2015-018310

特願２０１２－２１７５６４「パターン形成方法，半導体製造用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物，及び電子デバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年４月２１日出願公開，特開２０１４－７１３０４，請求項の数（２２）〕について，次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は，特許すべきものとする。

【理　由】 本願は，平成２４年９月２８日の出願であって，その請求項１～２２に係る発明は，特許請求の範囲の請求項１～２２に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして，本願については，原査定の拒絶の理由，及び当合議体の拒絶の理由を検討しても，その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって，結論のとおり審決する。