2017-014317

特願２０１３－２００５９９「感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いた、レジスト膜、パターン形成方法、レジスト塗布マスクブランクス、フォトマスクの製造方法、及び電子デバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年　４月１３日出願公開、特開２０１５－　６８８６０、請求項の数（２１）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 本願は、平成２５年９月２６日の出願であって、その請求項１～２１に係る発明は、平成３０年８月２４日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１～２１に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。