2018-008478

特願２０１６－２２７５２５「フレキシブル表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年６月２２日出願公開、特開２０１７－１１１４３５、請求項の数（１６）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 第１　手続の経緯 この審判事件に関する出願（本願）は、２０１５年（平成２７年）１２月１５日に大韓民国でされた特許出願に基づくパリ条約の優先権を主張して平成２８年１１月２４日にされた特許出願である。そして、平成３０年２月１５日に特許請求の範囲についての補正（以下、「第１次補正」という。）がされたが、同年２月２３日付けで拒絶査定（原査定）がされ、同年３月１３日に査定の謄本が送達された。 これに対して、同年６月２０日に拒絶査定不服審判が請求され、同時に特許請求の範囲についての補正（以下、「請求時補正」という。）がされた。 その後、平成３１年３月１１日付けで拒絶の理由（以下、「当審拒絶理由」という。）が通知され、同年６月１２日に特許請求の範囲についての補正（以下、「本件補正」という。）がされるとともに、意見書が提出された。 なお、第１次補正後の請求項の数は２０であり、請求時補正後の請求項の数は１８であり、本件補正後の請求項の数は１６である。 第２　本願に係る発明 本願の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１６に係る発明（以下、「本願発明１」ないし「本願発明１６」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１６に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。 「【請求項１】 画像が表示される表示領域と画像が表示されない非表示領域を含み、前記非表示領域内に曲げることができるベンディング領域が具備された基板； 前記基板上の非表示領域に配置され、第１リンク配線および第２リンク配線を含むリンク配線； 前記基板上のベンディング領域に配置された第１バッファ層； 前記基板上のベンディング領域内で前記第１バッファ層上に配置され、前記ベンディング領域内において、前記リンク配線と接続されているベンディング接続配線； 前記基板のベンディング領域内で前記リンク配線と前記ベンディング接続配線との間に配置された第２バッファ層； 前記ベンディング領域に配置された第１コンタクトホール；および 前記ベンディング領域に配置された第２コンタクトホールを含み、 前記第１リンク配線は、前記第１コンタクトホールを通じて前記ベンディング接続配線の一端に接続されて、前記第２リンク配線は、前記第２コンタクトホールを通じて前記ベンディング接続配線の他端と接続されており、 前記ベンディング領域にベンディングモーメントが加えられたときに生じる引張応力と圧縮応力が相殺され、曲げ面に加えられる力が最小となる中立面が、前記ベンディング接続配線内に位置するように、前記ベンディング領域内に配置される各層の厚さが決定されている フレキシブル表示装置。 【請求項２】 前記ベンディング接続配線を取り囲み、前記基板のベンディング領域内で前記第１バッファ層と前記第２バッファ層との間に配置された無機膜層をさらに含む請求項１に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項３】 前記第１バッファ層は、前記無機膜層の真下に配置され、前記第２バッファ層は、前記無機膜層の真上に配置されることを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項４】 前記第１バッファ層と前記第２バッファ層は、互いに同一の物質からなり、前記第１バッファ層と前記第２バッファ層は、同一の厚さを有することを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項５】 前記第２バッファ層上に配置され、前記第２バッファ層よりも高い耐水性を有するマルチバッファ層をさらに含む請求項４に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項６】 ＧＩＰ領域、前記表示領域及び前記非表示領域のうち少なくとも一つの領域に配置された遮光層がさらに備えられており、 前記表示領域に配置された遮光層は、前記表示領域に位置する薄膜トランジスタのアクティブ層に光が入射するのを防止するためのものであり、 前記ベンディング接続配線は、前記ＧＩＰ領域の前記遮光層と同じ層に配置され、前記ＧＩＰ領域及び前記表示領域に配置された前記遮光層と同一の物質からなることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項７】 前記第１リンク配線は、前記表示領域内で薄膜トランジスタの電極と接続され、前記ベンディング領域内で前記ベンディング接続配線の一端に接続され、 前記第２リンク配線は、前記非表示領域内でパッドと接続されて、前記ベンディング領域内で前記ベンディング接続配線の他端と接続される、請求項１に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項８】 前記第１リンク配線と前記第２リンク配線は、互いに平行に配列されていることを特徴とする請求項７に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項９】 前記第２リンク配線に接続される駆動フィルムをさらに含み、 前記駆動フィルムは、前記基板に平行に配列されていることを特徴とする請求項７に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項１０】 前記第１バッファ層と前記第２バッファ層は、ポリイミドからなる請求項１に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項１１】 前記マルチバッファ層上に配置されたアクティブ層；及び 前記アクティブ層上に配置されたパッシベーション層をさらに含む請求項５に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項１２】 画像が表示される表示領域と画像が表示されない非表示領域を含み、前記非表示領域内に曲げることができるベンディング領域が具備された基板； 表示領域内に配置され、第１層に位置した電極を含む薄膜トランジスタ； 前記非表示領域のベンディング領域内で前記薄膜トランジスタの電極を含む前記第１層の下に位置する第２層に配置されるベンディング接続配線； 前記第２層に位置する前記ベンディング接続配線と、前記第１層に位置する前記薄膜トランジスタの電極を互いに電気的に接続する、前記非表示領域に配置されたリンク配線； 