2017-018092

特願２０１３－　７４９３２「処理システム，および処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年１０月２３日出願公開，特開２０１４－１９９８７８，請求項の数（６）〕について，次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は，特許すべきものとする。

【理　由】 第１　手続の経緯 本願は，平成２５年３月２９日の出願であって，平成２９年３月１３日付け拒絶理由通知に対し，同年５月１５日に意見書が提出されるとともに手続補正がされたが，同年８月３１日付けで拒絶査定（以下，「原査定」という。）がされ，これに対し，同年１２月５日に拒絶査定不服審判の請求がされた。その後，当審からの平成３０年１１月１４日付け拒絶理由通知（以下，当該通知に係る拒絶理由を「当審拒絶理由１」という。）に対し，平成３１年１月２１日に意見書が提出されるとともに手続補正（以下，「本件補正１」という。）がされ，また，同年１月２２日に上申書が提出され，さらに，当審からの同年４月４日付け拒絶理由通知（以下，当該通知に係る拒絶理由を「当審拒絶理由２」という。）に対し，同年４月１５日に意見書が提出されるとともに手続補正（以下，「本件補正２」という。）がされたものである。 第２　原査定の概要 原査定の理由の概要は以下のとおりである。 （進歩性）本願の下記の請求項に係る発明は，その出願前に日本国内又は外国において，頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて，その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照） ・請求項　１ないし６ ・引用文献　１ ＜引用文献等一覧＞ １．特開２００９－７６４９５号公報 第３　本願発明 本願の請求項１ないし６に係る発明（以下，それぞれ「本願発明１」ないし「本願発明６」という。）は，本件補正２で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定される発明であり，本願発明１ないし６は，以下のとおりである。 「【請求項１】 被処理物を処理する第１の処理装置と， 前記被処理物を処理する第２の処理装置と， 前記被処理物を収納する収納部と， 前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，前記収納部と，の間に設けられたロードロック部と， 前記収納部と，前記ロードロック部と，の間に設けられ，前記被処理物の受け渡しを行う第１の受け渡し部と， 前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，前記ロードロック部と，の間に設けられ，前記被処理物の受け渡しを行う第２の受け渡し部と， 前記第１の受け渡し部の制御を行う制御部と， 前記被処理物の処理に関する情報を格納する格納部を備え， 前記被処理物１枚あたりの，前記第２の処理装置におけるトータルシーケンス時間が，前記第１の処理装置におけるトータルシーケンス時間より長い場合において， 前記制御部は， 前記格納部に格納された前記被処理物の処理に関する情報から，前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，を抽出し， 抽出された前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間，および前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第１の処理装置における処理開始時刻，および前記第２の処理装置における処理開始時刻と，から前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，を求めて，前記第１の処理装置における処理，および前記第２の処理装置における処理のどちらが先に終了するのかを判定し， 前記第２の処理装置における処理が先に終了する，または，前記第２の処理装置における処理と，前記第１の処理装置における処理とが同時に終了する場合には，前記第１の受け渡し部を制御して，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を前記ロードロック部に受け渡す処理システム。 