特許拒絶査定不服審判
2020-005419
可変矩形成形型の荷電ビーム描画装置の調整方法、荷電ビーム描画方法、レジストパターンの形成方法、及びフォトマスクの製造方法
- 審判番号
- 2020-005419
- 法域
- 特許
- 審判種別
- 拒絶査定不服審判（拒絶査定不服の審決）
- 出願番号
- 特願2015-189364外部サイト（J-PlatPat）へ移動します
- 請求日
- 2020年04月21日
- 審決日
- 2020年11月11日
- 公報発行日
- 2020年12月25日
- 結論
- 原査定取消（特許/登録すべき）
- 分類
- P18 .537-WYF(H01L)
- データ出所
- 審決公報（SGML）
事件の表示
特願２０１５－１８９３６４号「可変矩形成形型の荷電ビーム描画装置の調整方法、荷電ビーム描画方法、レジストパターンの形成方法、及びフォトマスクの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年４月６日出願公開、特開２０１７－６９２３８号、請求項の数（８）〕について、次のとおり審決する。
結論
【結 論】
原査定を取り消す。
本願の発明は、特許すべきものとする。
理由
文字
【理 由】
本願は、平成２７年９月２８日の出願であって、その請求項１ないし８に係る発明は、令和２年４月２１日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
審決本文（J-PlatPat）
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2020-005419