第１バッファ層と第２バッファ層であって、前記ベンディング接続配線は、前記ベンディング領域内で前記第１バッファ層と前記第２バッファ層との間に配置される、第１バッファ層と第２バッファ層； 前記ベンディング領域に配置された第１コンタクトホール； 前記ベンディング領域に配置された第２コンタクトホール； 第１端および第２端を含む第１リンク配線であって、前記第１リンク配線の前記第１端は、前記薄膜トランジスタの電極と接続されて、前記第１リンク配線の前記第２端は、第１コンタクトホールを通じて前記ベンディング接続配線の第１端と接続される、第１リンク配線；および 第１端および第２端を含む第２リンク配線であって、前記第２リンク配線の前記第１端は、前記非表示領域内でパッドと接続されて、前記第２リンク配線の前記第２端は、第２コンタクトホールを通じて前記ベンディング接続配線の第２端と接続される、第２リンク配線を含み、 前記ベンディング領域にベンディングモーメントが加えられたときに生じる引張応力と圧縮応力が相殺され、曲げ面に加えられる力が最小となる中立面が、前記ベンディング接続配線内に位置するように、前記ベンディング領域内に配置される各層の厚さが決定されている フレキシブル表示装置。 【請求項１３】 前記基板上で、前記第１バッファ層と前記第２バッファ層との間に配置された無機膜層をさらに含む請求項１２に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項１４】 前記第１バッファ層は、前記無機膜層の真下に配置され、前記第２バッファ層は、前記無機膜層の真上に配置されることを特徴とする請求項１３に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項１５】 前記第１バッファ層と前記第２バッファ層は、互いに同一の物質からなり、前記第１バッファ層と前記第２バッファ層は、同一の厚さを有することを特徴とする請求項１２に記載のフレキシブル表示装置。 【請求項１６】 ＧＩＰ領域、前記表示領域及び前記非表示領域のうち少なくとも一つの領域に配置された遮光層がさらに備えられており、 前記表示領域に配置された遮光層は、前記表示領域に位置する薄膜トランジスタのアクティブ層に光が入射するのを防止するためのものであり、 前記ベンディング接続配線は、前記ＧＩＰ領域の前記遮光層と同じ層に配置され、前記ＧＩＰ領域及び前記表示領域に配置された前記遮光層と同一の物質からなることを特徴とする請求項１２に記載のフレキシブル表示装置。」 なお、本願発明２ないし本願発明１１は、本願発明１の構成を全て含み、本願発明１３ないし本願発明１６は、本願発明１２の構成を全て含む。 第３　原査定の理由の概要 （進歩性） 第１次補正後の請求項１ないし請求項５及び請求項７ないし請求項１９に係る発明は、引用文献１及び引用文献２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第１次補正後の請求項６及び請求項２０に係る発明は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 したがって、第１次補正後の請求項１ないし請求項２０に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 引用文献１：特開２０１４－２３２３００号公報 引用文献２：特表２０１２－５１８８９２号公報 引用文献３：特開２０１３－１７８５２５号公報 第４　当審拒絶理由の概要 １　理由１（サポート要件） 請求時補正後の請求項８に係る「フレキシブル表示装置」は、「ベンディング領域に配置された第１コンタクトホール」及び「ベンディング領域に配置された第２コンタクトホール」に加えてさらに「ベンディング領域に配置された少なくとも一つのコンタクトホール」を含んでいることになるが、そのようなことは、発明の詳細な説明に記載されていない。 そうすると、請求時補正後の請求項８に係る発明は、発明の詳細な説明に記載したものでない。請求時補正後の請求項８の記載を引用して記載された請求時補正後の請求項９に係る発明も、同様である。 したがって、本願は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。 ２　理由２（明確性） 請求時補正後の請求項６及び請求項１８に係る発明は、以下に述べるとおり、明確でない。 したがって、本願は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 （１）請求時補正後の請求項６及び請求項１８には、「遮光層」が「ＧＩＰ領域、前記表示領域及び前記非表示領域のうち少なくとも一つの領域に配置され」るものであって、かつ「前記表示領域に位置する薄膜トランジスタのアクティブ層に光が入射するのを防止するための」ものである旨の記載がある。 しかし、「ＧＩＰ領域」や「非表示領域」に配置された「遮光層」は、「前記表示領域に位置する薄膜トランジスタのアクティブ層に光が入射するのを防止する」ものではないから、前記記載は技術的に不合理であって、請求時補正後の請求項６及び請求項１８に係る発明がどのようなものか明確でない。 （２）請求時補正後の請求項６には、「ベンディング接続配線は」「ＧＩＰ領域に」「配置され」る旨の記載があるが、同項が記載を引用する請求時補正後の請求項１には、「ベンディング接続配線」は「ベンディング領域」に配置される旨の記載がある。 したがって、請求時補正後の請求項６の記載は、請求時補正後の請求項１の記載と矛盾しており、明確でない。 請求時補正後の請求項１８の記載についても、同様のことがいえる。 第５　当審拒絶理由についての当合議体の判断 １　理由１（サポート要件） 本件補正により、請求時補正後の請求項８及び請求項９は削除された。 したがって、当審拒絶理由のうち、理由１は解消した。 ２　理由２（明確性） 本件補正により、本件補正後の請求項６及び請求項１６（請求時補正後の請求項６及び請求項１８）は、以下に述べるとおり、明確になった。 したがって、当審拒絶理由のうち、理由２も解消した。 （１）本件補正により、本件補正後の請求項６及び請求項１６（請求時補正後の請求項６及び請求項１８）の「前記表示領域に位置する薄膜トランジスタのアクティブ層に光が入射するのを防止する」という記載は、「ＧＩＰ領域」や「非表示領域」に配置された「遮光層」についてのものではなく、「表示領域に配置された遮光層」についてのものであることが明らかになった結果、技術的に不合理な点はなくなった。 （２）本件補正により、本件補正後の請求項６（請求時補正後の請求項６）には、「ベンディング接続配線は、前記ＧＩＰ領域の前記遮光層と同じ層に配置され」る旨が記載されることになった結果、本件補正後の請求項６（請求時補正後の請求項６）の記載は、本件補正後の請求項１（請求時補正後の請求項１）の記載と整合するものとなった。 本件補正後の請求項１６（請求時補正後の請求項１８）の記載についても、同様である。 