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特許拒絶査定不服審判

2018-002934

均一膜厚かつ矩形断面を有するパターン膜形成方法、形成装置

審判番号
2018-002934
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2016-510084外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2018年03月01日
審決日
2019年12月10日
公報発行日
2020年02月28日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
審判長/審判官
分類
P18 .121-WYF(B41M) / P18 .537-WYF(B41M)
データ出所
審決公報(SGML)

事件の表示

特願2016-510084「均一膜厚かつ矩形断面を有するパターン膜形成方法、形成装置」拒絶査定不服審判事件〔平成27年10月 1日国際公開、WO2015/146260、請求項の数(4)〕について、次のとおり審決する。

結論

【結 論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

【理 由】 本願は、平成27年1月23日(優先権主張 平成26年3月28日)の出願であって、その請求項1ないし4に係る発明は、令和1年10月31日に提出された手続補正書の特許請求の範囲の請求項1ないし4に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

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2018-002934

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