【請求項２】 前記制御部はさらに， 前記第１の処理装置における処理が先に終了すると判定された場合には，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，の差から終了時刻差を求め， 前記終了時刻差と，前記格納部に収納された処理レシピから抽出される前記ロードロック部における前記被処理物の受け渡し時間である減圧搬送時間と，の差から搬送可能時間を求め， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）以下の場合には，前記第１の受け渡し部を制御して，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を前記ロードロック部に受け渡し， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）を超える場合には，前記第１の受け渡し部を制御して，前記第１の処理装置において次に処理される前記被処理物を前記ロードロック部に受け渡す請求項１記載の処理システム。 【請求項３】 被処理物を処理する第１の処理装置と， 前記被処理物を処理する第２の処理装置と， 前記被処理物を収納する収納部と， 前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，前記収納部と，の間に設けられたロードロック部と， 前記収納部と，前記ロードロック部と，の間に設けられ，前記被処理物の受け渡しを行う第１の受け渡し部と， 前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，前記ロードロック部と，の間に設けられ，前記被処理物の受け渡しを行う第２の受け渡し部と， 前記第１の受け渡し部の制御を行う制御部と， 前記被処理物の処理に関する情報を格納する格納部を備え， 前記被処理物１枚あたりの，前記第２の処理装置におけるトータルシーケンス時間が，前記第１の処理装置におけるトータルシーケンス時間より長い場合において， 前記制御部は， 前記格納部に格納された前記被処理物の処理に関する情報から，前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，を抽出し， 抽出された前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間，および前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第１の処理装置における処理開始時刻，および前記第２の処理装置における処理開始時刻と，から前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，を求めて，前記第１の処理装置における処理，および前記第２の処理装置における処理のどちらが先に終了するのかを判定し， 前記第１の処理装置における処理が先に終了する場合には，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，の差から終了時刻差を求め， 前記終了時刻差と，前記格納部に収納された処理レシピから抽出される前記ロードロック部における前記被処理物の受け渡し時間である減圧搬送時間と，の差から搬送可能時間を求め， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）以下の場合には，前記第１の受け渡し部を制御して，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を前記ロードロック部に受け渡し， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）を超える場合には，前記第１の受け渡し部を制御して，前記第１の処理装置において次に処理される前記被処理物を前記ロードロック部に受け渡す処理システム。 【請求項４】 第１の処理装置において被処理物を処理する工程と， 第２の処理装置において前記被処理物を処理する工程と， ロードロック部と，前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，の間で前記被処理物の受け渡しを行う工程と， 前記ロードロック部と，前記被処理物を収納する収納部と，の間で前記被処理物の受け渡しを行う工程と， 前記被処理物の処理に関する情報から，前記被処理物１枚あたりの，前記第１の処理装置における処理のトータルシーケンス時間と，前記第２の処理装置における処理のトータルシーケンス時間と，を抽出する工程と， 抽出された前記第１の処理装置における処理のトータルシーケンス時間，および前記第２の処理装置における処理のトータルシーケンス時間と，前記第１の処理装置における処理開始時刻，および前記第２の処理装置における処理開始時刻と，から前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，を求める工程と， を備え， 