第６　原査定の理由についての当合議体の判断 １　引用文献に記載された発明等 （１）引用文献１ ア　引用文献１の記載 引用文献１には、以下の記載がある。下線は、当合議体が付した。 「【００１９】 図１に示すように、本願の第１実施形態に係るフレキシブル表示装置１００は、基板１０１と、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬと、複数のパッドＰＤと、複数のリンクＬＫと、複数の絶縁膜１０２，１０３，１０４，及び１０５（図１には図示せず。後述の図２参照）と、を備えて構成されている。基板１０１は、表示領域ＡＡ、及び表示領域ＡＡの外周であって、リンク領域ＬＫＡ及びパッド領域ＰＤＡを有している非表示領域ＮＡで定義される。基板１０１は、柔軟性材料で作られている。ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬは、基板１０１上の表示領域ＡＡに複数の画素領域ＰＡが定義されるように、相互に交差する方向に形成されている。複数のパッドＰＤは、パッド領域ＰＤＡに形成される。複数のパッドＰＤは、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬのいずれか一つの信号ラインに駆動信号を供給するための外部回路が接続される。複数のリンクＬＫは、リンク領域ＬＫＡに形成される。複数のリンクＬＫは、複数のパッドＰＤのそれぞれと信号ラインＧＬ，ＤＬとを接続する。複数の絶縁膜１０２，１０３，１０４，１０５は、基板上の全面に形成される。複数の絶縁膜１０２，１０３，１０４，１０５は、導電層同士を絶縁させる。」 「【００２１】 一例として、図２に示すように、フレキシブル表示装置１００は、柔軟性材料で作られた基板１０１、基板１０１上の全面に形成されているバッファー膜１０２、及びバッファー膜１０２上の表示領域に形成されている複数の薄膜トランジスタＴＦＴ及び複数の発光素子ＥＬを備えている。」 「【００２８】 ゲート絶縁膜１０３は、バッファー膜１０２上の全面に活性層１１１を覆うように形成されている。ゲート電極１１３は、ゲート絶縁膜１０３上に、活性層１１１のチャンネル領域１１１ａに少なくとも一部がオーバーラップするように形成されている。ゲート電極１１３は、ゲートラインＧＬに接続される。層間絶縁膜１０４は、ゲート絶縁膜１０３上にゲート電極１１３を覆うように形成されている。」 「【００３１】 保護膜１０５は、層間絶縁膜１０４上にソース電極１１４ａとドレイン電極１１４ｂを覆うように形成される。なお、図２には図示していないが、ゲートライン（図１のＧＬ）がゲート電極１１３と共にゲート絶縁膜１０３上に形成されている。」 「【００３９】 図１に示すように、非表示領域ＮＡのいずれか一つの領域（ＮＡ１、図１で表示領域ＡＡの周辺領域の右辺に相応）は、複数のパッドＰＤが配置されているパッド領域ＰＤＡ、及びパッド領域ＰＤＡと表示領域ＡＡとの間に形成されており、複数のリンクＬＫが配置されているリンク領域ＬＫＡを有している。また、一側領域ＮＡ１のうち、基板１０１の一辺に平行な一部領域は、パッドＰＤが基板１０１の背面に配置されるように折り曲がるベンディング領域ＢＡとなっている。」 「【００４１】 ここで、リンク領域ＬＫＡの少なくとも一部がベンディング領域ＢＡとなるため、複数のリンクＬＫのそれぞれの一部はベンディング領域ＢＡ上に配置されるようになる。図１では、リンク領域ＬＫの一部がベンディング領域ＢＡになっているとしたが、これは例示に過ぎず、ベンディング領域ＢＡはリンク領域ＬＫＡよりも広くなっていてもよい。 【００４２】 図３に示すように、基板１０１のベンディング領域ＢＡを折り曲げて、パッド領域ＰＤＡのパッド（図１のＰＤ）が基板１０１の背面に配置されるようにする。 【００４３】 ところで、バッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３、層間絶縁膜１０４の内の少なくとも一つの絶縁材料として、無機絶縁材料が使われることがある。このような絶縁材料は、一般的に、基板１０１に使われる柔軟性材料に比べてより高い剛性を帯びる。よって、絶縁材料、特に、無機絶縁材料がベンディング領域ＢＡに配置されていると、絶縁材料はベンディング領域ＢＡが曲がるに従って曲げ応力を受ける。そのため、絶縁材料にクラックが発生する可能性がある。この絶縁材料のクラックがリンクＬＫにも伝達され、リンクＬＫの断線などの不良につながる原因となる。 【００４４】 このように絶縁材料に加えられる曲げ応力によるリンクＬＫの断線不良を防止するには、ベンディング領域ＢＡに配置される絶縁材料を最小化する必要がある。 【００４５】 そこで、本願の第１実施形態に係るフレキシブル表示装置は、ベンディング領域ＢＡに設けられる第１ベンディングホールをさらに備える。 【００４６】 図４及び図５に示すように、フレキシブル表示装置１００は、エッチング防止層１０６と、第１ベンディングホールＢＨ１と、をさらに備えて構成されている。エッチング防止層１０６は、基板１０１上に非表示領域ＮＡのうち少なくとも一つの領域ＮＡ１内に形成される。第１ベンディングホールＢＨ１は、ベンディング領域ＢＡ内に形成される。ここで、第１ベンディングホールＢＨ１は、バッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３、層間絶縁膜１０４及び保護膜１０５を含む複数の絶縁膜のうち、リンクＬＫの下部に位置している少なくとも一つを貫通している。 【００４７】 第１ベンディングホールＢＨ１は、エッチング防止層１０６の少なくとも一部を露出させるように形成すればよい。このとき、層間絶縁膜１０４上に形成された各リンクＬＫは、第１ベンディングホールＢＨ１により露出されたエッチング防止層１０６の少なくとも一部と直接接触することとなる。」 「【図１】 」 「【図２】 」 「【図３】 」 「【図４】 」 「【図５】 」 イ　引用文献１に記載された発明 引用文献１の前記アの記載によれば、以下のことが認められる。 （ア）引用文献１には、フレキシブル表示装置１００が記載されている（【００１９】）。 （イ）フレキシブル表示装置１００は、基板１０１と、ゲートラインＧＬと、複数のパッドＰＤと、複数のリンクＬＫと、複数の絶縁膜１０２、１０３、１０４及び１０５とを備え（【００１９】、図１、図２）、さらに、エッチング防止層１０６と、第１ベンディングホールＢＨ１とを備える（【００４６】、図４、図５）。 （ウ）基板１０１は、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡとで定義される（【００１９】、図１）。そして、非表示領域ＮＡは、パッド領域ＰＤＡと、パッド領域ＰＤＡと表示領域ＡＡとの間に形成されるリンク領域ＬＫＡとを有し、リンク領域ＬＫＡの一部は、折り曲がるベンディング領域ＢＡとなる（【００３９】、【００４１】、図１、図３）。 （エ）ゲートラインＧＬは、表示領域ＡＡに形成される（【００１９】、図１、図４、図５）。 （オ）複数のパッドＰＤは、パッド領域ＰＤＡに形成される（【００１９】、図１、図４、図５）。 （カ）複数のリンクＬＫは、リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し（【００１９】、図１）、複数のリンクＬＫのそれぞれの一部は、ベンディング領域ＢＡ上に配置される（【００４１】、図４、図５）。 （キ）一例として、絶縁膜１０２、１０３、１０４及び１０５は、基板１０１上の全面に形成されるバッファー膜１０２、バッファー膜１０２上の全面に形成されるゲート絶縁膜１０３、ゲート絶縁膜１０３上に形成される層間絶縁膜１０４、及び層間絶縁膜１０４上に形成される保護膜１０５である（【００２１】、【００２８】、【００３１】、図２）。 （ク）エッチング防止層１０６は、基板１０１上に形成され、かつ、非表示領域ＮＡ内に形成される（【００４６】、図４、図５）。 （ケ）第１ベンディングホールＢＨ１は、ベンディング領域ＢＡ内に形成され、バッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３、層間絶縁膜１０４及び保護膜１０５を含む複数の絶縁膜のうち、リンクＬＫの下部に位置している少なくとも一つを貫通して（【００４６】）、エッチング防止層１０６の一部を露出させるように形成される（【００４７】）。ここで、図５を参照すると、第１ベンディングホールＢＨ１は、具体的には、リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４を貫通していることが見て取れる。 （コ）複数のリンクＬＫは、層間絶縁膜１０４上に形成され、各リンクＬＫの一部は、第１ベンディングホールＢＨ１により露出されたエッチング防止層１０６の一部と直接接触する（【００４７】、図５）。 （サ）以上のことをまとめると、引用文献１には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。 「表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡとで定義される基板１０１であって、非表示領域ＮＡは、パッド領域ＰＤＡと、パッド領域ＰＤＡと表示領域ＡＡとの間に形成されるリンク領域ＬＫＡとを有し、リンク領域ＬＫＡの一部は折り曲がるベンディング領域ＢＡとなる基板１０１と、 表示領域ＡＡに形成されるゲートラインＧＬと、 パッド領域ＰＤＡに形成される複数のパッドＰＤと、 リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される複数のリンクＬＫと、 基板１０１上の全面に形成されるバッファー膜１０２と、 バッファー膜１０２上の全面に形成されるゲート絶縁膜１０３と、 ゲート絶縁膜１０３上に形成される層間絶縁膜１０４と、 層間絶縁膜１０４上に形成される保護膜１０５と、 基板１０１上に形成され、かつ、非表示領域ＮＡ内に形成されるエッチング防止層１０６と、 第１ベンディングホールＢＨ１とを備え、 第１ベンディングホールＢＨ１は、ベンディング領域ＢＡ内に形成され、リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４を貫通して、エッチング防止層１０６の一部を露出させるように形成され、 複数のリンクＬＫは、層間絶縁膜１０４上に形成され、各リンクＬＫの一部は、第１ベンディングホールＢＨ１により露出されたエッチング防止層１０６の一部と直接接触する フレキシブル表示装置１００。」 （２）引用文献２ ア　引用文献２の記載 引用文献２には、以下の記載がある。下線は、当合議体が付した。 「【０００４】 ＬＥＤデバイスから光を放射するために、少なくとも一方の電極は透明である。透明電極は通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）のような透明な導電性酸化物から形成される。しかしながら、透明な導電性酸化物は脆弱であり、応力が加えられるときにクラックが入るので、フレキシブルデバイスの場合に特に問題となる。クラックは電極の導電率を下げ、発光材料を劣化させる可能性がある。」 「【０００６】 アクティブマトリックス制御素子を形成する１つの一般的な従来技術の方法は通常、シリコン等の半導体材料の薄膜をガラス基板上に堆積させ、次いでフォトリソグラフィ工程を通じて半導体材料をトランジスタ及びキャパシタに形成する。薄膜シリコンは、アモルファス又は多結晶のいずれかとすることができる。アモルファスシリコン又は多結晶シリコンから作製される薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、結晶シリコンウェハーにおいて作製される従来のトランジスタと比較して相対的に大きく、かつ性能が低い。…（中略）…フレキシブルへの応用例では、相対的に大きな薄膜構成材料は大きな応力を受けやすく、その応力が薄膜構成材料の性能を変更し、劣化させる。」 「【００１５】 図１（断面図）及び図２（平面図）を参照すると、本発明の一実施形態において、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が、表示エリア２１を有する基板１０と、基板１０よりも薄く、基板１０の表面上に形成される接着層１８とを備える。…（中略）…複数のチップレット２０が、接着層１８に接着され、各チップレット２０は少なくとも１つの接続パッド２４を有し、複数のチップレット２０が表示エリア２１内に分散配置され、接着層１８の少なくとも一部１８ｃがチップレット２０上に延在する。複数のボトム電極１２が表示エリア２１内の接着層１８上に形成され、各ボトム電極１２は１つのチップレット２０の接続パッド２４に電気的に接続される。少なくとも１つの発光材料層１４がボトム電極１２上に形成され、少なくとも１つの発光材料層１４上にトップ電極１６が形成される。電極１２、１６及び少なくとも１つの発光材料層１４は、接着層１８よりも薄い発光ダイオード１５、たとえば、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を形成する。チップレット２０は、接続パッド２４を通してＬＥＤ１５のボトム電極１２に電流を与え、少なくとも１つの発光材料層１４を駆動して、光を放射する。チップレット２０は、バスワイヤ２８（図２）によって、チップレット２０に接続される外部コントローラー２６によって制御することができる。チップレット２０の上側部分、接続パッド２４からボトム電極１２への電気的接続、及びＬＥＤ１５は、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１の動作構成材料を形成する。 【００１６】 接着層１８よりも厚いカバー３０がトップ電極１６上に配置され、基板１０に接着される。