体封止層から上層部と基材とを除いた有機ＥＬ素子の厚さＤを厚くすることでリーク率の低減と折り曲げ前後の電流の整流性の低下の抑制の効果を奏するところ、厚さＤは０．５μｍ～５．０μｍである（同【００５３】）。 これらの効果について、検討する。引用文献１の記載において、補助電極ＢＬの厚さは１５０ｎｍ（引用文献１の【００７９】）、補助電極ＢＬのエッジにテーパが付いていること（同【００７８】、陽極エッジの課題は同【０００５】も参照）、陽極２から陰極９までの有機ＥＬパネルの厚さは１３００ｎｍ程度である（同【００７６】～【００９４】において、１０００＋５０×２＋４０＋１５＋３０＋１＋８０ｎｍ。補助電極ＢＬはカバレッジされるので考慮していない。）。 そうしてみると、引用文献１には、本件明細書において例示された値の範囲内であり、また、補助電極ＢＬの形状も、本件明細書に記載されたのと同様の技術思想が開示されているといえる。 したがって、本件明細書に記載された効果は、引用発明及び引用文献１の記載から予測できる範囲内のことである。 ５ 審判請求人の主張について 審判請求人は、令和２年７月３０日提出の意見書において、「引用文献の記載から本願の請求項１に係る発明の「Ａ／（Ｂ－Ｃ）」という構成要件（（Ｂ－Ｃ）だけでなく金属グリッドの厚さＡを利用した構成要件）に容易に想到するとの論理付けは不可能であると考えます。また、本願の請求項１に係る発明における「５．０」という値は臨界的意義を有することから、引用文献に記載された発明の単なる数値範囲の最適化や好適化といった範疇にも該当しないと考えます。加えて、本願の請求項１に係る発明が奏する各効果は、有利な効果として進歩性を肯定的に推認させるものと考えます。」、また、令和２年１２月９日提出の審判請求書において、「（i）その効果が限定された数値範囲内において奏され、引用発明の示された証拠に開示されていない有利なものであること。（ii）その効果が引用発明が有する効果とは異質なもの、又は同質であるが際だって優れたものであること（すなわち、有利な効果が顕著性を有していること。（iii ）そお効果が出願時の技術水準から当業者が予測できたものでないこと。のいない有利なものであること。」について、「本願発明１の効果は要件（i）、（ii）、（iii ）の全てを満たすことから、本願発明１は進歩性を有すると考えます。」と主張している。 しかしながら、上記３及び４で述べたとおりであるが、念のため補足する。 本願発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子という「物の発明」であり、平滑化の評価方法などの発明ではない。物という視点で考えるとき、すでに引用発明の物は、上記３（２）エで述べたとおり「５．０」という値を満たす蓋然性が十分に高い。そして、電子デバイス一般において層の平滑化という技術課題はきわめて周知であり、すなわち（Ｂ－Ｃ）の値を０にする努力が当業者において広くなされているところ、「５．０」という値を満たす物が格別のものであるとは認められず、あるいは「５．０」という値を満たした物を構成することに格別の困難性は何ら認められない。 また、「５．０」という値を満たした場合の効果（本件明細書の【００１５】）も、上記４で述べたとおり、「５．０」という値を満たす引用発明等の物も奏している副次的なものにすぎず、その主張は採用することができない。 第６ むすび 以上のとおり、本願発明は、引用文献１～３に記載された発明に基づいて、本件出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。