前記第２の処理装置におけるトータルシーケンス時間が，前記第１の処理装置におけるトータルシーケンス時間より長い場合において， 前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，前記第２の処理装置における処理の終了時刻とから，前記第１の処理装置における処理，および前記第２の処理装置における処理のどちらが先に終了するのかを判定する工程と， を備え， 前記第２の処理装置における処理が先に終了する，または，前記第２の処理装置における処理と，前記第１の処理装置における処理とが同時に終了する場合には，前記被処理物を収納する収納部から，前記ロードロック部に，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を受け渡す処理方法。 【請求項５】 前記判定する工程において， 前記第１の処理装置における処理が先に終了すると判定された場合には，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，の差から終了時刻差を求め， 前記終了時刻差と，処理レシピから抽出される前記ロードロック部における前記被処理物の受け渡し時間である減圧搬送時間と，の差から搬送可能時間を求め， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）以下の場合には，前記被処理物を収納する収納部から，前記ロードロック部に，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を受け渡し， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）を超える場合には，前記被処理物を収納する収納部から，前記ロードロック部に，前記第１の処理装置において次に処理される前記被処理物を受け渡す請求項４記載の処理方法。 【請求項６】 第１の処理装置において被処理物を処理する工程と， 第２の処理装置において前記被処理物を処理する工程と， ロードロック部と，前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，の間で前記被処理物の受け渡しを行う工程と， 前記ロードロック部と，前記被処理物を収納する収納部と，の間で前記被処理物の受け渡しを行う工程と， 前記被処理物の処理に関する情報から，前記被処理物１枚あたりの，前記第１の処理装置における処理のトータルシーケンス時間と，前記第２の処理装置における処理のトータルシーケンス時間と，を抽出する工程と， 抽出された前記第１の処理装置における処理のトータルシーケンス時間，および前記第２の処理装置における処理のトータルシーケンス時間と，前記第１の処理装置における処理開始時刻，および前記第２の処理装置における処理開始時刻と，から前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，を求めて，前記第１の処理装置における処理，および前記第２の処理装置における処理のどちらが先に終了するのかを判定する工程と， を備え， 前記第２の処理装置におけるトータルシーケンス時間が，前記第１の処理装置におけるトータルシーケンス時間より長い場合において， 前記第１の処理装置における処理が先に終了する場合には，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，の差から終了時刻差を求め， 前記終了時刻差と，処理レシピから抽出される前記ロードロック部における前記被処理物の受け渡し時間である減圧搬送時間と，の差から搬送可能時間を求め， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）以下の場合には，前記被処理物を収納する収納部から，前記ロードロック部に，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を受け渡し， 前記搬送可能時間が０（ゼロ）を超える場合には，前記被処理物を収納する収納部から，前記ロードロック部に，前記第１の処理装置において次に処理される前記被処理物を受け渡す処理方法。」 第４　引用文献，引用発明等 １　引用文献１の記載 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開２００９－７６４９５号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている（下線は当審で加筆した。以下，同じ。）。 （１）　「【技術分野】 【０００１】 本発明は，真空処理装置に係り，特に複数の真空処理室を用いて，キャリアカセットに収納された複数種のウエハを処理する真空処理装置に関する。」 （２）　「【発明を実施するための最良の形態】 【００１２】 以下，最良の実施形態を添付図面を参照しながら説明する。図１は，本実施形態にかかる真空処理装置の構成を説明する図である。 【００１３】 本実施形態の真空処理装置は，クリーンルーム等の雰囲気が調節された建屋内に列をなして複数配置されるものであり，いわゆる半導体の製造ラインを構成するものである。 【００１４】 真空処理装置は，減圧状態でウエハ等の試料を処理する真空処理部１００，大気圧状態で真空処理部にウエハを搬送するための大気処理部２０，およびウエハが収納されたキャリアカセットを大気処理部２０に搭載するための該大気処理部２０に対して脱着可能なキャリアカセット搬入出処理部１０を有している。 【００１５】 真空処理部１００は，ウエハを処理するための処理室１０１ないし１０４，真空状態に保たれた真空搬送室２０１，真空搬送室２０１内でウエハを搬送するための真空搬送ロボット２０２，大気処理部２０にあるウエハを真空処理室へ搬送するため大気圧状態と真空状態を切り替えて搬送を行うロードロック室３０１，アンロードロック室３０２を備えている。 【００１６】 大気処理部２０は，大気圧状態に保たれた大気搬送室２１，大気搬送室２１内でウエハを搬送するための大気搬送ロボット２３，ウエハの位置合わせを行うアライメントユニット２２，ウエハを収納していたキャリアカセットとは別に一時的に収納し待機させることができるウエハ収納室２４を備えている。 【００１７】 キャリアカセット搬入出処理部１０は，真空処理装置の前面側に位置して，オペレータあるいはキャリアカセットを搬送するためのキャリアカセット搬送ロボットの稼動エリア４０１と隣接し，搬送されたキャリアカセットを設置または回収を行うためのキャリアカセット供給ポート１１ないし１３を備えている。 【００１８】 真空処理装置は，前記の各処理部を制御する制御コントローラ３０１，および操作入力あるいは装置の状態を表示するためのマンマシン・インターフェイス３０２を備えており，制御コントローラ３０１は前記真空処理部１００，大気処理部２０，キャリアカセット搬入出処理部１０の制御および情報収集を常に行っている。 【００１９】 制御コントローラ３０１は，製造ラインの動作の全体を検出してウエハが収納されたキャリアカセットの搬送を調節する。また，生産管理システム３０３は，真空処理装置に対するキャリアカセットの搬送をコントロールする生産管理システム（ホストコンピュータ）３０３と接続され，制御コントローラ３０１は生産管理システム３０３からの指示および指定された処理条件（キャリアカセットに収納されたそれぞれのウエハに対するレシピ）にしたがってキャリアカセット内のウエハの処理を行う。 【００２０】 大気搬送ロボット２３によりキャリアカセットから取り出したウエハは，アライメントユニット２２を経由してロードロック室３０１へ搬送し，１つの真空搬送ロボット２０２によりロードロック室３１から処理室１０１ないし１０４のいずれかの処理室へ搬送され，その処理室でウエハに処理を施す。処理が完了すると真空搬送ロボット２０２によりアンロードロック室３０２へ搬送し，大気搬送ロボット２３により元のキャリアカセットに戻す。 ・・・ 【００２５】 図２は，大気搬送室２１および大気搬送室２１のキャリアカセット供給ポート１１に複数枚のウエハ２を収納したキャリアカセット１を装着した状態を示す図である。この図の例では，１つのキャリアカセット内に処理条件の異なるウエハ（ロット）が混在している。 すなわち，１つのキャリアカセット１内には，それぞれの処理条件の異なるウエハの一連の群がロットａ，ロットｂ，ロットｃとして格納されている。各ロットを構成する少なくとも１つのウエハは，例えば処理に使用するガス種，機器出力設定値，および処理時間等の処理条件（レシピ）が異なる。また，ウエハを処理する処理室が異なる場合もある。なお，それぞれのロットに属するウエハの構成，膜構造，種類等は同一と見なせる程度に等しくされている。 例えば，ロットａは図１の処理室１０２，ロットｂは図１の処理室１０３，ロットｃは図１の処理室１０４でそれぞれ処理される。 【００２６】 このように，ロット毎に異なる処理室を使用し，更に処理室毎に異なる処理時間で処理を行う場合においても，搬送に際しては，１つの真空搬送ロボットで全てのロットのウエハを搬送することになる。このため，単純に１ロットずつ順（例えばロットａ→ロットｂ→ロットｃの順）に搬送を行うと，後続ロットのウエハの処理室への搬送に待ち時間が発生することがある。 【００２７】 装置の稼働率の面からは，搬送待ち時間は短縮することが望ましい。