チップレット２０の少なくとも一部、ボトム電極１２、少なくとも１つの発光材料層１４、及びトップ電極１６が、構成要素１０、１８、２０、１２、１４、１６、３０によって形成される構造の中立応力面に、又はその近くに配置され、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１の曲げ半径は２ｃｍ未満である。基板及びカバーはフレキシブルにすることができる。…（中略）…ボトム電極１２をパターニングして、図２に示される、個々に制御可能な発光ダイオードピクセル１５を形成することができる。 【００１７】 本発明のいくつかの実施形態では、トップ電極１６と、トップ電極１６上に形成される任意の層との間にバッファー層４０を用いることができる。…（中略）…薄いチップレットほど、大きなフレキシビリティを与える。しかしながら、同時に、チップレットは、チップレット２４内に集積回路２２を構成するだけの十分な厚みを有しなくてはならない。 【００１８】 中立応力面は、構成要素スタックが曲げられるときに応力を受けない平坦な構成要素のスタック内にある面である。平坦な構成要素のスタックは、その隣接する表面にわたって接着される。たとえば、基板に接着されるカバーが２つの平坦な構成要素のスタックを形成する。カバーの外側表面が凹形の形状を形成し、基板の外側表面が凸形の形状を形成するように（上面及び底面）、スタックが曲げられるとき、そのカバーは、凹形の曲面の方向に対して直交する横方向圧縮力を受け、基板は凸形の曲面の方向に対して直交する横方向引張力を受ける。言い換えると、基板が引っ張られるときに、カバーは圧縮される。その圧縮力は、カバーの外側表面において最も大きく、外側表面から離れるのに応じて０まで小さくなり、その後、その力は引張力になり、基板の外側表面まで増加する。そのスタックが反対方向に曲げられる場合には、逆のことが生じる。力が０である構成要素スタック内の点は、中立応力面を形成する。中立応力面は必ずしも平坦ではなく、その位置はスタック内の他の構成要素に依存することに留意されたい。しかしながら、曲げの方向又は量にかかわらず、通常、中立応力面は平坦な構成要素のスタック内の同じ場所を占めることになる。デバイスの曲げ半径は、デバイスが曲げられても動作し続けることができる最小曲率半径である。」 「【００２３】 中立応力面は、それぞれが個々の応力係数を有する複数の層からなる接着されたスタック内の理論的な面である。…（中略）…中立応力面の位置は、材料及び層厚を選択することによって制御することができる。 【００２４】 デバイス厚は、カバー及び基板を含む、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１の全体の厚みと見なされる。中立応力面は概ね中立域の中心に位置し、中立域は、中立応力面のいずれかの側から延在する。用語「中立応力面に、又はその近くに（ある）」は中立域を指しており、「中立応力面に、又はその近くに」ある層は中立域内にある。…（中略）…本発明の一実施形態では、中立応力面は、トップ電極１６及び少なくとも１つの材料層１４が接触する場所（構成要素１７）に位置する。 【００２５】 フレキシブル基板上の無機構成要素は、クラック、スリップ又は層間剥離に起因する破損を生じる。チップレット２０を接着層１８内に配置し、接着層１８の少なくとも一部１８ｃがチップレット２０の一部の上に延在することによって、スリップ及び層間剥離の問題は低減される。詳細には、接着層１８（すなわち、１８ｂ）内にチップレット２０を有することによって、スリップの問題が低減され、チップレット２０が接着層１８の表面に沿って摺動できないようになる。チップレット２０の少なくとも一部の上に延在する接着層の部分１８ｃを有することによって、層間剥離の問題が低減され、チップレット２０は、接着層１８から容易に剥離されないようになる。チップレット２０の少なくとも一部、好ましくは上側部分（たとえば、接続パッド２４）、さらに好ましくは表面を中立応力面に、又はその近くに配置することによって、クラックが低減される。接続パッド２４及び配線接続が配置され、接続障害を最小限に抑えることが望ましいので、チップレット２０の上側表面が特に対象となる。」 「【００２８】 本発明の実施形態において、１つ又は複数の材料層１４の下、又は上、又はその両方に封入層が形成される。既知のように、有機発光材料は水分によって悪影響を及ぼされる。それゆえ、１つ又は複数の発光層１４への水分の透過率を小さくする封入層を使用することによって、ディスプレイの寿命が改善される。そのような封入層は通常、無機薄膜であり、非常に脆弱である。これらの封入層は、基板１０及びカバー３０において頻繁に用いられる。しかしながら、基板１０及びカバー３０は、本発明の一実施形態によれば、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が曲げられるときに最も大きな応力を受け、それゆえ、基板１０及びカバー３０内の任意の無機材料層は破損する可能性が高い。それゆえ、本発明の一実施形態では、封入層４２及び４４によってそれぞれ示されるように、接着層１８上に、又はトップ電極１６上に、無機封入層が設けられる。これらの位置では、封入層が受ける応力は小さく、それゆえ、屈曲応力に耐える可能性が高い。接着層１８上に配置される封入層４２は、スパッタリング、化学気相成長（ＣＶＤ）又は原子層堆積（ＡＬＤ）によって設けることができる。無機材料（二酸化シリコン等）をスパッタリングすることは或る程度の保護を与え、一方、化学気相成長は改善された性能を与える。しかしながら、原子層堆積は、水分透過に対して最も良好な保護を与える。封入層４２は、層内に形成されると、をフォトリソグラフィ技法によってパターニングして、ビア１９を形成することができ、該ビアを通して、ボトム電極をチップレット接続パッド２４に接続することができる。」 「【００３１】 フレキシブル基板１０、接着層１８、オプションのバッファー層４０及びフレキシブルカバー３０の材料及び厚みを注意深く選択し、適合させることによって、チップレット２０の少なくとも一部、たとえば、接続パッド２４が配置される表面、オプションの封入層４２、ボトム電極１２、少なくとも１つの発光材料層１４、トップ電極１６及びオプションの封入層４４を、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１の中立応力面に、又はその近くに配置することができる。…（中略）…フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が、たとえば、巻かれることによって応力を加えられるときに、不可欠な無機構成要素が受ける応力を大幅に削減することができる。」 「【図１】 」 「【図２】 」 イ　引用文献２に記載された事項 引用文献２の前記アの記載によれば、以下のことが認められる。 （ア）引用文献２には、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が記載されている（【００１５】）。 （イ）フレキシブル放射ディスプレイデバイス１は、表示エリア２１を有するフレキシブル基板１０と、基板１０の表面上に形成される接着層１８とを備える（【００１５】、【００１６】）。 （ウ）複数のチップレット２０が接着層１８に接着され、表示エリア２１内に分散配置される（【００１５】）。 （エ）複数のボトム電極１２が表示エリア２１内の接着層１８上に形成され、そのそれぞれがチップレット２０の接続パッド２４に電気的に接続され、発光材料層１４がボトム電極１２上に形成され、発光材料層１４上にトップ電極１６が形成され、ボトム電極１２と発光材料層１４とトップ電極１６とが有機発光ダイオード１５を形成する（【００１５】）。 （オ）フレキシブルカバー３０がトップ電極１６上に配置され、基板１０に接着される（【００１６】）。 （カ）トップ電極１６とトップ電極１６上に形成される任意の層との間にバッファー層４０が形成され（【００１７】）、接着層１８上又はトップ電極１６上に無機封入層４２及び無機封入層４４が形成される（【００２８】）。ここで、図１を参照すると、接着層１８上に無機封入層４２が形成され、トップ電極１６上に無機封入層４４が形成され、無機封入層４４とフレキシブルカバー３０との間にバッファー層４０が形成されることが見て取れる。 （キ）チップレット２０、封入層４２、ボトム電極１２、発光材料層１４、トップ電極１６及び封入層４４は、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１の中立応力面又はその近くに配置することができる（【００３１】）。そして、そのようにすることで、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が巻かれたときにこれらの要素が受ける応力を大幅に削減し、クラックを低減することができる（【０００４】、【０００６】、【００１８】、【００２４】、【００２５】、【００３１】）。 （ク）応力中立面の位置は、フレキシブル基板１０、接着層１８、バッファー層４０及びフレキシブルカバー３０の材料及び厚みを選択することによって制御することができる（【００２３】、【００３１】）。 （ケ）以上のことをまとめると、引用文献２には、以下の事項が記載されている。 「表示エリア２１を有するフレキシブル基板１０と、 基板１０の表面上に形成される接着層１８と、 接着層１８上に形成される無機封入層４２と、 接着層１８に接着され、表示エリア２１内に分散配置される複数のチップレット２０と、 表示エリア２１内の接着層１８上に形成され、それぞれがチップレット２０の接続パッド２４に電気的に接続される複数のボトム電極１２と、ボトム電極１２上に形成される発光材料層１４と、発光材料層１４上に形成されるトップ電極１６とから形成される有機発光ダイオード１５と、 トップ電極１６上に形成される無機封入層４４と、 無機封入層４４上に形成されるバッファー層４０と、 バッファー層４０上に配置され、フレキシブル基板１０と接着されるフレキシブルカバー３０とを備える フレキシブル放射ディスプレイデバイス１において、 チップレット２０、封入層４２、ボトム電極１２、発光材料層１４、トップ電極１６及び封入層４４をフレキシブル放射ディスプレイデバイス１の中立応力面又はその近くに配置すると、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が巻かれたときにこれらの要素が受ける応力を大幅に削減し、クラックを低減することができ、 中立応力面の位置は、フレキシブル基板１０、接着層１８、バッファー層４０及びフレキシブルカバー３０の材料及び厚みを選択することによって制御することができる。」 （３）引用文献３ 引用文献３には、以下の記載がある。 「【００６９】 次に、基板上に導電膜を形成し、パターニングを施すことにより走査線１０２を形成する。走査線１０２としては、導電型を付与する不純物元素がドープされたｐｏｌｙ－ＳｉやＷＳｉＸ（Ｘ＝２．０～２．８）、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍｏ等の導電性材料及びその積層構造を用いることができる。本実施例では、ＷＳｉＸ（膜厚：１００ｎｍ）／ｐｏｌｙ－Ｓｉ（膜厚：５０ｎｍ）の積層構造の高い遮光性を持つ導電性材料により所定の間隔で走査線１０２を形成した。」 「【図３】 」 ２　本願発明１について （１）対比 本願発明１と引用発明とを対比すると、以下のとおりである。 ア　引用発明の「表示領域ＡＡ」、「非表示領域ＮＡ」及び「基板１０１」は、それぞれ本願発明１の「画像が表示される表示領域」、「画像が表示されない非表示領域」及び「基板」に相当する。 イ　前記アを踏まえると、引用発明の「表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡとで定義される基板１０１」は、本願発明１の「画像が表示される表示領域と画像が表示されない非表示領域を含」む「基板」に相当する。 ウ　引用発明の「折り曲がるベンディング領域ＢＡ」は、本願発明１の「曲げることができるベンディング領域」に相当する。 エ　引用発明の「基板１０１」は、「非表示領域ＮＡ」が「リンク領域ＬＫＡ」「を有し、リンク領域ＬＫＡの一部は折り曲がるベンディング領域ＢＡとなる」から、「非表示領域ＮＡ」内に「折り曲がるベンディング領域ＢＡ」を具備することになる。 したがって、引用発明の「非表示領域ＮＡは、パッド領域ＰＤＡと、パッド領域ＰＤＡと表示領域ＡＡとの間に形成されるリンク領域ＬＫＡとを有し、リンク領域ＬＫＡの一部は折り曲がるベンディング領域ＢＡとなる基板１０１」は、前記アないしウを踏まえると、本願発明１の「前記非表示領域内に曲げることができるベンディング領域が具備された基板」に相当する。 オ　引用発明の「複数のリンクＬＫ」は、「リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される」ものである。 ところで、「ゲートラインＧＬ」は、「表示領域ＡＡに形成され」るものであり、「複数のパッドＰＤ」は、「パッド領域ＰＤＡに形成され」るものであり、「リンク領域ＬＫＡ」は、「パッド領域ＰＤＡと表示領域ＡＡとの間に形成される」ものである。 そうすると、引用発明の「複数のリンクＬＫ」は、「リンク領域ＬＫＡ」の「表示領域ＡＡ」側から「パッド領域ＰＤＡ」側までにわたって延びていることになる。 ここで、「リンク領域ＬＫＡの一部は」、「ベンディング領域ＢＡとな」っており、「第１ベンディングホールＢＨ１」は、「ベンディング領域ＢＡ内に形成され、リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４を貫通して、エッチング防止層１０６の一部を露出させる」ものである。 そして、引用発明の「複数のリンクＬＫ」は、「層間絶縁膜１０４上に形成され、各リンクＬＫの一部は、第１ベンディングホールＢＨ１により露出されたエッチング防止層１０６の一部と直接接触する」ものである。 