特許拒絶査定不服審判
2015-013685
高純度エルビウム、高純度エルビウムスパッタリングターゲット、高純度エルビウムメタルゲート膜及び高純度エルビウムの製造方法
- 審判番号
- 2015-013685
- 法域
- 特許
- 審判種別
- 拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
- 出願番号
- 特願2014-043811外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
- 請求日
- 2015年07月21日
- 審決日
- 2017年05月30日
- 公報発行日
- 2017年09月29日
- 結論
- 請求不成立
- 分類
- P18 .536-WZF(C22B) / P18 .537-WZF(C22B)
- データ出所
- 審決公報(SGML)
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特願2014- 43811「高純度エルビウム、高純度エルビウムスパッタリングターゲット、高純度エルビウムメタルゲート膜及び高純度エルビウムの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成26年 9月25日出願公開、特開2014-177698〕について、次のとおり審決する。
結論
【結 論】
本件審判の請求は、成り立たない。
理由
【理 由】
本願は、平成26年 3月 6日(遡及出願平成22年 1月13日)の出願であって、その請求項1~5に係る発明は、平成27年 7月21日の手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項1~5に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
これに対して、平成29年 1月20日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。
そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
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