この搬送待ち時間を短縮するためには，装置の運用に応じた最適な搬送シーケンスを用いなければならない。例えば，複数のロットを連続して１つの処理室で処理する場合と，それぞれのウエハを別々の処理室で平行して処理する場合とでは，それぞれ異なる搬送シーケンスが用いられる。 【００２８】 最適な搬送シーケンスとしては，既に処理が進行中の処理室の処理状態（例えば処理の経過時間）をもとに，次のウエハをキャリアカセットから搬出するタイミングを決定することが望ましく，本実施形態では，次の２つの例を示す。 【００２９】 １つは，各処理室の処理残り時間を常に計測することで最初に終了する処理室を判定し，その処理室を使用するロットのウエハを優先的に搬送するものである。もう１つは，処理時間の長いロットのウエハを優先して搬送することにより，処理時間の短いロットのウエハ交換待ちによる処理時間の長いロットへの影響を少なくするものである。 ・・・ 【００３５】 図４は，処理時間の長いロットのウエハを優先して搬送することにより，処理時間の短いロットのウエハの交換待ちによる処理時間の長いロットへの影響を少なくする例を説明する図である。この例では，ロット間の処理時間が大幅に異なる場合，処理時間の短いロットのウエハ交換待ちによる処理時間の長いロットへの影響を少なくすることができる。 【００３６】 図４（ａ）に示すように，処理室１で処理されるロットａと処理室２で処理されるロットｂがあり，ロットａのウエハの処理室１での処理時間Ｔａが，ロットｂのウエハが処理室２で処理される時間Ｔｂよりも長く，そして１つのロットのみ処理したときのロット全体の処理時間がロットｂよりもロットａの方が長いとする。 【００３７】 処理室２の処理は，処理室１の処理よりも先に終了するが，処理時間の長いロット（ロットａ）のウエハを優先して搬送するため，処理室２で処理する次のウエハが処理室１のウエハ交換のために待ち時間Ｔδが発生する。このため，ロットｂの処理時間はロットｂ単独で処理する場合の処理時間よりもＴδの発生回数に相当する分だけ処理時間が長くなる。 【００３８】 キャリアカセットに収容された全てのウエハの終了時刻は，最後のロットが終了する時刻である。また，図４（ｂ）に示すように同一キャリアカセットにあるロットａのウエハの方がロットｂのウエハ処理時間より長い。このため，この例によれば，ロットａのウエハ交換によるロットｂのウエハの交換待ちが多少発生したとしても，キャリアカセット処理時間を短くすることができる。」 ２　引用発明 上記１によれば，引用文献１には次の発明（以下，「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 「減圧状態でウエハ等の試料を処理する真空処理部１００，大気圧状態で真空処理部にウエハを搬送するための大気処理部２０，およびウエハが収納されたキャリアカセットを大気処理部２０に搭載するための該大気処理部２０に対して脱着可能なキャリアカセット搬入出処理部１０を有する真空処理装置において， 真空処理部１００は，ウエハを処理するための処理室１０１ないし１０４，真空状態に保たれた真空搬送室２０１，真空搬送室２０１内でウエハを搬送するための真空搬送ロボット２０２，大気処理部２０にあるウエハを真空処理室へ搬送するため大気圧状態と真空状態を切り替えて搬送を行うロードロック室３０１，アンロードロック室３０２を備え， 大気処理部２０は，大気圧状態に保たれた大気搬送室２１，大気搬送室２１内でウエハを搬送するための大気搬送ロボット２３を備え， キャリアカセット搬入出処理部１０は，真空処理装置の前面側に位置して，オペレータあるいはキャリアカセットを搬送するためのキャリアカセット搬送ロボットの稼動エリア４０１と隣接し，搬送されたキャリアカセットを設置または回収を行うためのキャリアカセット供給ポート１１ないし１３を備えるものであって， 真空処理装置は，前記の各処理部を制御する制御コントローラ３０１を備えており，制御コントローラ３０１は前記真空処理部１００，大気処理部２０，キャリアカセット搬入出処理部１０の制御および情報収集を常に行っており， 制御コントローラ３０１は，製造ラインの動作の全体を検出してウエハが収納されたキャリアカセットの搬送を調節するものであって，生産管理システム３０３は，真空処理装置に対するキャリアカセットの搬送をコントロールする生産管理システム（ホストコンピュータ）３０３と接続され，制御コントローラ３０１は生産管理システム３０３からの指示および指定された処理条件（キャリアカセットに収納されたそれぞれのウエハに対するレシピ）にしたがってキャリアカセット内のウエハの処理を行うものであり， 