以上のことを総合すると、引用発明の「複数のリンクＬＫ」は、「層間絶縁膜１０４上に形成され」て「リンク領域ＬＫＡ」の「表示領域ＡＡ」側に延びる第１の部分と、「リンク領域ＬＫＡの一部」である「ベンディング領域ＢＡ」で「第１ベンディングホールＢＨ１により露出されたエッチング防止層１０６の一部と直接接触する」第２の部分と、「層間絶縁膜１０４上に形成され」て「リンク領域ＬＫＡ」の「パッド領域ＰＤＡ」側に延びる第３の部分とに分けられることになる（引用文献１の図５参照）。 カ　引用発明の「リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される複数のリンクＬＫ」のうち、前記オで述べた第１の部分と第３の部分と合わせたものは、「非表示領域ＮＡ」が「リンク領域ＬＫＡ」「を有」すること及び前記ア及びイを踏まえると、本願発明１の「前記基板上の非表示領域に配置され、第１リンク配線および第２リンク配線を含むリンク配線」に相当する。 キ　引用発明の「基板１０１上に形成され、かつ、非表示領域ＮＡ内に形成されるエッチング防止層１０６」は、「基板１０１」が「非表示領域ＮＡ」内に「折り曲がるベンディング領域ＢＡ」を具備すること（前記エ）及び「第１ベンディングホールＢＨ１」が「ベンディング領域ＢＡ内に」「エッチング防止層１０６の一部を露出させるように形成され」ることから、「非表示領域ＮＡ」の中でも少なくとも「ベンディング領域ＢＡ」内には形成されることが明らかである。 したがって、引用発明の「基板１０１上に形成され、かつ、非表示領域ＮＡ内に形成されるエッチング防止層１０６」は、本願発明１の「前記基板上のベンディング領域に配置された第１バッファ層」に相当する。 ク　引用発明の「リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される複数のリンクＬＫ」のうち、前記オで述べた第２の部分は、本願発明１の「前記基板上のベンディング領域内で前記第１バッファ層上に配置され、前記ベンディング領域内において、前記リンク配線と接続されているベンディング接続配線」に相当する。 ケ　引用発明の「リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される複数のリンクＬＫ」のうち、前記オで述べた第１の部分、第２の部分及び第３の部分は、「複数のリンクＬＫ」を便宜上３つの部分に分けたものであるから、第１の部分が第２の部分の一端と接続されていること、及び、第２の部分の他端が第３の部分と接続されていること（逆に言えば、、第３の部分が第２の部分の他端と接続されていること）は当然である。 このことは、前記カ及びクを踏まえると、本願発明１の「前記第１リンク配線は、」「前記ベンディング接続配線の一端に接続されて、前記第２リンク配線は、」「前記ベンディング接続配線の他端と接続されて」いることに相当する。 （２）一致点及び相違点 前記（１）の対比の結果をまとめると、本願発明１と引用発明との一致点及び相違点は、以下のとおりである。 ア　一致点 「画像が表示される表示領域と画像が表示されない非表示領域を含み、前記非表示領域内に曲げることができるベンディング領域が具備された基板； 前記基板上の非表示領域に配置され、第１リンク配線および第２リンク配線を含むリンク配線； 前記基板上のベンディング領域に配置された第１バッファ層； 前記基板上のベンディング領域内で前記第１バッファ層上に配置され、前記ベンディング領域内において、前記リンク配線と接続されているベンディング接続配線を含み、 前記第１リンク配線は、前記ベンディング接続配線の一端に接続されて、前記第２リンク配線は、前記ベンディング接続配線の他端と接続されている フレキシブル表示装置。」 イ　相違点 （ア）相違点１ 本願発明１は、「前記基板のベンディング領域内で前記リンク配線と前記ベンディング接続配線との間に配置された第２バッファ層」、「前記ベンディング領域に配置された第１コンタクトホール」及び「前記ベンディング領域に配置された第２コンタクトホール」を含み、「前記第１リンク配線は、前記ベンディング接続配線の一端に接続されて」いることが「前記第１コンタクトホールを通じて」行われており、「前記第２リンク配線は、前記ベンディング接続配線の他端と接続されて」いることが「前記第２コンタクトホールを通じて」行われているのに対し、 引用発明は、「ベンディング領域ＢＡ内に形成され、リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４を貫通して、エッチング防止層１０６の一部を露出させるように形成され」る「第１ベンディングホールＢＨ１」を備え、「リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される複数のリンクＬＫ」の第１の部分と第２の部分との接続及び第２の部分と第３の部分との接続（本願発明１の「前記第１リンク配線は、前記ベンディング接続配線の一端に接続されて」いること及び「前記第２リンク配線は、前記ベンディング接続配線の他端と接続されて」いることに相当する。）がいずれも「第１ベンディングホールＢＨ１」を通じて行われる点。 （イ）相違点２ 本願発明１は、「前記ベンディング領域にベンディングモーメントが加えられたときに生じる引張応力と圧縮応力が相殺され、曲げ面に加えられる力が最小となる中立面が、前記ベンディング接続配線内に位置するように、前記ベンディング領域内に配置される各層の厚さが決定されている」のに対し、 引用発明は、「ベンディング領域ＢＡ」（本願発明１の「ベンディング領域」に相当する。）内に配置される各層（具体的には「基板１０１」、「エッチング防止層１０６」、「複数のリンクＬＫ」の第２の部分及び「保護膜１０５」）の厚さが特定されていない点。 （３）相違点１についての判断 引用発明が相違点１に係る本願発明１の構成を備えるようにするには、少なくとも、「リンク領域ＬＫＡに形成され、複数のパッドＰＤのそれぞれとゲートラインＧＬとを接続し、それぞれの一部がベンディング領域ＢＡ上に配置される複数のリンクＬＫ」の第１の部分と第２の部分との接続及び第２の部分と第３の部分との接続を、いずれも「第１ベンディングホールＢＨ１」を通じて行う代わりに、第１の部分と第２の部分との接続及び第２の部分と第３の部分との接続のうち、一方を「第１コンタクトホール」を通じて、他方を「第２コンタクトホール」を通じて、それぞれ行うようにしなければならない。 引用発明の「第１ベンディングホールＢＨ１」は、「ベンディング領域ＢＡ内に形成され、リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４を貫通して、エッチング防止層１０６の一部を露出させるように形成され」るから、引用文献１の図４及び図５からも見て取れるように、「リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４」は、「ベンディング領域ＢＡ内」の「第１ベンディングホールＢＨ１」の全域にわたって除去され、その結果、「各リンクＬＫの一部は、第１ベンディングホールＢＨ１により露出されたエッチング防止層１０６の一部と直接接触」している。 