大気搬送ロボット２３によりキャリアカセットから取り出したウエハは，ロードロック室３０１へ搬送し，１つの真空搬送ロボット２０２によりロードロック室３１から処理室１０１ないし１０４のいずれかの処理室へ搬送され，その処理室でウエハに処理を施し，処理が完了すると真空搬送ロボット２０２によりアンロードロック室３０２へ搬送し，大気搬送ロボット２３により元のキャリアカセットに戻すものであり， ロットａは処理室１０２，ロットｂは処理室１０３でそれぞれ処理され， 処理室１（処理室１０２）で処理されるロットａと処理室２（処理室１０３）で処理されるロットｂがあり，ロットａのウエハの処理室１（処理室１０２）での処理時間Ｔａが，ロットｂのウエハが処理室２（処理室１０３）で処理される時間Ｔｂよりも長く，そして１つのロットのみ処理したときのロット全体の処理時間がロットｂよりもロットａの方が長いとき，処理室２（処理室１０３）の処理は，処理室１（処理室１０２）の処理よりも先に終了するが，処理時間の長いロット（ロットａ）のウエハを優先して搬送するため，処理室２（処理室１０３）で処理する次のウエハが処理室１（処理室１０２）のウエハ交換のために待ち時間Ｔδが発生する， 真空処理装置。」 第５　対比及び判断 １　本願発明１について （１）　対比 本願発明１と引用発明とを対比すると，次のことがいえる。 ア　引用発明の「ウエハ」，「処理室２（処理室１０３）」，「処理室１（処理室１０２）」，「キャリアカセット」，「ロードロック室３０１，アンロードロック室３０２」，「大気搬送ロボット２３」，「真空搬送ロボット２０２」及び「制御コントローラ３０１」は，それぞれ，本願発明１の「被処理物」，「第１の処理装置」，「第２の処理装置」，「収納部」，「ロードロック部」，「第１の受け渡し部」，「第２の受け渡し部」及び「制御部」に相当する。 イ　本願発明１の「格納部」は，「被処理物の処理に関する情報」を格納しており，当該情報から「前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，を抽出」するものであるところ，引用発明の「真空処理装置」においても，「ロットａのウエハの処理室１（処理室１０２）での処理時間Ｔａ」及び「ロットｂのウエハが処理室２（処理室１０３）で処理される時間Ｔｂ」が格納されていることは明らかであるから，引用発明も「被処理物の処理に関する情報を格納する格納部」を備えているということができる。 そうすると，本願発明１と引用発明との間には，次の一致点，相違点があるといえる。 （一致点） 「被処理物を処理する第１の処理装置と， 前記被処理物を処理する第２の処理装置と， 前記被処理物を収納する収納部と， 前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，前記収納部と，の間に設けられたロードロック部と， 前記収納部と，前記ロードロック部と，の間に設けられ，前記被処理物の受け渡しを行う第１の受け渡し部と， 前記第１の処理装置および前記第２の処理装置と，前記ロードロック部と，の間に設けられ，前記被処理物の受け渡しを行う第２の受け渡し部と， 前記第１の受け渡し部の制御を行う制御部と， 前記被処理物の処理に関する情報を格納する格納部を備える， 処理システム。」 （相違点） 本願発明１は，「前記被処理物１枚あたりの，前記第２の処理装置におけるトータルシーケンス時間が，前記第１の処理装置におけるトータルシーケンス時間より長い場合」において，「前記制御部は，　前記格納部に格納された前記被処理物の処理に関する情報から，前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，を抽出し，　抽出された前記第１の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間，および前記第２の処理装置における処理の前記トータルシーケンス時間と，前記第１の処理装置における処理開始時刻，および前記第２の処理装置における処理開始時刻と，から前記第１の処理装置における処理の終了時刻と，前記第２の処理装置における処理の終了時刻と，を求めて，前記第１の処理装置における処理，および前記第２の処理装置における処理のどちらが先に終了するのかを判定し，　前記第２の処理装置における処理が先に終了する，または，前記第２の処理装置における処理と，前記第１の処理装置における処理とが同時に終了する場合には，前記第１の受け渡し部を制御して，前記第２の処理装置において次に処理される前記被処理物を前記ロードロック部に受け渡す」のに対し，引用発明は，「処理室１（処理室１０２）で処理されるロットａと処理室２（処理室１０３）で処理されるロットｂがあり，ロットａのウエハの処理室１（処理室１０２）での処理時間Ｔａが，ロットｂのウエハが処理室２（処理室１０３）で処理される時間Ｔｂよりも長く，そして１つのロットのみ処理したときのロット全体の処理時間がロットｂよりもロットａの方が長いとき」，「処理室２（処理室１０３）の処理は，処理室１（処理室１０２）の処理よりも先に終了するが，処理時間の長いロット（ロットａ）のウエハを優先して搬送するため，処理室２（処理室１０３）で処理する次のウエハが処理室１（処理室１０２）のウエハ交換のために待ち時間Ｔδが発生する」点。 （２）　相違点についての判断 上記相違点について検討するに，引用発明の「処理室１（処理室１０２）で処理されるロットａと処理室２（処理室１０３）で処理されるロットｂがあり，ロットａのウエハの処理室１（処理室１０２）での処理時間Ｔａが，ロットｂのウエハが処理室２（処理室１０３）で処理される時間Ｔｂよりも長く，そして１つのロットのみ処理したときのロット全体の処理時間がロットｂよりもロットａの方が長いとき」は，本願発明１の「前記被処理物１枚あたりの，前記第２の処理装置におけるトータルシーケンス時間が，前記第１の処理装置におけるトータルシーケンス時間より長い場合」に相当するところ，引用発明では，「第２の処理装置」（処理室１（処理室１０２））のウエハ交換が常に優先されているから，「第１の処理装置」（処理室２（処理室１０３））における「トータルシーケンス時間」（処理時間Ｔｂ）を抽出する必要はないし，「第１の処理装置における処理の終了時刻」及び「第２の処理装置における処理の終了時刻」に基づいて，「第１の処理装置における処理」と「第２の処理装置における処理」のどちらが先に終了するのかを判定することもない。そして，引用文献１の記載をみても，上記抽出や判定を行うことは記載も示唆もされておらず，周知技術であるということもできない。 これに対し，本願発明１は，上記相違点に係る構成を採用することにより，「処理システム」において，「生産効率の向上を図ることができる」（本願明細書【０００６】）という格別の有利な効果を奏するものである。 （３）　まとめ したがって，本願発明１は，当業者であっても引用発明に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 ２　本願発明２ないし６について 本願発明２ないし６も，本願発明１と同様の「抽出」や「判定」を行う構成を備えるものであるから，上記１と同じ理由により，当業者であっても，引用発明に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。 第６　原査定について 本件補正２で補正された本願発明１ないし６は，上記第５のとおり，当業者であっても，拒絶査定において引用された引用文献１に記載された発明に基づいて，容易に発明できたものとはいえない。したがって，原査定の理由を維持することはできない。 第７　当審拒絶理由について １　当審拒絶理由１の概要 （１）　特許請求の範囲の請求項１ないし６の記載において，各種の「時間」には，「時刻」の概念を持つものが混在していると解されるから，発明を明確に理解することができず，本願は，特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 （２）　特許請求の範囲の請求項１及び４の記載は，「第１の処理装置」又は「第２の処理装置」のいずれの処理が先に終了するのか特定されていないし，いずれの処理装置に受け渡すのかも特定されていないため，発明の課題を解決するための手段が反映されておらず，発明の詳細な説明に記載した範囲を超えて特許を請求することになるから，本願は，特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。 （３）　発明の詳細な説明において，処理時間の短い処理装置５０ａ（第１の処理装置）が先に終了する場合の制御について，何故，発明の課題を解決することができるのか，不明であるから，本願は，特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。 ２　当審拒絶理由２の概要 特許請求の範囲の請求項４ないし６の記載は，明確でないから，本願は，特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 ３　判断 上記当審拒絶理由１に対する本件補正１及び上記当審拒絶理由２に対する本件補正２により，上記当審拒絶理由１及び当審拒絶理由２はいずれも解消した。 第８　むすび 以上のとおり，原査定の理由によっては，本願を拒絶することはできない。 また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって，結論のとおり審決する。