これに対し、「第１ベンディングホールＢＨ１」に代えて、「第１コンタクトホール」及び「第２コンタクトホール」を形成した場合、「ベンディング領域ＢＡ内」に２つの穴を形成する以上、それら２つの穴（すなわち、「第１コンタクトホール」及び「第２コンタクトホール」）の間の領域では、「バッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４」を除去しないことになる。それらを除去すれば、「第１コンタクトホール」と「第２コンタクトホール」とが合わさって１つの穴になってしまうから、そもそも、「第１コンタクトホール」及び「第２コンタクトホール」を形成することにならないからである。 ところで、引用発明は、「絶縁材料に加えられる曲げ応力によるリンクＬＫの断線不良を防止するには、ベンディング領域ＢＡに配置される絶縁材料を最小化する必要がある」ことから、「ベンディング領域ＢＡに設けられる第１ベンディングホールをさらに備える」ようにしたものである（引用文献の【００４４】、【００４５】）。換言すれば、引用発明は、絶縁材料に加えられる曲げ応力によってリンクＬＫの断線不良が発生するという課題を、ベンディング領域ＢＡに配置される絶縁材料、すなわち、「リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４」を除去するという手段によって解決したものである。 そのような引用発明において、「リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４」を除去しないことになれば、課題を解決することができなくなり、引用発明の意義が失われることは明らかである。したがって、引用発明にそのような変更を加えることには阻害要因があるというべきである。 そして、引用文献２にも引用文献３にも、そのような阻害要因を乗り越えてまで、引用発明において「リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４」を除去しないようにすることは、記載も示唆もされていない。 すなわち、引用文献２に記載された事項（前記１（２）イ（キ））は、「フレキシブル放射ディスプレイデバイス１」を構成する「チップレット２０、封入層４２、ボトム電極１２、発光材料層１４、トップ電極１６及び封入層４４をフレキシブル放射ディスプレイデバイス１の中立応力面又はその近くに配置すると、フレキシブル放射ディスプレイデバイス１が巻かれたときにこれらの要素が受ける応力を大幅に削減し、クラックを低減」でき、「中立応力面の位置は、フレキシブル基板１０、接着層１８、バッファー層４０及びフレキシブルカバー３０の材料及び厚みを選択することによって制御」できることを示唆するものの、これは、引用発明において「リンクＬＫの下部に位置しているバッファー膜１０２、ゲート絶縁膜１０３及び層間絶縁膜１０４」を除去しないようにすることを意味するものではない。 また、引用文献３には、配線に遮光性を持たせることが記載されているにすぎない。 したがって、相違点１に係る本願発明１の構成は、引用発明と引用文献２及び引用文献３に記載された事項とに基づいて当業者が容易に思い付くものであるということはできない。 （４）本願発明１についてのまとめ 前記（３）のとおりであるから、相違点２について検討するまでもなく、本願発明１は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。 ３　本願発明２ないし本願発明１１ 本願発明２ないし本願発明１１は、いずれも本願発明１の構成を全て含むから、少なくとも本願発明１と引用発明との相違点１及び相違点２（前記２（２）イ（ア）及び（イ））で引用発明と相違する。 そして、前記２（３）のとおり、相違点１に係る本願発明１の構成は、引用発明と引用文献２及び引用文献３に記載された事項とに基づいて当業者が容易に思い付くものであるということはできないから、相違点１に係る本願発明２ないし本願発明１１の構成も同様である。 したがって、本願発明２ないし本願発明１１は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。 ４　本願発明１２ないし本願発明１６について 本願発明１２は、「前記ベンディング領域に配置された第１コンタクトホール」及び「前記ベンディング領域に配置された第２コンタクトホール」を備え、さらに、「前記第１リンク配線の前記第２端は、第１コンタクトホールを通じて前記ベンディング接続配線の第１端と接続される」及び「前記第２リンク配線の前記第２端は、第２コンタクトホールを通じて前記ベンディング接続配線の第２端と接続される」という構成を備えており、相違点１に係る本願発明１の構成に対応する構成を備えているといえる。 そして、前記２（３）のとおり、相違点１に係る本願発明１の構成は、引用発明と引用文献２及び引用文献３に記載された事項とに基づいて当業者が容易に思い付くものであるということはできないから、相違点１に係る本願発明１の構成に対応する本願発明１２の構成も同様である。 したがって、本願発明１２は、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。 本願発明１３ないし本願発明１６は、本願発明１２の構成を全て含むから、本願発明１２と同様に、引用文献１ないし引用文献３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。 ５　原査定の判断について 原査定は、第１次補正後の請求項１０及び請求項１９に係る発明について、コンタクトホールの数及び配置は配線の電気的接続を考慮しながら当業者が適宜設定し得る設計事項であると判断した。ここで、第１次補正後の請求項１０に係る発明は、相違点１に係る本願発明１の構成を備える発明であり、第１次補正後の請求項１９に係る発明は、相違点１に係る本願発明１の構成に対応する本願発明１２の構成を備える発明である。 しかし、前記２（３）のとおり、相違点１に係る本願発明１の構成は、引用発明と引用文献２及び引用文献３に記載された事項とに基づいて当業者が容易に思い付くものであるということはできない。そして、請求時補正の結果、本願発明１は、相違点１に係る構成を備えるものとなり、本願発明１２は、相違点１に係る構成に対応する構成を備えるものとなった。 したがって、原査定を維持することはできない。 第７　むすび 以上のとおりであるから、原査定の理由によっては、本願は拒絶をするべきものであるということはできない。 また、他に、本願は拒絶をするべきものであるとする理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。